一種二氧化鈦的打漿分散方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于化工領(lǐng)域，涉及一種二氧化鈦的打漿分散方法，具體是涉及二氧化鈦 初品濕磨前的打漿分散方法，更是針對高濃度二氧化鈦漿料的打漿分散方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 二氧化鈦俗稱鈦白粉，是一種重要的白色顏料，跟傳統(tǒng)的鉛白、鋅白、鋅鋇白等白 色顏料相比，鈦白粉具有折射率高、消色力強(qiáng)、遮蓋力大、分散性好、白度好、無毒等多種優(yōu) 異性能，被稱為白色顏料之王，廣泛應(yīng)用在涂料、塑料、油墨、造紙、化纖、陶瓷等行業(yè)。
[0003] 但是，無論是硫酸法還是氯化法所生產(chǎn)的粗品，雖然純度很高，均不能作為白色顏 料使用，必須經(jīng)過后處理進(jìn)行表面改性。鈦白粉的后處理包括：打漿分散、濕磨、無機(jī)表面處 理、水洗、干燥、有機(jī)表面處理、汽粉和包裝等工序。由于二氧化鈦的Ti-0鍵距離小且不等 長，這種不平衡使得二氧化鈦分子極性很強(qiáng)，易團(tuán)聚，打漿過程中分散穩(wěn)定性差，漿料粘度 高，流動(dòng)性差，不能順利栗送到濕磨工序，還會(huì)影響濕磨和無機(jī)表面處理的質(zhì)量，且漿料濃 度越高，漿料的分散穩(wěn)定性越差，粘度越高，流動(dòng)性越差，對后續(xù)工序的影響越大。因此，鈦 白粉生產(chǎn)廠家選擇在較低濃度下打漿，即二氧化鈦含量低于600g/L，且在打漿分散時(shí)加入 打漿分散劑。但是上述處理方式存在以下缺陷：
[0004] 1)在較低濃度下打漿會(huì)影響產(chǎn)量，單位成本增加，且影響濕磨的效率，加大濕磨設(shè) 備的損耗和能耗。
[0005] 2)需要在打漿過程中添加打漿分散劑和酸或堿調(diào)節(jié)漿料pH值，目前常用的打漿 分散劑為醇胺類和磷酸鹽類，或醇胺類和磷酸鹽類的復(fù)配物，但這兩類打漿分散劑分別含 有氮和磷，不利于環(huán)保。
[0006] 本發(fā)明欲提供一種高濃度二氧化鈦漿料的打漿分散方法，使用該方法打漿可將打 漿濃度提高到600~1200g/L，且得到的鈦白粉漿料具有良好的分散穩(wěn)定性，漿料粘度低， 且該打漿分散劑不含氮和磷，對環(huán)境無污染，也不需要添加酸或堿調(diào)節(jié)漿料pH值。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本發(fā)明的目的在于提供一種二氧化鈦初品濕磨前的高濃度二氧化鈦漿料的打漿 分散方法，以解決現(xiàn)有打漿工藝漿料濃度低、漿料分散穩(wěn)定性差、粘度大、環(huán)境污染大等問 題，提高產(chǎn)量和質(zhì)量、降低單位成本和能耗。
[0008] 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了一種新的二氧化鈦漿料的打漿分散方法，尤其是 應(yīng)用于二氧化鈦初品濕磨前的高濃度二氧化鈦漿料，所述方法包括以下步驟：
[0009] (1)處理打漿分散劑：在帶攪拌裝置的打漿設(shè)備中加水和打漿分散劑，打漿分散 劑加入量為二氧化鈦含量的〇. 1~〇. 5% ;
[0010] (2)控制漿料濃度：向打漿設(shè)備中加入二氧化鈦初品，加水控制漿料濃度為600~ 1200g/L;
[0011] (3)分散漿料：將步驟（2)所得漿料分散30~60分鐘，即得打漿分散好的二氧化 鈦漿料。
[0012] 其中，步驟（1)所述帶攪拌裝置的打漿設(shè)備為打漿罐。
[0013] 其中，步驟（1)和步驟（2)所述水為去離子水或蒸餾水。
[0014] 其中，步驟（1)中所述打漿分散劑為聚羧酸鹽與硅酸鹽的復(fù)配物，優(yōu)選的，所述聚 羧酸鹽為聚羧酸鈉，所述硅酸鹽為硅酸鈉。
[0015] 其中，聚羧酸鹽與硅酸鹽的復(fù)配比例按重量計(jì)為：聚羧酸鹽：硅酸鹽=9:1~ 1:9〇
[0016] 優(yōu)選范圍：聚羧酸鹽：硅酸鹽=9:1~1:1。
[0017] 最優(yōu)選值：聚羧酸鹽：硅酸鹽=4:1。
[0018] 進(jìn)一步，步驟（2)中加入的二氧化鈦初品可以是硫酸法工藝生產(chǎn)，也可以是氯化 法工藝生產(chǎn)。
[0019] 本發(fā)明打漿分散方法的有益效果包括：
[0020] (1)打漿分散劑不含氮和磷，有利于環(huán)保；
[0021] (2)不需要添加酸或堿調(diào)節(jié)漿料pH值，同樣能達(dá)到很好的分散效果，簡化了工藝， 降低了成本；
[0022] (3)可將打漿濃度提高到600~1200g/L，提高濕磨效率和產(chǎn)量，降低濕磨設(shè)備的 損耗和能耗。
【具體實(shí)施方式】
[0023] 以下通過實(shí)施例形式的【具體實(shí)施方式】，對本發(fā)明的上述內(nèi)容再作進(jìn)一步的詳細(xì)說 明，說明但不限制本發(fā)明。
[0024] 本發(fā)明打漿分散方法實(shí)現(xiàn)對高濃度二氧化鈦打漿的關(guān)鍵在于采用聚羧酸鹽與硅 酸鹽的復(fù)配物作為打漿分散劑。以下為篩選打漿分散劑的試驗(yàn)：通過變動(dòng)分散劑種類、分散 劑比例、分散劑用量、漿料濃度等參數(shù)條件進(jìn)行打漿試驗(yàn)，固定打漿分散時(shí)間為45分鐘，測 定漿料粘度。
[0025] (1)向帶攪拌裝置的打漿罐中加入去離子水或蒸餾水，啟動(dòng)攪拌，往打漿罐中加入 打漿分散劑，加入量以二氧化鈦含量計(jì)；
[0026] (2)往打漿罐中加入二氧化鈦初品，再補(bǔ)加一定量的去離子水或蒸餾水，控制漿料 濃度；
[0027] (3)將步驟（2)所得漿料分散45分鐘，即得打漿分散好的高濃度二氧化鈦漿料。
[0028] 參數(shù)設(shè)計(jì)及結(jié)果見表1。
[0029] 表1打漿參數(shù)設(shè)計(jì)及粘度測定結(jié)果
[0030]

[0031] 從表1可以看出，單獨(dú)使用聚羧酸鈉、硅酸鈉或六偏磷酸鈉作打漿分散劑的打漿 效果均不如聚羧酸鈉和硅酸鈉復(fù)配使用的打漿效果。將聚羧酸鈉和和硅酸鈉復(fù)配作為打漿 分散劑，打漿效果好，可進(jìn)行高濃度打漿，不含氮和磷，有利于環(huán)保，且不需要額外添加酸或 堿調(diào)節(jié)衆(zhòng)料pH值。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 二氧化鈦的打漿分散方法，所述方法包括以下步驟： (1) 處理打漿分散劑：在帶攪拌裝置的打漿設(shè)備中加水和打漿分散劑，打漿分散劑加 入量為二氧化鈦含量的0. 1~0. 5% ; (2) 控制漿料濃度：向打漿設(shè)備中加入二氧化鈦初品，加水控制漿料濃度為600~ 1200g/L ; (3) 分散漿料：將步驟（2)所得漿料分散30~60分鐘，即得打漿分散好的二氧化鈦漿 料。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氧化鈦的打漿分散方法，其特征在于：所述步驟（1)中加 入的打漿分散劑為聚羧酸鹽與硅酸鹽的復(fù)配物。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的二氧化鈦的打漿分散方法，其特征在于：所述聚羧酸鹽與硅 酸鹽的復(fù)配比例按重量計(jì)為：聚羧酸鹽：硅酸鹽=9:1~1:9。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的二氧化鈦的打漿分散方法，其特征在于：所述聚羧酸鹽與硅 酸鹽的復(fù)配比例按重量計(jì)為：聚羧酸鹽：硅酸鹽=9:1~1:1。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的二氧化鈦的打漿分散方法，其特征在于：所述聚羧酸鹽與硅 酸鹽的復(fù)配比例按重量計(jì)為：聚羧酸鹽：硅酸鹽=4:1。6. 根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的二氧化鈦漿料的打漿分散方法，其特征在于：所述 聚羧酸鹽為聚羧酸鈉，所述硅酸鹽為硅酸鈉。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氧化鈦的打漿分散方法，其特征在于：所述步驟（2)中加 入的二氧化鈦初品可以是硫酸法工藝生產(chǎn)，也可以是氯化法工藝生產(chǎn)。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氧化鈦的打漿分散方法，其特征在于：步驟（1)所述帶攪 拌裝置的打漿設(shè)備為打漿罐。9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氧化鈦的打漿分散方法，其特征在于：步驟（1)和步驟（2) 所述水為去離子水或蒸餾水。
【專利摘要】本發(fā)明屬于化工領(lǐng)域，涉及一種二氧化鈦的打漿分散方法，具體是涉及二氧化鈦初品濕磨前的高濃度二氧化鈦漿料的打漿分散方法。本發(fā)明的目的在于提供的該打漿分散方法可以解決現(xiàn)有打漿工藝漿料濃度低、漿料分散穩(wěn)定性差、粘度大、環(huán)境污染大等問題，提高產(chǎn)量和質(zhì)量、降低單位成本和能耗。本發(fā)明打漿分散方法包括以下步驟：(1)處理打漿分散劑：在帶攪拌裝置的打漿設(shè)備中加水和打漿分散劑，打漿分散劑加入量為二氧化鈦含量的0.1～0.5％；(2)控制漿料濃度：向打漿設(shè)備中加入二氧化鈦初品，加水控制漿料濃度為600～1200g/L；(3)分散漿料：將步驟(2)所得漿料分散30～60分鐘，即得打漿分散好的二氧化鈦漿料。
【IPC分類】C09C3/10, C09C3/06, C09C1/36
【公開號(hào)】CN105038329
【申請?zhí)枴緾N201510426705
【發(fā)明人】肖勇麗, 景建林, 廖榮華, 袁秀香, 郭菊仙, 劉佳, 周俊
【申請人】攀鋼集團(tuán)鈦業(yè)有限責(zé)任公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年7月20日