一種電磁屏蔽膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電磁屏蔽膜的制作方法，包括：將耐高溫柔性薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂2μm～5um厚的黑膠后，使用烤箱將耐高溫柔性薄膜表干；對表干的耐高溫柔性薄膜在真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；對鍍有金屬屏蔽層涂的一側(cè)涂5μm～8μm厚用于吸收電磁波的導(dǎo)電膠層；導(dǎo)電膠為重量比為50～80的PU膠或環(huán)氧膠、5～10的導(dǎo)電粉、20～50的磁粉和溶劑的混合物。所述電磁屏蔽膜的制作方法，可連續(xù)高效的生產(chǎn)10μm～50μm厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ～10GHZ之間實(shí)現(xiàn)超過60db以上的屏蔽效果，工藝穩(wěn)定、操作簡單。
【專利說明】
一種電磁屏蔽膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及電子通訊技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種電磁屏蔽膜的制作方法?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]市場上出現(xiàn)的一些電磁屏蔽材料單純的從金屬屏蔽方面出發(fā)，能有效解決10MHZ 到1GHZ之間的信號(hào)屏蔽問題，然而，到了 1GHZ頻率以上的電磁波信號(hào)，其屏蔽效果很難取得超過60db以上的屏蔽效果，這樣就限制了產(chǎn)品應(yīng)用范圍。如何開發(fā)出一款在1GHZ以上的高頻信號(hào)屏蔽超薄材料對手機(jī)等產(chǎn)品的超薄化，小型化應(yīng)用顯得尤為迫切。
[0003]目前行業(yè)內(nèi)在解決高頻信號(hào)段范圍內(nèi)的屏蔽手段都不是很成熟，市場上日本廠家提供的電磁膜產(chǎn)品在10MHZ到1GHZ范圍內(nèi)可以取得良好的屏蔽效果，國內(nèi)的一些電磁膜廠家提供的產(chǎn)品在1GHZ以上能取得一些比較滿意的效果，但穩(wěn)定性很差，經(jīng)受不住惡劣環(huán)境條件的反復(fù)沖擊而很容易失效。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種電磁屏蔽膜的制作方法，能有效解決10MHZ到10GHZ之間的信號(hào)屏蔽問題，使用過程中穩(wěn)定可靠，工藝穩(wěn)定、操作簡單。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種電磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0006]將耐高溫柔性薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂2M1?5um厚的黑膠后，使用烤箱將所述耐高溫柔性薄膜表干；
[0007]對表干的所述耐高溫柔性薄膜在真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；
[0008]對鍍有所述金屬屏蔽層涂的一側(cè)涂5mi?8mi厚用于吸收電磁波的導(dǎo)電膠層；
[0009]其中，所述導(dǎo)電膠為重量比為50?80的PU膠或環(huán)氧膠、5?10的導(dǎo)電粉、20?50的磁粉和溶劑的混合物。
[0010]其中，所述導(dǎo)電膠為重量比為50的PU膠或環(huán)氧膠、5的導(dǎo)電粉、30的磁粉和溶劑的混合物。
[0011]其中，所述使用烤箱將所述耐高溫柔性薄膜表干，包括:
[0012]使用所述烤箱在l〇〇°C?200°C溫度下將所述耐高溫柔性薄膜表干。[0〇13]其中，所述耐高溫柔性薄膜為pps薄膜，或pi膜，或采用復(fù)合機(jī)將所述pps薄膜和80 ym厚具有粘性的保護(hù)膜復(fù)合的復(fù)合薄膜，或采用復(fù)合機(jī)將所述pi薄膜和80ym厚具有粘性的保護(hù)膜復(fù)合的復(fù)合薄膜。
[0014] 其中，所述耐高溫柔性薄膜的厚度為lOym?50ym，寬度為200mm?1000mm。[0〇15] 其中，所述黑膠的粘度為lOOOcps?5000cps。[〇〇16] 其中，所述黑膠為重量比為50?90的PU膠或環(huán)氧膠、1?3的固化劑和100的溶劑配置成的黑膠，或重量比為70的EP0N58006膠水、1.2的固化劑和100的溶劑配置成的黑膠。 [〇〇17]其中，還包括:在所述導(dǎo)電膠層上覆蓋PP保護(hù)膜或pet保護(hù)膜。[〇〇18]其中，還包括:對覆蓋有所述PP保護(hù)膜或pet保護(hù)膜的耐高溫柔性薄膜進(jìn)行檢驗(yàn)后裁切。
[0019]本發(fā)明實(shí)施例所提供的電磁屏蔽膜的制作方法，與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0020]本發(fā)明實(shí)施例提供的電磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0021]將耐高溫柔性薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂2M1?5um厚的黑膠后，使用烤箱將所述耐高溫柔性薄膜表干；
[0022]對表干的所述耐高溫柔性薄膜在真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；
[0023]對鍍有所述金屬屏蔽層涂的一側(cè)涂5wii?8wii厚用于吸收電磁波的導(dǎo)電膠層；[〇〇24]在所述導(dǎo)電膠層上覆蓋PP保護(hù)膜或pet保護(hù)膜；[〇〇25]其中，所述導(dǎo)電膠為重量比為50?80的PU膠或環(huán)氧膠、5?10的導(dǎo)電粉、20?50的磁粉和溶劑的混合物。
[0026]采用所述電磁屏蔽膜的制作方法，可以連續(xù)高效的生產(chǎn)lOwii?50mi厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ?10GHZ之間均能實(shí)現(xiàn)超過60db以上的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的應(yīng)用范圍和附加值，穩(wěn)定性可靠，工藝穩(wěn)定、操作簡單。【附圖說明】
[0027]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0028]圖1為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的電磁屏蔽膜的制作方法一種【具體實(shí)施方式】的步驟流程示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0029]正如【背景技術(shù)】部分所述，目前行業(yè)內(nèi)在解決高頻信號(hào)段范圍內(nèi)的屏蔽手段都不是很成熟，市場上日本廠家提供的電磁膜產(chǎn)品在10MHZ到1GHZ范圍內(nèi)可以取得良好的屏蔽效果，國內(nèi)的一些電磁膜廠家提供的產(chǎn)品在1GHZ以上能取得一些比較滿意的效果，但穩(wěn)定性很差，經(jīng)受不住惡劣環(huán)境條件的反復(fù)沖擊而很容易失效。
[0030]基于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種電磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0031]將耐高溫柔性薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂2M1?5um厚的黑膠后，使用烤箱將所述耐高溫柔性薄膜表干；
[0032]對表干的所述耐高溫柔性薄膜在真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；
[0033]對鍍有所述金屬屏蔽層涂的一側(cè)涂5wii?8wii厚用于吸收電磁波的導(dǎo)電膠層；[〇〇34] 所述導(dǎo)電膠為重量比為50?80的PU膠或環(huán)氧膠、5?10的導(dǎo)電粉、20?50的磁粉和溶劑的混合物。
[0035]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的電磁屏蔽膜的制作方法，可以連續(xù)高效的生產(chǎn)10y m?50wii厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ?10GHZ之間均能實(shí)現(xiàn)超過60db以上的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的應(yīng)用范圍和附加值，穩(wěn)定性可靠，工藝穩(wěn)定、操作簡單。[〇〇36]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)的說明。
[0037]在以下描述中闡述了具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以多種不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣。因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施的限制。
[0038]請參考圖1，圖1為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的電磁屏蔽膜的制作方法一種【具體實(shí)施方式】的步驟流程示意圖。
[0039]在一種【具體實(shí)施方式】中，所述電磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0040]步驟1，將耐高溫柔性薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂2mi?5um厚的黑膠后，使用烤箱將所述耐高溫柔性薄膜表干；
[0041]步驟2,對表干的所述耐高溫柔性薄膜在真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；
[0042]步驟3,對鍍有所述金屬屏蔽層涂的一側(cè)涂5wii?8wii厚用于吸收電磁波的導(dǎo)電膠層；[〇〇43] 所述導(dǎo)電膠為重量比為50?80的PU膠或環(huán)氧膠、5?10的導(dǎo)電粉、20?50的磁粉和溶劑的混合物。[〇〇44]電磁屏蔽膜的制作方法，可以連續(xù)高效的生產(chǎn)1 〇Mi?50mi厚的超薄屏蔽膜，在 10MHZ?10GHZ之間均能實(shí)現(xiàn)較好的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的應(yīng)用范圍和附加值，穩(wěn)定性可靠，工藝穩(wěn)定、操作簡單。
[0045]為獲得高質(zhì)量的電磁屏蔽膜，一般使用所述烤箱在100°C?200°C溫度下將所述耐高溫柔性薄膜表干。這里的表干是指是表面干燥，制作一選這個(gè)溫度范圍，是因?yàn)榭鞠涞臏囟冗^低時(shí)，表干需要的時(shí)間較長，使得制造產(chǎn)品的周期變得很長，變相增加了許多成本，而溫度過高，有可能影響產(chǎn)品的穩(wěn)定性，對于烤箱以及烤箱的烘烤溫度，本發(fā)明不做具體限定。[〇〇46]耐高溫柔性薄膜一般為pps薄膜或pi膜，而為擴(kuò)大電磁屏蔽膜的使用范圍，適應(yīng)更加惡劣的環(huán)境，一般會(huì)將原料薄膜與保護(hù)膜采用復(fù)合機(jī)復(fù)合起來，即所述耐高溫柔性薄膜更多為采用復(fù)合機(jī)將所述pps薄膜和80wii厚具有粘性的保護(hù)膜復(fù)合的復(fù)合薄膜或pps薄膜和pi膜和SOwii厚具有粘性的保護(hù)膜復(fù)合的復(fù)合薄膜。需要說明的是，本發(fā)明對耐高溫柔性薄膜以及復(fù)合機(jī)不做具體限定。
[0047]一般所述耐高溫柔性薄膜的厚度為lOym?50WI1，寬度為200mm?1000mm。
[0048]對于黑膠的要求一般是粘度為lOOOcps?5000cps。
[0049]具體的，黑膠一般是用聚氨酯或環(huán)氧膠配置而成，黑膠配置一般為重量比為50? 90的PU膠或環(huán)氧膠、1?3的固化劑和100的溶劑配置成的黑膠，或重量比為70的EP0N58006 膠水、1.2的固化劑和100的溶劑配置成的黑膠。
[0050]而本發(fā)明中導(dǎo)電膠的作用是實(shí)現(xiàn)對電磁波的吸收，從而提高屏蔽性能。
[0051]由于電磁屏蔽膜是通過導(dǎo)電膠層來屏蔽電磁波的，如果裸漏在外，很容易被損壞， 進(jìn)而造成電磁屏蔽性能下降，降低電磁屏蔽莫得使用壽命，因此一般電磁屏蔽膜的制作方法還包括:在所述導(dǎo)電膠層上覆蓋PP保護(hù)膜或pet保護(hù)膜。[〇〇52]制作成的電磁屏蔽膜一般比實(shí)際設(shè)備使用的電磁屏蔽膜的尺寸較大，而且對于產(chǎn)品對電磁波的屏蔽效果位置，需要進(jìn)行簡單，因此電磁屏蔽膜的制作方法還包括:對覆蓋有所述PP保護(hù)膜或pet保護(hù)膜的耐高溫柔性薄膜進(jìn)行檢驗(yàn)后裁切。
[0053] —般所述電磁屏蔽膜的制造步驟如下:
[0054]11)原料準(zhǔn)備:[〇〇55]111)耐高溫膜:準(zhǔn)備厚度為10M1?50wii的pps薄膜或其它耐高溫且具有一定強(qiáng)度的柔性薄膜材料，幅寬為200mm?1000mm之間，要求表面干凈，整潔，放卷時(shí)張力均勾一致。 [〇〇56]112)黑膠:用聚氨酯或環(huán)氧膠配成粘度在lOOOcps?5000cps之間的黑色膠水待用。[0〇57]12)原料膜涂黑膠:將準(zhǔn)備好的pps薄膜或耐高溫薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂上一層2mi?5mi厚的黑膠，經(jīng)過能提供100°C到200°C之間的烤箱將溶劑表干后，收卷好。[〇〇58]13)在真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；[0059 ]14)涂一層具有吸收電磁波功能的導(dǎo)電膠層；[0〇6〇]15)覆蓋上一層pp或pet保護(hù)膜；[〇〇61]16)對產(chǎn)品進(jìn)行檢驗(yàn)，裁切，得到我們所需要的成品。[〇〇62] 這樣可以連續(xù)高效的生產(chǎn)出10_?30wii厚度，在10MHZ到10GHZ之間均能實(shí)現(xiàn)超過 60db以上屏蔽效果的超薄屏蔽薄膜，極大提高了柔性屏蔽材料的應(yīng)用范圍及附加值。
[0063]或者是采用以下方法制作電磁屏蔽膜:[〇〇64]21)原料準(zhǔn)備:[0〇65]211)耐高溫膜:從日本東麗購買厚度為2wii?lOym的pps薄膜，幅寬為500mm表面干凈、整潔，放卷時(shí)張力均勻一致。[〇〇66]212)黑膠:用聚氨酯或環(huán)氧膠配成粘度在lOOOcps到5000cps之間的黑色膠水待用，膠水配方參考如下(按100份計(jì)算):
[0067]膠或環(huán)氧膠:50?90;固化劑:1?3;溶劑:若干。[〇〇68]需要說明的是，溶劑的使用量能夠獲得粘度在lOOOcps到5000cps之間的黑色膠水即可。[〇〇69]22)貼膜:將薄膜和30mi?80um厚的具有粘性的保護(hù)膜用復(fù)合機(jī)復(fù)合在一起。[〇〇7〇]23)原料膜涂黑膠:將復(fù)合好的pps薄膜或耐高溫薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂上一層3mi?10um厚的干膜膠水，經(jīng)過能提供100 °C?200 °C之間的烤箱將溶劑表干，收卷好。
[0071]24)真空鍍金屬屏蔽層；[0〇72]25)涂上8um厚的一層具有吸收電磁波功能的導(dǎo)電膠層；[0〇73]26)覆蓋上一層pp或pet保護(hù)膜；[〇〇74]27)對產(chǎn)品進(jìn)行檢驗(yàn)，裁切，得到我們所需要的成品。[〇〇75] 使用本方法可以連續(xù)高效的生產(chǎn)出1 Own?50mi厚度，在10MHZ到10GHZ之間均能實(shí)現(xiàn)超過60db以上屏蔽效果的超薄屏蔽薄膜，極大提高了柔性屏蔽材料的的應(yīng)用范圍及附加值。
[0076]超薄屏蔽薄膜通過對導(dǎo)電膠層的配方設(shè)計(jì)，可以有效實(shí)現(xiàn)電磁波的吸收，從而提高屏蔽性能。[〇〇77]導(dǎo)電膠層配方如下(重量):[〇〇78]膠/環(huán)氧膠:50??80份;導(dǎo)電粉:5?10份;磁粉:20?50份溶劑:足量。[〇〇79]以下為一個(gè)具體的實(shí)施例:
[0080]31)原料準(zhǔn)備:[0〇81 ]311)耐高溫膜:從日本東麗購買厚度為5um的pps薄膜，幅寬為500mm表面干凈、整潔，放卷時(shí)張力均勾一致。[〇〇82]312)黑膠:用聚氨酯或環(huán)氧膠配成粘度在3000cps之間的黑色膠水待用。膠水配方參考如下(按重量計(jì)算):
[0083]EP0N58006:70;固化劑:1 ? 2;溶劑:100[〇〇84]32)貼膜:將pps薄膜和50um厚的具有粘性的保護(hù)膜用復(fù)合機(jī)復(fù)合在一起。[0〇85]33)原料膜涂黑膠:將復(fù)合好的pps薄膜或耐高溫薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂上一層3um厚的黑膠，經(jīng)過能提供100° C?200°C之間的烤箱將溶劑表干，收卷好。 [〇〇86]34)真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；[0〇87]35)涂上5um厚的一層具有吸收電磁波功能的導(dǎo)電膠層，[〇〇88]導(dǎo)電膠層配方如下:HY-181膠水(廣東合一膠粘有限公司):50份;銅粉(北京怡田惠金屬材料有限公司):5份;鐵基合金粉末:30份(上海邁達(dá)公司)；溶劑:足量。[〇〇89]36)覆蓋上一層pp或pet保護(hù)膜；[〇〇9〇] 37)對產(chǎn)品進(jìn)行檢驗(yàn)，裁切，得到我們所需要的成品。
[0091]按照本工藝制成的13mi厚的超薄屏蔽薄膜的表面電阻為0.023 Q/in(歐姆/英寸)，抗拉強(qiáng)度為7.3N/cm〇
[0092]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的電磁屏蔽膜的制作方法，可以連續(xù)高效的生產(chǎn)10y m?50wii厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ?10GHZ之間均能實(shí)現(xiàn)超過60db以上的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的應(yīng)用范圍和附加值，穩(wěn)定性可靠，工藝穩(wěn)定、操作簡單。
[0093]以上對本發(fā)明所提供的電磁屏蔽膜的制作方法進(jìn)行了詳細(xì)介紹。本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，這些改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，包括:將耐高溫柔性薄膜在涂布線上放卷經(jīng)過涂布頭，均勻涂2wii?5um厚的黑膠后，使用烤 箱將所述耐高溫柔性薄膜表干；對表干的所述耐高溫柔性薄膜在真空環(huán)境下鍍金屬屏蔽層；對鍍有所述金屬屏蔽層涂的一側(cè)涂5wii?8wii厚用于吸收電磁波的導(dǎo)電膠層；其中，所述導(dǎo)電膠為重量比為50?80的PU膠或環(huán)氧膠、5?10的導(dǎo)電粉、20?50的磁粉 和溶劑的混合物。2.如權(quán)利要求1所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述導(dǎo)電膠為重量比為50 的PU膠或環(huán)氧膠、5的導(dǎo)電粉、30的磁粉和溶劑的混合物。3.如權(quán)利要求1或2所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述使用烤箱將所述 耐高溫柔性薄膜表干，包括:使用所述烤箱在l〇〇°C?200°C溫度下將所述耐高溫柔性薄膜表干。4.如權(quán)利要求3所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述耐高溫柔性薄膜為 pps薄膜，或pi膜，或采用復(fù)合機(jī)將所述pps薄膜和80WI1厚具有粘性的保護(hù)膜復(fù)合的復(fù)合薄 膜，或采用復(fù)合機(jī)將所述Pi薄膜和80M1厚具有粘性的保護(hù)膜復(fù)合的復(fù)合薄膜。5.如權(quán)利要求4所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述耐高溫柔性薄膜的厚 度為 10ym ?50tim，寬度為 200mm ?1000mm。6.如權(quán)利要求5所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述黑膠的粘度為 lOOOcps?5000cps。7.如權(quán)利要求6所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述黑膠為重量比為50? 90的PU膠或環(huán)氧膠、1?3的固化劑和100的溶劑配置成的黑膠，或重量比為70的EP0N58006 膠水、1.2的固化劑和100的溶劑配置成的黑膠。8.如權(quán)利要求7所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，還包括:在所述導(dǎo)電膠層 上覆蓋PP保護(hù)膜或pet保護(hù)膜。9.如權(quán)利要求8所述的電磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，還包括:對覆蓋有所述PP 保護(hù)膜或pet保護(hù)膜的耐高溫柔性薄膜進(jìn)行檢驗(yàn)后裁切。
【文檔編號(hào)】C09J7/02GK105950054SQ201610494331
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2016年6月24日
【發(fā)明人】田海玉, 田輝得, 占元明
【申請人】海寧卓泰電子材料有限公司