專利名稱：處理液供給機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種處理液供給機(jī)構(gòu)，該處理液供給機(jī)構(gòu)使用于儲存有抗蝕劑等處理液并利用加壓用氣體壓送該處理液的容器主體。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體器件的制造工序的光刻工序中，向基板例如半導(dǎo)體晶圓(以下稱為晶圓)供給抗蝕劑等各種各樣的處理液。如圖15所示，在儲存有抗蝕劑110的儲液瓶101上，設(shè)置有能夠相對于該儲液瓶 101自由裝卸的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)102?？刮g劑供給機(jī)構(gòu)102具有堵在儲液瓶101的開口部 103的瓶蓋104，經(jīng)由設(shè)置在瓶蓋104上的加壓氣體供給管105，將加壓氣體例如氮?dú)?N2) 供給至儲液瓶101內(nèi)。從而，抗蝕劑110流入到下端浸在液面下的處理液供給管106內(nèi)，被向晶圓壓送?？刮g劑被消耗變少時(shí)，更換儲液瓶101。瓶蓋104的下部設(shè)置有固定處理液供給管106的高度位置的鎖定機(jī)構(gòu)107。鎖定機(jī)構(gòu)107是例如外周形成有螺紋的環(huán)構(gòu)件，旋入瓶蓋104，從而瓶蓋104的內(nèi)周與處理液供給管106之間的摩擦增大，處理液供給管106固定于瓶蓋104。但是，有時(shí)抗蝕劑110較昂貴，最好在儲液瓶101內(nèi)的抗蝕劑110全部用光之后再更換儲液瓶101，因此要求處理液供給管106的高度位置能夠調(diào)整，使得處理液供給管106 的下端接觸儲液瓶101的底面。所以按以下的工序，將瓶蓋104安裝到儲液瓶101。首先，在解除鎖定機(jī)構(gòu)107的鎖定的狀態(tài)下，將抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)102安裝至儲液瓶 101，調(diào)整處理液供給管106的高度位置，摸索處理液供給管106的下端接觸儲液瓶101底部的位置。接著，以使處理液供給管106和瓶蓋104之間的相互位置不會偏離的方式將瓶蓋104從儲液瓶101取下，通過鎖定機(jī)構(gòu)107將處理液供給管106鎖定于瓶蓋104。鎖定之后，再次將瓶蓋104安裝于儲液瓶101。但是，從摸索到了處理液供給管106的高度位置后至鎖定為止，是否能夠準(zhǔn)確地保持處理液供給管106和瓶蓋104的位置關(guān)系，受到進(jìn)行更換工作的操作人員的經(jīng)驗(yàn)、技能的影響。并且，在儲液瓶101所放置的清潔室(clean room)內(nèi)的氣氛中，為了防止抗蝕劑 110變質(zhì)，儲液瓶101由遮光性構(gòu)件構(gòu)成。因此，從儲液瓶101的外側(cè)無法目視確認(rèn)處理液供給管106的下端在儲液瓶101內(nèi)的位置。從而，即使操作人員遵照上述操作順序鎖定了處理液供給管106，實(shí)際上也會有處理液供給管106的下端從儲液瓶101的底面浮起，浮起部分的抗蝕劑就殘留在儲液瓶101內(nèi)的情況。另外，雖然根據(jù)處理液的種類，儲液瓶101也可以由明亮度較高的材料構(gòu)成，但是由于處理液具有遮光性，所以也有無法從儲液瓶101的外側(cè)確認(rèn)處理液供給管106的下端的位置的情況。在這種情況時(shí)，也會發(fā)生處理液供給管106的下端從儲液瓶101的底面浮起的現(xiàn)象。在圖15的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)102中，鎖定機(jī)構(gòu)107從瓶蓋104的下側(cè)進(jìn)行鎖定，但有時(shí)也構(gòu)成為從瓶蓋104的上側(cè)進(jìn)行鎖定。在該情況下可以保持著將瓶蓋104安裝在容器主體101的狀態(tài)地進(jìn)行鎖定，但是處理液供給管106的位置會隨著鎖定機(jī)構(gòu)107的擰入向下方側(cè)偏離，處理液供給管106的下端有可能彎曲。因此，操作人員需要將處理液供給管106 向上提起后鎖定，向上提起的量為由于擰入而向下方側(cè)偏離的量。關(guān)于這個(gè)向上提起的量， 也會因操作人員的經(jīng)驗(yàn)、技能而產(chǎn)生差異，有時(shí)造成處理液殘留。 并且儲液瓶101的形狀多種多樣，有時(shí)在每次更換儲液瓶101時(shí)必須如上所述那樣進(jìn)行處理液供給管106的位置調(diào)整，花費(fèi)時(shí)間和人力。在專利文獻(xiàn)1中，針對上述處理液供給機(jī)構(gòu)的一個(gè)例子進(jìn)行了說明，但是關(guān)于上述問題并沒有記載，并不能解決該問題。另外，在專利文獻(xiàn)2中，針對操作盤蓋的構(gòu)成進(jìn)行了說明，這種操作盤蓋用于汽油罐，與本發(fā)明的相關(guān)性很低，并不能解決上述的問題。
專利文獻(xiàn)1 日本特開2008-6325公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開昭60-251047公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是基于上述情況而做出的，其目的在于提供一種能夠防止處理液殘留在容器主體的處理液供給機(jī)構(gòu)。本發(fā)明的處理液供給機(jī)構(gòu)，該處理液供給機(jī)構(gòu)用于利用加壓用氣體壓送被儲存于由容器主體和堵在此容器主體的上面開口部的蓋部構(gòu)成的容器內(nèi)部的處理液，其特征在于，其包括固定筒部，其自上述蓋部向容器主體的上方突出，在其周面上形成有螺紋；移動筒部，其與上述固定筒部同軸地螺合(螺紋連接)設(shè)置于該固定筒部的內(nèi)側(cè)或外側(cè)；處理液供給管，其以相對于由上述固定筒部和移動筒部構(gòu)成的筒部沿軸線方向移動自如地貫通該筒部和上述蓋部的同時(shí)，相對于移動筒部而軸線方向的位置被固定；旋轉(zhuǎn)操作部，其具有與上述移動筒部同軸設(shè)置的環(huán)狀部；卡合部及被卡合部，它們分別設(shè)置在上述移動筒部及上述環(huán)狀部，在旋轉(zhuǎn)上述旋轉(zhuǎn)操作部時(shí)，卡合部及被卡合部相互卡合而移動筒部旋轉(zhuǎn)，當(dāng)施加于移動筒部的轉(zhuǎn)矩變大時(shí)卡合被解除，使旋轉(zhuǎn)操作部旋轉(zhuǎn)而使處理液供給管的下端抵接于容器主體的底部時(shí)，卡合部和被卡合部的卡合被解除，旋轉(zhuǎn)操作部空轉(zhuǎn)。替代容器具有遮光性，處理液具有遮光性的情況也包含在權(quán)利范圍之內(nèi)。并且作為本發(fā)明的具體形態(tài)可以例舉以下內(nèi)容。(a)固定筒部位于移動筒部的內(nèi)側(cè)。(b)上述環(huán)狀部以包圍移動筒部的方式設(shè)置于該移動筒部的外側(cè)。(c)在上述處理液供給管上設(shè)置有與處理液流路相區(qū)分的上述加壓用氣體的供給路徑。依據(jù)本發(fā)明，在移動筒部及環(huán)狀部分分別設(shè)置卡合部和被卡合部，從而在使旋轉(zhuǎn)操作部旋轉(zhuǎn)時(shí)，處理液供給管的軸向位置被固定的移動筒部旋轉(zhuǎn)，施加于移動筒部的轉(zhuǎn)矩變大時(shí)，卡合被解除。因此，即使容器具有遮光性，也可以使處理液供給部的下端接觸容器主體的底部，能夠抑制該容器主體的液體殘留。


圖1是本發(fā)明的實(shí)施方式的包含抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的加壓式抗蝕劑供給容器的立體圖。
圖2是上述加壓式抗蝕劑供給容器的縱剖側(cè)視圖。圖3是構(gòu)成上述加壓式抗蝕劑供給容器的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的縱剖側(cè)視圖。圖4是上述抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的立體圖。圖5是上述抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的分解圖。圖6是構(gòu)成抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的上部側(cè)蓋的橫剖俯視圖。圖7是表示上述上部側(cè)蓋旋轉(zhuǎn)情況的說明圖。圖8是能夠適用加壓式抗蝕劑供給容器的抗蝕劑涂覆裝置的概略圖。圖9是表示將抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)安裝至儲液瓶的順序的工序圖。圖10是表示將抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)安裝至儲液瓶的順序的工序圖。圖11是其它的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的立體圖。圖12是其它的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的縱剖側(cè)視圖。圖13是其它的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的橫剖俯視14是其它的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的概略縱剖側(cè)視圖。圖15是以往抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)的縱剖側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式參照圖1的立體圖及圖2的縱剖側(cè)視圖，說明作為本發(fā)明的實(shí)施方式的具有抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1的加壓式抗蝕劑供給容器2。加壓式抗蝕劑供給容器2由抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1 和作為容器主體的儲液瓶21構(gòu)成，抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1相對于儲液瓶21能夠自由裝卸地構(gòu)成。抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1具有作為處理液供給管的抗蝕劑供給管3和瓶蓋5。儲液瓶21 中儲存有作為處理液的抗蝕劑20。抗蝕劑供給管3將上述抗蝕劑20從儲液瓶21供給至外部的晶圓。瓶蓋5具有調(diào)整高度位置以使抗蝕劑供給管3的下端接觸儲液瓶21的底部并且將抗蝕劑供給管3固定于該高度位置的作用。對儲液瓶21進(jìn)行說明。在儲液瓶21的上側(cè)設(shè)有開口部22。與開口部22相連的抗蝕劑的儲存空間23的上側(cè)朝著該開口部22變窄地構(gòu)成。包圍開口部22的儲液瓶21的側(cè)壁豎立，在其外周M上形成有螺紋。儲液瓶21的底面25的中央部凸起，抗蝕劑20由于重力流向底面25的周緣部。儲液瓶21為了防止抗蝕劑20的變質(zhì)而構(gòu)成為遮光性容器。在此，所述儲液瓶21具有遮光性是指在儲液瓶21所置的氣氛中能遮住從儲液瓶 21內(nèi)的抗蝕劑供給管3所反射的光。即，可以說在上述氣氛中從儲液瓶21的外側(cè)看不到抗蝕劑供給管3。儲液瓶21以使抗蝕劑供給管3鉛垂的方式設(shè)置于上述清潔室內(nèi)的規(guī)定位置?？刮g劑供給管3的上側(cè)彎曲，從側(cè)面看呈倒L字狀地形成。從抗蝕劑供給管3的一端向另一端地設(shè)置有抗蝕劑的流路31，如圖2的點(diǎn)劃線框內(nèi)所示，抗蝕劑供給管3的下端側(cè)的側(cè)壁32以與上述儲液瓶21的底面25的形狀相對應(yīng)地向內(nèi)方傾斜的方式形成。由此， 抗蝕劑供給管3的下端的開口部33更加接近底面25，能夠更加可靠地抑制抗蝕劑20殘留在儲液瓶21內(nèi)?？刮g劑供給管3的上部側(cè)的外徑比下部側(cè)的外徑更大，該上部側(cè)構(gòu)成為擴(kuò)徑部 34。以下也參照圖3的擴(kuò)徑部34的縱剖側(cè)視圖繼續(xù)說明。作為加壓用氣體的N2氣體的流路35與抗蝕劑流路31平行地從上方向下方地形成于擴(kuò)徑部34，開口于擴(kuò)徑部34的下端。 抗蝕劑流路31和隊(duì)氣體流路35相互區(qū)分開。 在擴(kuò)徑部34，沿著周向上下隔開間隔地形成有槽36、36，在這些槽36、36中均埋有 0型密封圈37。另外，在槽36的上側(cè)，上下隔開間隔地形成有凸緣38、39。如圖4所示，在凸緣38、39的上側(cè)設(shè)置有用于連接隊(duì)氣體供給配管41的供給件42。隊(duì)氣體供給配管41 的上游側(cè)連接于后述的隊(duì)氣體的供給源19，由此供給源所供給的隊(duì)氣體經(jīng)由供給件42供給至隊(duì)氣體流路35，自隊(duì)氣體流路35供給至開口部22，儲液瓶21內(nèi)被加壓。抗蝕劑供給管3的上游端還構(gòu)成為連接配管43的連接件44。儲液瓶21內(nèi)被N2 氣體加壓時(shí)，抗蝕劑20經(jīng)由抗蝕劑流路31流入配管43，供給至泵，由該泵控制向下游側(cè)的供給量，供給至晶圓W。在該例子中，抗蝕劑供給管3構(gòu)成為隊(duì)供給配管41及配管43從相同的高度向相同的方向被拉出，所以將配管41，43結(jié)成束來提高這些配管41，43的強(qiáng)度，從而能夠防止配管41，43的折曲。抗蝕劑供給管3構(gòu)成為具有如后所述那樣調(diào)整高度位置時(shí)抗蝕劑供給管3即使抵接儲液瓶21的底部25也不會彎曲的壁厚。作為其材質(zhì)，例如由PTFE (聚四氟乙烯)、PFA(四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯基醚共聚物)等構(gòu)成。接著，參照作為瓶蓋5的分解圖的圖5說明瓶蓋5。瓶蓋5由下側(cè)蓋51和上側(cè)蓋 71構(gòu)成。上側(cè)蓋71構(gòu)成為相對于抗蝕劑供給管3其高度位置被固定，相對于下側(cè)蓋51能夠自由改變其高度位置。因此，改變了上側(cè)蓋71相對于下側(cè)蓋51的高度位置時(shí)，抗蝕劑供給管3的相對于下側(cè)蓋51的高度位置也隨之變化。下側(cè)蓋51由作為堵在儲液瓶21的開口部22的蓋的蓋主體部52、上側(cè)環(huán)61、下側(cè)環(huán)62構(gòu)成，上側(cè)環(huán)61及下側(cè)環(huán)62具有將蓋主體部52相對于儲液瓶21固定的作用。蓋主體部52具有沿著上下方向開口的圓筒狀的內(nèi)筒部53。作為固定筒部的內(nèi)筒部53的下方側(cè)向內(nèi)外方擴(kuò)展，構(gòu)成外徑比內(nèi)筒部53的外徑更大且內(nèi)徑比內(nèi)筒部53的內(nèi)徑更小的環(huán)狀支承部54。內(nèi)筒部53的內(nèi)周面55包圍抗蝕劑供給管3的擴(kuò)徑部34，在調(diào)節(jié)抗蝕劑供給管3 的高度時(shí)，將擴(kuò)徑部34沿著內(nèi)筒部53的軸向引導(dǎo)。由此，抗蝕劑供給管3的下端抵接于儲液瓶21的底面25的周緣。上述內(nèi)周面55與擴(kuò)徑部34之間被上述0型密封圈37、37密封。 抗蝕劑供給管3能夠繞內(nèi)筒部53的軸線旋轉(zhuǎn)自如地構(gòu)成。在內(nèi)筒部53的外周56形成有螺紋。密封構(gòu)件58設(shè)置于支承部M的下方。密封構(gòu)件58形成為環(huán)狀，與儲液瓶21接觸的位置的壁較厚。瓶蓋5被安裝于儲液瓶21時(shí)，支承部M的下表面夾著密封構(gòu)件58貼緊到儲液瓶21的上緣，支承部M和儲液瓶21之間被密封，儲液瓶21內(nèi)被保持為氣密狀態(tài)。 作為密封構(gòu)件58，例如能夠使用0型密封圈、密封墊片及襯墊等。上側(cè)環(huán)61的內(nèi)緣及下側(cè)環(huán)62的內(nèi)緣從上下方向夾持密封構(gòu)件58的外緣及支承部M的外緣地設(shè)置，其被止動件63相互地固定。在下側(cè)環(huán)62的內(nèi)周64上形成有螺紋。上述螺紋與形成于儲液瓶21的開口部22的外周M的螺紋相螺合，瓶蓋5固定于儲液瓶21。但是儲液瓶21的容積是各種各樣的，例如有3. 79L、0. 95L、1L。依據(jù)該儲液瓶21 的容積的不同，儲液瓶21的開口部22的大小也各異，上側(cè)環(huán)61及下側(cè)環(huán)62也與開口部22 的大小相對應(yīng)地適當(dāng)設(shè)計(jì)。并且根據(jù)上述容積的不同，從儲液瓶21的開口部22到底面25的高度也各種各樣，抗蝕劑供給管3與上述高度相對應(yīng)地適當(dāng)設(shè)計(jì)。例如蓋主體部52及上側(cè)蓋71則不取決于儲液瓶21的容積，它們是共用部件。上側(cè)蓋71由作為旋轉(zhuǎn)操作部的操作盤72、外筒部73構(gòu)成。操作盤72是包圍抗蝕劑供給管3的扁平的環(huán)狀構(gòu)件，與內(nèi)筒部53同軸地設(shè)置。操作盤72的上側(cè)的內(nèi)緣咬入抗蝕劑供給管3的凸緣38、39之間。并且，操作盤72的外緣向下方彎曲，構(gòu)成環(huán)狀的側(cè)壁部 74。圖6是圖5的A-A向視剖面圖。在側(cè)壁部74的內(nèi)周側(cè)形成有向操作盤72的中央部側(cè)伸出的具有彈性的臂75，在各臂75的頂端設(shè)置有朝向操作盤72的中心的爪部76。在操作盤72的圓周方向的爪部76的一側(cè)及另一側(cè)分別形成了卡合面77、78。另外，在圖中只記載了 4條臂75，關(guān)于臂的條數(shù)不局限于4條，例如也可以是8條。作為移動筒部的外筒部73與內(nèi)筒部53同軸地設(shè)置，圓筒部81、82上下連接地形成。圓筒部81的外徑形成得小于圓筒部82的外徑。圓筒部81被操作盤72的側(cè)壁部74 包圍，圓筒部81的上緣向內(nèi)側(cè)突出，進(jìn)入凸緣38、39之間。這樣，凸緣38、39夾持圓筒部81 的上緣及操作盤72的內(nèi)緣，從而抗蝕劑供給管3的高度相對于上側(cè)蓋71的高度被固定。齒部83在圓筒部81的外周在周向隔出適當(dāng)?shù)拈g隔地向該圓筒部81的外方凸出，齒部83在周向的一側(cè)、在周向的另一側(cè)分別具有卡合面84、85。在圓筒部82的內(nèi)周86上形成有螺紋，該螺紋與內(nèi)筒部53的外周56的螺紋相螺合。并且，通過外筒部73繞軸線旋轉(zhuǎn)，外筒部73相對于蓋主體部52在軸向上前進(jìn)后退，由此，抗蝕劑供給管3的高度位置沿著該抗蝕劑供給管3的長度方向發(fā)生變化。在此，說明瓶蓋5的動作。在抗蝕劑供給管3的下端從儲液瓶21的底面25浮起的狀態(tài)下，俯視觀察例如將操作盤72順時(shí)針旋轉(zhuǎn)時(shí)，如圖7的(a)所示，爪部76的卡合面 77與齒部的卡合面84相互卡合，外筒部73與操作盤72的旋轉(zhuǎn)相對應(yīng)地也順時(shí)針旋轉(zhuǎn)。由此，上側(cè)蓋71相對于下側(cè)蓋51沿著抗蝕劑供給管3的長度方向向下方移動。如上所述，由于上側(cè)蓋71的位置相對于抗蝕劑供給管3的高度方向被固定，所以當(dāng)上側(cè)蓋71相對于下側(cè)蓋51向下方移動時(shí)，則抗蝕劑供給管3也相對于下側(cè)蓋51向下方移動。并且，抗蝕劑供給管3的下端接觸儲液瓶21的底面25時(shí)，則為了旋轉(zhuǎn)外筒部73 所需要的轉(zhuǎn)矩變大，如圖7的(b)所示，臂75的頂端側(cè)向外方彎曲，爪部76觸及齒部83，卡合面77和卡合面84之間的卡合被解除。操作盤72繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，爪部76越過齒部83時(shí)，臂 75在其回復(fù)力的作用下恢復(fù)到原來的形狀。操作盤72進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)，爪部76再次抵接于齒部83時(shí)，同樣地臂75彎曲，爪部76觸及齒部83。這樣爪部76與齒部83的卡合被解除，操作盤72空轉(zhuǎn)，外筒部73不再旋轉(zhuǎn)。由此， 抗蝕劑供給管3的下端被固定成其接觸儲液瓶21的底面25的狀態(tài)。像這樣，瓶蓋5構(gòu)成為在外筒部73的轉(zhuǎn)矩增大至大于規(guī)定值時(shí)使該外筒部73的旋轉(zhuǎn)停止的、所謂的帶有轉(zhuǎn)矩限制器的蓋。另外，俯視觀察逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)操作盤72時(shí)，如圖7的(c)所示，爪部76的卡合面78 和齒部83的卡合面85相互卡合，外筒部73與操作盤72的旋轉(zhuǎn)相對應(yīng)地也逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)。 由此上側(cè)蓋71相對于下側(cè)蓋51上升，抗蝕劑供給管3也相對于下側(cè)蓋51上升。這些爪部 76和齒部83如上所述那樣形成，以便使抗蝕劑供給管3上升時(shí)，爪部76和齒部83之間的卡合不會解除。圖8說明了應(yīng)用此前說明的加壓式抗蝕劑供給容器2的抗蝕劑涂覆裝置12的結(jié)構(gòu)。在配管43的下游設(shè)置有抗蝕劑供給噴嘴13。另外，在配管43上設(shè)置有具有質(zhì)量流量控制器等的流量控制部14，控制抗蝕劑20的流量。圖中的附圖標(biāo)記15是旋轉(zhuǎn)夾頭，其用于水平地保持晶圓W的背面?zhèn)戎醒氲耐瑫r(shí)，使晶圓W繞鉛垂軸線旋轉(zhuǎn)，將供給的抗蝕劑旋涂。 在旋轉(zhuǎn)夾頭15的周圍設(shè)置有抑制抗蝕劑飛散的杯狀件16。在杯狀件16上設(shè)置有排液口 17和排氣口 18。設(shè)置于隊(duì)氣體供給配管43的閥Vl打開時(shí)，N2氣體自隊(duì)氣體供給源19供給至儲液瓶21，儲液瓶21內(nèi)被加壓。于是，抗蝕劑20流入抗蝕劑供給管3的抗蝕劑流路31，抗蝕劑20從抗蝕劑供給噴嘴13噴出至晶圓W的中心部。噴出的抗蝕劑20在離心力的作用下向晶圓W的周緣部伸展，而使抗蝕劑20涂覆于晶圓W的整個(gè)表面。下面針對使用者在清潔室內(nèi)將抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1安裝于儲液瓶21、并調(diào)整抗蝕劑供給管3的位置的操作順序進(jìn)行說明。首先，調(diào)整上側(cè)蓋71使其相對于下側(cè)蓋51位于稍靠上方的位置。準(zhǔn)備儲存有抗蝕劑20的儲液瓶21，使抗蝕劑供給管3從該儲液瓶21的開口部22進(jìn)入儲液瓶21內(nèi)(圖9的(a))。使開口部22的外周M的螺紋與下側(cè)環(huán)62的內(nèi)周64的螺紋螺合，將抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1固定于儲液瓶21，對儲液瓶21內(nèi)進(jìn)行密閉(圖9的 (b))。這時(shí)，抗蝕劑供給管3的下端從儲液瓶21的底面25浮起。接著，為了降低抗蝕劑供給管3的高度，使用者按照已述的方式旋轉(zhuǎn)操作盤72。如圖7的(a)所示，外筒部73也向與操作盤72的旋轉(zhuǎn)方向相同的方向旋轉(zhuǎn)，上側(cè)蓋71的高度位置下降，與之相應(yīng)地抗蝕劑供給管3的高度位置也下降(圖10的(a))?？刮g劑供給管 3的下端接觸儲液瓶21的底部時(shí)，如圖7的(b)所示，操作盤72空轉(zhuǎn)，抗蝕劑供給管3的下降停止(圖10的(b))。這樣，如果操作盤72變?yōu)榭辙D(zhuǎn)，使用者就停止旋轉(zhuǎn)操作盤72。并且為使抗蝕劑供給管3鉛垂，將儲液瓶21設(shè)置于清潔室內(nèi)的規(guī)定的放置位置。更換儲液瓶21時(shí)，以與將抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1安裝于儲液瓶21時(shí)相反的動作將抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1取下。接著，向與降低抗蝕劑供給管3的高度時(shí)相反的方向旋轉(zhuǎn)操作盤72。 如圖7的(c)所示，外筒部73也向與操作盤72的旋轉(zhuǎn)方向相同的方向旋轉(zhuǎn)，上側(cè)蓋71相對于下側(cè)蓋51的高度位置上升。其后，準(zhǔn)備新的裝有抗蝕劑20的儲液瓶21，再次用所述的方式安裝抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1。采用這樣的抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1，為了降低抗蝕劑供給管3的高度而旋轉(zhuǎn)操作盤72 時(shí)，抗蝕劑供給管3的下端接觸儲液瓶21的底面25，高度相對于抗蝕劑供給管3被固定的外筒部73的轉(zhuǎn)矩變大時(shí)，設(shè)置于操作盤72的爪部76和設(shè)置于外筒部73的齒部83之間的卡合被解除，操作盤72空轉(zhuǎn)。因此，即使不能夠從儲液瓶21的外部目視抗蝕劑供給管3的下端的高度位置，也不管使用者的技巧和經(jīng)驗(yàn)如何，就能夠在抗蝕劑供給管3的下端接觸儲液瓶21的底面25的狀態(tài)下將其固定。結(jié)果，能夠抑制儲液瓶21中的抗蝕劑的殘留液量， 避免增加處理成本。并且，在抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1中，抗蝕劑供給管3的高度調(diào)整和其相對于瓶蓋5的固定均可通過旋轉(zhuǎn)操作盤72這一項(xiàng)操作來完成。因此，正如背景技術(shù)的內(nèi)容中所記載的那樣，與調(diào)整完抗蝕劑供給管3的位置之后再固定抗蝕劑供給管3的位置相比，能夠減少使用者的操作工序數(shù)，因此能夠減輕使用者的負(fù)擔(dān)，能夠縮短操作時(shí)間。另外，由于N2氣體流路35形成于抗蝕劑供給管3，這同與抗蝕劑供給管3分開地設(shè)置下游端進(jìn)入儲液瓶21內(nèi)的N2氣體供給管這種結(jié)構(gòu)相比，能夠減少抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1的接頭。由此可以簡化抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1的結(jié)構(gòu)的同時(shí)，能夠更可靠地防止儲液瓶21內(nèi)處理液、氣體的泄漏。在上述例子中，作為處理液使用了抗蝕劑20，也可以將例如稀釋劑或HMDS(六甲基二硅胺烷)等其它液體作為處理液。例如，可以在抗蝕劑20之前先供給稀釋劑至晶圓以改善抗蝕劑在晶圓W上的浸潤擴(kuò)展。HMDS能夠使晶圓表面疏水化來提高抗蝕劑0的密合性。另外，在放置有儲液瓶21的氣氛中，即使不是由于儲液瓶21遮光，而是由于處理液遮光而造成處理液供給管3的下端不可見時(shí)，本發(fā)明也可以有效地如上所述那樣使處理液供給管3的下端接觸底面25而將處理液供給管3的下端的高度位置固定。對于抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1的變形例即抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)9，下面參照作為其立體圖的圖11及其縱剖側(cè)視圖的圖12以其與抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1的不同點(diǎn)為中心進(jìn)行說明。對其與抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)1相同的部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記，省略說明。該抗蝕劑供給管3上未形成有隊(duì)氣體流路35。在下側(cè)蓋51的支承部M的上側(cè)設(shè)置有凸起部92，自凸起部92的上端向支承部M的下端設(shè)置有隊(duì)氣體的流路93。流路93的下端開口于儲液瓶21的開口部22，圖中附圖標(biāo)記5 是與流路93相對應(yīng)地形成于密封構(gòu)件58的開口部。在凸起部92上設(shè)有N2氣體供給件42。即使這樣構(gòu)成 N2氣體的流路93，與將向儲液瓶21內(nèi)供給隊(duì)氣體的N2氣體供給管另外設(shè)置于下側(cè)蓋51的情況相比，能夠減少抗蝕劑供給機(jī)構(gòu)9的接頭。另外，用于使操作盤72和圓筒部81相卡合的構(gòu)造不限于上述例子。在圖13的例子中，在圓筒部81的外周設(shè)有作為被卡合部的凹部94。另外，從操作盤72的內(nèi)周向其中心設(shè)有由彈簧95施力的作為卡合部的卡合片96。在抗蝕劑供給管3從儲液瓶21浮起的狀態(tài)下，降低該抗蝕劑供給管3的高度位置時(shí)，如圖所示，卡合片96與凹部94相卡合，從而圓筒部81與操作盤72 —同旋轉(zhuǎn)。當(dāng)抗蝕劑供給管3的下端接觸儲液瓶21的下端時(shí)，卡合片 96從凹部94出來，上述卡合被解除。上述例子中，上側(cè)蓋71作為與抗蝕劑供給管3 —同移動的移動筒部，上側(cè)蓋71位于作為固定于儲液瓶21的固定筒部的下側(cè)蓋51的外側(cè)。但是上側(cè)蓋71也可以位于下側(cè)蓋51的內(nèi)側(cè)。SP，上側(cè)蓋71的圓筒部82位于下側(cè)蓋51的內(nèi)筒部53的內(nèi)側(cè)，為使圓筒部 82的外周和上述內(nèi)筒部53的內(nèi)周相互地螺合，也可以形成有螺紋。另外，操作盤72也不限于位于外筒部73的外側(cè)。圖14是表示操作盤72與外筒部73之間位置關(guān)系的概要圖。操作盤72的內(nèi)緣側(cè)向下方突出，構(gòu)成了進(jìn)入外筒部73的內(nèi)側(cè)的環(huán)狀的突出部97。例如，在突出部97的外周面上設(shè)置有齒部83，在外筒部73的內(nèi)周面上設(shè)置有爪部76及臂75。并且，與上述的例子相同，旋轉(zhuǎn)操作盤72而外筒部73的轉(zhuǎn)矩變大時(shí)，爪部76與齒部83的卡合被解除。并且，在上述例子中，外筒部73的轉(zhuǎn)矩變大時(shí)，臂75變形，爪部76與齒部83的卡合被解除，但替代設(shè)有這樣的臂75，爪部76或齒部83也可以具有彈性地構(gòu)成，在上述轉(zhuǎn)矩變大時(shí)，通過該爪部76或齒部83變形來解除卡合。
權(quán)利要求
1.一種處理液供給機(jī)構(gòu)，該處理液供給機(jī)構(gòu)用于供給儲存于由容器主體和堵在該容器主體的上面開口部的蓋部構(gòu)成的容器的內(nèi)部的處理液，其特征在于，其包括固定筒部，其自上述蓋部向容器主體的上方突出，在其周面上形成有螺紋； 移動筒部，其與該固定筒部同軸地螺合設(shè)置于該固定筒部的內(nèi)側(cè)或外側(cè)； 處理液供給管，其相對于由上述固定筒部和移動筒部構(gòu)成的筒部沿軸向移動自如地貫通該筒部和上述蓋部的同時(shí)，軸向的位置相對于移動筒部被固定； 旋轉(zhuǎn)操作部，其具有與上述移動筒部同軸設(shè)置的環(huán)狀部；卡合部及被卡合部，它們分別設(shè)置在上述移動筒部及上述環(huán)狀部，在旋轉(zhuǎn)上述旋轉(zhuǎn)操作部時(shí)，該卡合部及該被卡合部相互卡合而移動筒部旋轉(zhuǎn)，并且，當(dāng)施加于移動筒部的轉(zhuǎn)矩變大時(shí)，卡合被解除，使旋轉(zhuǎn)操作部旋轉(zhuǎn)而處理液供給管的下端抵接于容器主體的底部時(shí)，卡合部和被卡合部的卡合被解除，旋轉(zhuǎn)操作部空轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，容器具有遮光性。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，并非容器具有遮光性，而是處理液具有遮光性。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，固定筒部位于移動筒部的內(nèi)側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，上述環(huán)狀部包圍移動筒部地設(shè)置于該移動筒部的外側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，通過加壓用氣體壓送處理液。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，在上述處理液供給管上設(shè)置有與處理液的流路相區(qū)分的上述加壓用氣體的供給路徑。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，固定筒部位于移動筒部的內(nèi)側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理液供給機(jī)構(gòu)，其特征在于，上述環(huán)狀部包圍移動筒部地設(shè)置于該移動筒部的外側(cè)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠防止處理液殘留在容器主體的處理液供給機(jī)構(gòu)。該處理液供給機(jī)構(gòu)包括固定筒部，自蓋部向容器主體的上方突出，在其周面上形成有螺紋；移動筒部，與該固定筒部同軸地螺合設(shè)置于該固定筒部的內(nèi)側(cè)或外側(cè)；處理液供給管，相對于由固定筒部和移動筒部構(gòu)成的筒部沿軸向移動自如地貫通該筒部和上述蓋部的同時(shí)，軸向的位置相對于移動筒部被固定；旋轉(zhuǎn)操作部，具有與移動筒部同軸設(shè)置的環(huán)狀部。在上述移動筒部及上述環(huán)狀部分別設(shè)置有卡合部及被卡合部，在旋轉(zhuǎn)上述旋轉(zhuǎn)操作部時(shí)，卡合部及被卡合部相互卡合而移動筒部旋轉(zhuǎn)，當(dāng)施加于移動筒部的轉(zhuǎn)矩變大時(shí)，卡合被解除。由此使處理液供給管的下端抵接于容器主體的底部而被固定。
文檔編號B65D83/16GK102233989SQ20111007973
公開日2011年11月9日 申請日期2011年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月28日
發(fā)明者中島常長, 白石俊介, 竹尾俊英 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社