玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機械手的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機械手，該機械手包括基板叉、移動組件、真空吸盤以及散熱組件，其中，基板叉用于叉取玻璃基板，移動組件與基板叉連接，用于使得基板叉在工作空間內移動，真空吸盤設于基板叉上，用于吸取玻璃基板，散熱組件設于基板叉、移動組件或真空吸盤的側邊，用于在真空吸盤受熱且非吸持玻璃基板時移動至真空吸盤上方，以對真空吸盤進行散熱。本發(fā)明提供的玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機械手及時對真空吸盤進行降溫，避免因真空吸盤過熱影響產(chǎn)品質量，提升了產(chǎn)品良率。
【專利說明】玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機械手

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器制造【技術領域】，具體涉及一種機械手，還涉及一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)。

【背景技術】
[0002]LCD產(chǎn)線皆會配置機械手，機械手經(jīng)常需要在高溫爐與其它制程機臺之間往返作業(yè)，機械手很容易在高溫爐作業(yè)中受熱導致溫度上升，若此時立即去其他制程機臺作業(yè)，很可能會因機械手過熱的高溫而影響產(chǎn)品質量，導致玻璃基板亮度不均勻，造成各種痕跡的現(xiàn)象。
[0003]請參閱圖1，圖1是機械手位于高溫爐內的工作示意圖。
[0004]其中，高溫爐310內部溫較高，機械手100伸入高溫爐310作業(yè)時，隨時間的延長溫度逐漸升高。
[0005]請一并參閱圖2和圖3，圖2是機械手搬運玻璃基板的工作示意圖，圖3是圖2所示的機械手的側面結構示意圖。
[0006]在多數(shù)情況下，機械手100從高溫爐310中退出后，通常是尚未降溫就進行玻璃基板200的搬運工作，此時，機械手100上的真空吸盤130會將高溫傳給玻璃基板200，導致玻璃基板200上產(chǎn)生壞點，影響產(chǎn)品質量。


【發(fā)明內容】

[0007]本發(fā)明提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機械手，能夠解決現(xiàn)有技術中機械手會導致玻璃基板上產(chǎn)生壞點，影響產(chǎn)品質量的問題。
[0008]為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的一個技術方案是提供一種機械手，包括:
[0009]基板叉，用于叉取玻璃基板；
[0010]移動組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內移動；
[0011]真空吸盤，設于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板；
[0012]散熱組件，設于所述基板叉、所述移動組件或所述真空吸盤的側邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述玻璃基板時移動至所述真空吸盤上方，以對所述真空吸盤進行散熱。
[0013]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例，所述散熱組件包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，所述氣體噴嘴用于向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0014]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例，所述氣體噴嘴為一個，所述一個氣體噴嘴移動至所述真空吸盤的中間上方并向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體；或者
[0015]所述氣體噴嘴為多個，所述多個氣體噴嘴移動至圍繞所述真空吸盤并向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0016]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例，所述真空吸盤為一圈結構或同心設置的多圈結構。
[0017]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實施例，所述真空吸盤設有流體回路，所述流體回路內裝有冷卻流體，所述流體回路設于所述圈結構的內部，或者所述流體回路設于所述圈結構之間。
[0018]為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的另一個技術方案是提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)，包括:
[0019]高溫爐及其他制程機臺；
[0020]基板叉，用于叉取玻璃基板；
[0021]移動組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內移動；
[0022]真空吸盤，設于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板；
[0023]散熱組件，設于所述高溫爐、所述其他制程機臺、所述基板叉、所述移動組件或所述真空吸盤的側邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述玻璃基板時移動至所述真空吸盤上方，以對所述真空吸盤進行散熱。
[0024]本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術的情況，本發(fā)明提供的玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機械手及時對真空吸盤進行降溫，避免因真空吸盤過熱影響產(chǎn)品質量，提升了產(chǎn)品良率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖，其中:
[0026]圖1是機械手位于高溫爐內的工作示意圖；
[0027]圖2是機械手搬運玻璃基板的工作示意圖；
[0028]圖3是圖2所示的機械手的側面結構示意圖；
[0029]圖4是本發(fā)明一優(yōu)選實施例的機械手的簡化結構示意圖；
[0030]圖5是圖4所示的機械手的一種工作狀態(tài)示意圖；
[0031]圖6是圖4所示的機械手的另一種工作狀態(tài)示意圖；
[0032]圖7是圖4所示的機械手的局部放大圖；
[0033]圖8是本發(fā)明另一優(yōu)選實施例的機械手的簡化結構示意圖；
[0034]圖9是本發(fā)明另一優(yōu)選實施例的機械手的簡化結構示意圖。

【具體實施方式】
[0035]下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0036]請一并參閱圖4，圖4是本發(fā)明一優(yōu)選實施例的機械手的簡化結構示意圖。
[0037]本發(fā)明提供的機械手100包括基板叉110、移動組件120、真空吸盤130以及散熱組件150。
[0038]其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移動組件120與基板叉110連接，用于使得基板叉110在工作空間內移動，真空吸盤130設于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200，散熱組件150設于基板叉110、移動組件120或真空吸盤130的側邊，用于在真空吸盤130受熱且非吸持玻璃基板200時移動至真空吸盤130上方，以對真空吸盤130進行散熱。
[0039]其中，散熱組件150包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，氣體噴嘴用于向真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0040]在一種實施例中，氣體噴嘴可為一個，一個氣體噴嘴移動至真空吸盤130的中間上方并向真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0041]在另一種實施例中，氣體噴嘴可為多個，多個氣體噴嘴移動至圍繞真空吸盤130并向真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0042]請一并參閱圖5和圖6，圖5和圖6示出了機械手的兩種工作狀態(tài)示意圖。
[0043]一般情況下，散熱組件150位于機械手100的側邊，當機械手100從高溫爐310中退出且處于非吸持玻璃基板200狀態(tài)時，散熱組件150從機械手100的側邊移至真空吸盤130的上方，對真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0044]請一并參閱圖7，圖7是圖4所示的機械手的局部放大圖。
[0045]機械手100上設有多個真空吸盤130，每一真空吸盤130可為一圈結構，或者，每一真空吸盤130可為同心設置的多圈結構。圖7中示出了真空吸盤130呈兩圈結構的情況。
[0046]進一步地，該真空吸盤130設有流體回路140，流體回路140內裝有冷卻流體，流體回路140設于真空吸盤130圈結構的內部，或者流體回路140設于真空吸盤130圈結構之間，以時實對真空吸盤130進行散熱。
[0047]請同時參閱圖1、圖4-圖6，本發(fā)明還提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)300，該玻璃基板傳遞系統(tǒng)300包括高溫爐310及其他制程機臺(圖未示)以及上述的機械手100。機械手100的具體結構參照上文，此處不再重復贅述。
[0048]其中，散熱組件150可設于高溫爐310、其他制程機臺、基板叉110、移動組件120或真空吸盤130的側邊，用于在真空吸盤130受熱且非吸持玻璃基板200時移動至真空吸盤130上方，以對真空吸盤130進行散熱。
[0049]請一并參閱圖8，圖8是本發(fā)明另一優(yōu)選實施例的機械手的簡化結構示意圖。
[0050]在本實施例中，機械手100包括基板叉110、移動組件120、真空吸盤130。
[0051 ] 其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移動組件120與基板叉110連接，用于使得基板叉110在工作空間內移動，真空吸盤130設于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200，該真空吸盤130設有流體回路140，流體回路140內裝有冷卻流體，以時實對真空吸盤130進行散熱。
[0052]本實施例中，流體回路140設于真空吸盤130圈結構的內部，即流體回路140貫通基板叉110和真空吸盤130的圈結構的內部，以時實對真空吸盤130進行散熱。
[0053]請一并參閱圖9，圖9是本發(fā)明另一優(yōu)選實施例的機械手的簡化結構示意圖。
[0054]在本實施例中，機械手100包括基板叉110、移動組件120、真空吸盤130。
[0055]其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移動組件120與基板叉110連接，用于使得基板叉110在工作空間內移動，真空吸盤130設于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200。該真空吸盤130設有流體回路140，流體回路140內裝有冷卻流體，以時實對真空吸盤130進行散熱。
[0056]本實施例中，流體回路140設于真空吸盤130圈結構之間，即流體回路140貫通基板叉I1和真空吸盤130的兩個圈結構之間，對兩側的圈結構進行散熱以時實對真空吸盤130進行散熱。
[0057]請同時參閱圖1、8、9，本發(fā)明還提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)300，該玻璃基板傳遞系統(tǒng)300包括高溫爐310及其他制程機臺(圖未示)以及圖8或圖9所述的真空吸盤130。真空吸盤130的具體結構參照上文，此處不再重復贅述。
[0058]綜上所述，本領域技術人員容易理解，本發(fā)明提供的玻璃基板傳遞系統(tǒng)300及其機械手100及時對真空吸盤130進行降溫，避免因真空吸盤130過熱影響產(chǎn)品質量，提升了產(chǎn)品良率。
[0059]以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的【技術領域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。
【權利要求】
1.一種機械手，其特征在于，包括: 基板叉，用于叉取玻璃基板； 移動組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內移動； 真空吸盤，設于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板； 散熱組件，設于所述基板叉、所述移動組件或所述真空吸盤的側邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述玻璃基板時移動至所述真空吸盤上方，以對所述真空吸盤進行散熱。
2.根據(jù)權利要求1所述的機械手，其特征在于，所述散熱組件包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，所述氣體噴嘴用于向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
3.根據(jù)權利要求2所述的機械手，其特征在于，所述氣體噴嘴為一個，所述一個氣體噴嘴移動至所述真空吸盤的中間上方并向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體；或者 所述氣體噴嘴為多個，所述多個氣體噴嘴移動至圍繞所述真空吸盤并向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
4.根據(jù)權利要求1所述的機械手，其特征在于，所述真空吸盤為一圈結構或同心設置的多圈結構。
5.根據(jù)權利要求4所述的機械手，其特征在于，所述真空吸盤設有流體回路，所述流體回路內裝有冷卻流體，所述流體回路設于所述圈結構的內部，或者所述流體回路設于所述圈結構之間。
6.—種玻璃基板傳遞系統(tǒng),其特征在于,包括: 高溫爐及其他制程機臺； 基板叉，用于叉取玻璃基板； 移動組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內移動； 真空吸盤，設于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板； 散熱組件，設于所述高溫爐、所述其他制程機臺、所述基板叉、所述移動組件或所述真空吸盤的側邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述玻璃基板時移動至所述真空吸盤上方，以對所述真空吸盤進行散熱。
7.根據(jù)權利要求6所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述散熱組件包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，所述氣體噴嘴用于向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
8.根據(jù)權利要求7所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體噴嘴為一個，所述一個氣體噴嘴移動至所述真空吸盤的中間上方向并所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體；或者 所述氣體噴嘴為多個，所述多個氣體噴嘴移動至圍繞所述真空吸盤并向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
9.根據(jù)權利要求6所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述真空吸盤為一圈結構或同心設置的多圈結構。
10.根據(jù)權利要求9所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述真空吸盤設有流體回路，所述流體回路內裝有冷卻流體，所述流體回路設于所述圈結構的內部，或者所述流體回路設于所述圈結構之間。
【文檔編號】B65G49/06GK104210844SQ201410459837
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年9月10日 優(yōu)先權日:2014年9月10日
【發(fā)明者】孫世英 申請人:深圳市華星光電技術有限公司