專利名稱：防反射性涂料聚合物及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及適合用于半導(dǎo)體器件上的防反射性涂料中的有機聚合物，以及制備它們的方法。更具體地說，在生產(chǎn)64M，256M，1G，4G和16G DRAM半導(dǎo)體器件的過程中，當(dāng)采取了用短波光源(如248nm(KrF)和193nm(ArF)波長)的照相平版印刷方法時，本發(fā)明的聚合物能夠用于形成一涂層，該涂層能防止來自涂于半導(dǎo)體芯片上的底涂層的光的反射。包括本發(fā)明聚合物的防反射性涂料還消除了當(dāng)使用ArF光束時的駐波效應(yīng)，以及由光致抗蝕涂層本身的厚度變化所引起的反射/衍射。本發(fā)明還涉及含有這些聚合物(單獨或結(jié)合其它光吸收性化合物)的防反射性組合物和由這些組合物形成的防反射性涂料，以及它們的制備方法。
在半導(dǎo)體的生產(chǎn)過程中，用于形成亞微圖形的照相平版印刷方法，有曝照輻射線的駐波的反射陷波(reflective notching)是不可避免的。該效應(yīng)是由于涂于半導(dǎo)體晶片的底涂層的光譜性能，光致抗蝕涂層的變化和來自底涂層的衍射和反射光所致的臨界尺寸(CD)的變動帶來的。因此，有人建議將所謂的“防反射性涂料”的涂層引入到半導(dǎo)體器件以防止來自底涂層的光的反射。該防反射性涂料通常包括吸收用于平版印刷術(shù)方法的光束源波長范圍的光的有機材料。
依據(jù)所使用的涂料將防反射性涂料分類為無機和有機防反射性涂料，或依據(jù)機理分類為光吸收和光干涉涂料。
無機防反射性涂料主要用于使用具有波長為365nm的i-line射線的亞微圖形(submicro-pattem)形成方法中。TiN和無定形碳已經(jīng)廣泛用于光吸收涂料，以及SiON已經(jīng)用于光干涉涂料。
無機SiON已經(jīng)用于使用KrF光束的亞微圖形形成方法中的防反射性涂料。最近的趨勢是試圖在防反射性涂料中使用有機化合物?；谀壳暗闹R，以下是對于合乎要求的有機防反射性涂料的前提條件第一，在圖形形成過程中，光致抗蝕劑必須不會因溶解于在有機防反射性涂料中使用的溶劑中而從底材上剝離。因為這個原因，有機防反射性涂料需要被設(shè)計成形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)，以及必須不產(chǎn)生作為副產(chǎn)物的化學(xué)物質(zhì)。
第二，酸或胺化合物一定不要從防反射性涂料中移入或移出。這是因為如果酸遷移則在圖形的下邊有“掏蝕(undercutting)”的傾向，和如果堿如胺遷移則出現(xiàn)“沉渣(footing)”的傾向。
第三，與光致抗蝕涂層比較，防反射性涂料必須具有更快的蝕刻速度，以使得蝕刻過程能夠通過利用光致抗蝕涂層作為掩模得以有效地進(jìn)行。
第四，防反射性涂料必須在最小厚度下起作用。
直到現(xiàn)在，還沒有開發(fā)出合適的防反射性涂料用于使用ArF光束形成亞微圖形的方法中。而且，因為沒有已知的控制來自193nm光源的干涉的無機防反射性涂料，在防反射性涂料中有機化合物的使用目前正在研究中。
因此，期望使用和開發(fā)出在特定波長下強吸收光的有機防反射性涂料，以防止在平版印刷術(shù)方法中的駐波效應(yīng)和光反射，以及消除來自底涂層的背部衍射(rear diffraction)和反射光。
本發(fā)明提供了新型化合物，該化合物適于在生產(chǎn)半導(dǎo)體器件中使用193nm(ArF)和248nm(KrF)光束形成亞微圖形的照相平版印刷術(shù)方法中用于防反射性涂料。
本發(fā)明進(jìn)一步提供了用于防反射性涂料的化合物的制備方法。
本發(fā)明還提供了含有上述化合物的防反射性涂料組合物和它們的制備方法。
本發(fā)明也提供了通過使用上述防反射性涂料組合物形成的防反射性涂料，以及它們的形成方法。
本發(fā)明的聚合物選自以下通式(1)，(2)和(3)表示的化合物
其中R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；和m∶n為0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比；
其中R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；x為1和5之間的數(shù)和a∶b∶c∶d為0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比；和
其中，R1為氫，甲基或羥基；e為平均聚合度。優(yōu)選e具有3.0-17.0的值。
本發(fā)明的聚合物被設(shè)計成在193nm和248nm波長下具有強吸收光的基團(tuán)從而有利于在這兩種波長下的光吸收。
以上通式1所表示的聚合物能夠根據(jù)以下列出的反應(yīng)式1來制備，其中聚羥基苯乙烯樹脂(化合物I)和重氮萘醌鹵化物(化合物II)在胺存在下在溶劑中反應(yīng)
其中，R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；Y為鹵素基團(tuán)；和m∶n為0.1-0.9∶0.1∶0.9的摩爾比。
以上通式2所表示的聚合物能夠依據(jù)以下列出的反應(yīng)式2來制備，其中聚(苯乙烯-丙烯酸酯)樹脂(化合物III)和重氮萘醌鹵化物(化合物II)在胺存在下在溶劑中反應(yīng)
其中，R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；Y為鹵基；x為1至5的數(shù)字；且a∶b∶c∶d為0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比。
以上通式3所表示的聚合物能夠依據(jù)以下列出的反應(yīng)式3來制備，其中酚醛清漆樹脂(化合物IV)和重氮萘醌鹵化物(化合物II)在胺存在下在溶劑中反應(yīng)
其中，R1為氫，甲基或羥基；Y為鹵基；和e為平均聚合度。用于上述反應(yīng)的原材料，聚羥基苯乙烯(I)，重氮萘醌鹵化物(II)，聚(苯乙烯-丙烯酸酯)樹脂(III)和酚醛清漆樹脂(IV)可市購或通過已知的方法來合成。
用于制備本發(fā)明聚合物的胺優(yōu)選為三烷基胺，更優(yōu)選三乙胺。
用于制備本發(fā)明聚合物的溶劑可以選自四氫呋喃，甲苯，苯，甲基乙基酮和二噁烷。
用于制備本發(fā)明聚合物的聚合方法的反應(yīng)溫度優(yōu)選在50和80℃之間。
本發(fā)明還提供了在有機溶劑中單獨含有通式1，2或3聚合物的防反射性涂料組合物。
本發(fā)明的防反射性涂料組合物也可以包括通式1，2或3聚合物中的一種和選自蒽和其衍生物，芴酮衍生物，芴和其衍生物，芴醇，呫噸酮，醌茜(quinazarin)和熒光素的光吸收化合物。這樣的化合物的實例列舉在以下表1a和表1b中表1a
表1b
在以上表1a中，R5，R6和R7各獨立地表示氫，取代或未取代的直或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基，和p為整數(shù)。優(yōu)選p值為1-3。
在以上表1b中，R8-R15各獨立地表示氫，羥基，取代或未取代的直或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基，R16和R17各自獨立地表示烷基。
本發(fā)明的防反射性涂料組合物通過將以上通式1，2或3聚合物溶解在有機溶劑中來制備，隨后加入選自以上表1a和1b的一種或多種化合物。
用于制備的有機溶劑能夠是任何合適的常規(guī)有機溶劑，優(yōu)選選自3-乙氧基丙酸乙基酯，3-甲氧基丙酸甲酯，環(huán)己酮，丙二醇和甲基醚醋酸酯(methyletheracetate)的溶劑。
用于制備本發(fā)明的防反射性涂料組合物的溶劑的量，相對于所使用的聚合物的量，優(yōu)選為200-5000％(w/w)。
通過過濾僅含有通式1，2或3聚合物的溶液，或者含有通式1，2或3的聚合物和一種或多種在表1a和1b中列出的光吸收化合物的組合物，隨后在用通常方式制備的晶片上涂敷該過濾溶液或組合物和“硬烘烤(hard-baking)”該涂層(加熱晶片到100-300℃達(dá)10-1000秒鐘)使得防反射性涂料聚合物產(chǎn)生交聯(lián)，從而能夠?qū)⒈景l(fā)明的防反射性涂料提供在半導(dǎo)體硅片上。
當(dāng)涂敷于晶片上和在高溫下烘烤(“硬烘烤”)時，通過打開所述聚合物的重氮萘醌基的環(huán)的反應(yīng)，含有本發(fā)明防反射性涂料的聚合物形成了交聯(lián)結(jié)構(gòu)。該交聯(lián)結(jié)構(gòu)使得本發(fā)明的聚合物成為了在通常照相平版印刷條件下光譜上穩(wěn)定的有機防反射性涂敷材料。
已經(jīng)證實本發(fā)明的聚合物和組合物在使用248nm KrF和193nm ArF激光的照相平版印刷方法中在亞微圖形形成的過程中是優(yōu)異的有機防反射性涂料。也已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，當(dāng)使用E-束，遠(yuǎn)紫外(EUV)光，和離子束光源代替ArF光束時，依據(jù)本發(fā)明提供的該防反射性效果也是優(yōu)等的。
通過以下實施例來進(jìn)一步解釋本發(fā)明，但本發(fā)明不限于這些給出的實施例。
實施例1具有重氮萘醌磺?；木哿u基苯乙烯共聚物的合成在含有250g四氫呋喃(THF)的300ml圓底燒瓶中完全溶解49.6g(0.3mol)聚羥基苯乙烯樹脂之后，將15.2g(0.15mol)的三乙胺加入到該混合物中并完全混合。將45.1g(0.15mol)氯化重氮萘醌緩慢加入到混合物中并反應(yīng)24小時以上。在反應(yīng)結(jié)束之后，通過在二乙醚中沉淀出樹脂來分離它并在真空下干燥以獲得本發(fā)明的聚(羥基苯乙烯-重氮萘醌磺?；揭蚁?共聚物，其中50％的羥基苯乙烯單體用重氮萘醌磺酰基取代。產(chǎn)率為90-95％。
實施例2具有重氮萘醌磺?；木哿u基-α-甲基苯乙烯的共聚物的合成在含有250g四氫呋喃(THF)的300ml圓底燒瓶中完全溶解58.8g(0.33mol)聚(羥基-(α-甲基苯乙烯))樹脂之后，將13.45g(0.132mol)的三乙胺加入到該混合物中和完全混合。將39.7g(0.132mol)氯化重氮萘醌緩慢加入到混合物中并反應(yīng)24小時以上。在反應(yīng)結(jié)束之后，通過在二乙醚中沉淀出樹脂來分離它并在真空下干燥以獲得本發(fā)明的聚(羥基-α-甲基苯乙烯-重氮萘醌磺?；?(α-甲基苯乙烯)共聚物，其中40％的羥基-α-甲基苯乙烯單體用重氮萘醌磺?；〈?。產(chǎn)率為90-95％。
實施例3具有重氮萘醌磺?；木?羥基苯乙烯-丙烯酸羥基乙基酯)共聚物的合成在含有300g四氫呋喃(THF)的300ml圓底燒瓶中完全溶解84.1g(0.3mol)聚(羥基苯乙烯-丙烯酸羥基乙基酯)樹脂之后，將15.2g(0.15mol)的三乙胺加入到該混合物中并完全混合。將45.1g(0.15mol)氯化重氮萘醌緩慢加入到混合物中并反應(yīng)24小時以上。在反應(yīng)結(jié)束之后，通過在二乙醚中沉淀出樹脂來分離它并在真空下干燥以獲得本發(fā)明的聚(羥基苯乙烯-丙烯酸羥基乙基酯)共聚物，其中50％的反應(yīng)物用重氮萘醌磺?；〈?。產(chǎn)率為85-90％。
實施例4具有重氮萘醌磺?；木?羥基苯乙烯-甲基丙烯酸羥乙基酯)共聚物的合成在含有300g四氫呋喃(THF)的300ml圓底燒瓶中完全溶解88.3g(0.3mol)聚(羥基苯乙烯-丙烯酸羥基乙基酯)樹脂之后，將13.7g(0.135mol)的三乙胺加入到該混合物中并完全混合。將40.6g(0.135mol)氯化重氮萘醌緩慢加入到混合物中并反應(yīng)24小時以上。在反應(yīng)結(jié)束之后，通過在二乙醚中沉淀出樹脂來分離它并在真空下干燥以獲得本發(fā)明的酚醛清漆樹脂，其中45％的反應(yīng)物用重氮萘醌磺?；〈?。產(chǎn)率為90-95％。
實施例5具有重氮萘醌磺?；谋交尤┣迤崞渚畚锏暮铣稍诤?50g四氫呋喃(THF)的300ml圓底燒瓶中完全溶解63.1g(0.35mol)苯基酚醛清漆樹脂之后，將17.7g(0.175mol)的三乙胺加入到該混合物中并完全混合。將52.6g(0.175mol)氯化重氮萘醌緩慢加入到混合物中并反應(yīng)24小時以上。在反應(yīng)結(jié)束之后，通過在二乙醚中沉淀出樹脂來分離它并在真空下干燥以獲得本發(fā)明的苯基酚醛清漆樹脂，其中50％的反應(yīng)物用重氮萘醌磺酰基取代。產(chǎn)率為90-95％。
實施例6具有重氮萘醌磺?；募追有头尤┣迤峁簿畚锏暮铣稍诤?50g四氫呋喃(THF)的300ml圓底燒瓶中完全溶解62.2g(0.3mol)甲酚型酚醛清漆樹脂之后，將15.2g(0.15mol)的三乙胺加入到該混合物中并完全混合。將45.1g(0.15mol)氯化重氮萘醌緩慢加入到混合物中并反應(yīng)24小時以上。在反應(yīng)結(jié)束之后，通過在二乙醚中沉淀出樹脂來分離它并在真空下干燥以獲得本發(fā)明的甲酚型酚醛清漆樹脂，其中50％的反應(yīng)物用重氮萘醌磺酰基取代。產(chǎn)率為90-95％。
實施例7防反射性涂料膜的制備50mg依據(jù)上述實施例1到6制備的共聚物與0.1-30％(w/w)濃度的上述表1a和1b中的一種化合物在大約100g醋酸丙二醇甲基醚(PGMEA)中的溶液混合，混合物被完全溶解。過濾溶液，涂敷于晶片上并在100-300℃下硬烘烤10-1000秒鐘。以后，將光敏膜涂敷于該防反射性膜上以得到適于在普通照相平版印刷方法中形成超細(xì)圖形的半導(dǎo)體器件。
本發(fā)明的聚合物在大多數(shù)烴類溶劑中具有高的溶解能力，但在硬烘烤后防反射性涂料變得在任何溶劑中都不可溶。因此，本發(fā)明的聚合物對于用于光致抗蝕膜具有優(yōu)越性，并在圖形形成過程中不會出現(xiàn)諸如掏蝕(cutting)或沉渣這樣的問題。
當(dāng)本發(fā)明的聚合物用作制備半導(dǎo)體的亞微圖形形成方法中的防反射性涂料時，因為源自底涂層的CD變化的消除使得形成了穩(wěn)定的64M，256M，1G，4G，16G DRAM亞微圖形，從而提高了產(chǎn)率。
權(quán)利要求
1.適于用于半導(dǎo)體器件的防反射性涂料的重氮萘醌磺?；?取代的聚合物，所述聚合物選自(a)具有下式的聚羥基苯乙烯聚合物
其中R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；且m∶n為0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比；(b)具有下式的聚(苯乙烯-丙烯酸酯)聚合物
其中R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；x為1和5之間的數(shù)；和a∶b∶c∶d為0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比；和(c)具有下式的酚醛清漆樹脂
其中R1為氫，甲基或羥基；和e為平均聚合度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的聚合物，其中R為氫或甲基，R1為氫或甲基，和x為1。
3.制備權(quán)利要求1的聚合物的方法，其中包括將聚羥基苯乙烯樹脂(I)和重氮萘醌鹵化物(II)在胺存在下在溶劑中反應(yīng)，如以下反應(yīng)式所示
其中R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；Y為鹵素；且m∶n為0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比。
4.制備權(quán)利要求1的聚合物的方法，其中包括將聚(苯乙烯-丙烯酸酯)樹脂(III)和重氮萘醌鹵化物(II)在胺存在下在溶劑中反應(yīng)，如以下反應(yīng)式所示
其中R為氫，和C1-C6烷基，羥基或羥甲基；Y為鹵素，x為1至5的數(shù)；和a∶b∶c∶d為0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比。
5.制備權(quán)利要求1的聚合物的方法，其中包括將酚醛清漆樹脂(IV)和重氮萘醌鹵化物(II)在胺存在下在溶劑中反應(yīng)，如以下反應(yīng)式所示
其中，R為氫，甲基或羥基；Y為鹵素；和e為平均聚合度。
6.根據(jù)權(quán)利要求3，4或5的方法，其中各反應(yīng)物的摩爾比為0.1-0.9。
7.根據(jù)權(quán)利要求3，4或5的方法，其中胺為三乙胺。
8.根據(jù)權(quán)利要求3，4或5的方法，其中溶劑選自四氫呋喃，甲苯，苯，甲基乙基酮和二噁烷。
9.根據(jù)權(quán)利要求3，4或5的方法，其中反應(yīng)溫度在50和80℃之間。
10.包括權(quán)利要求1的重氮萘醌磺酰基取代的聚合物與一種或多種選自蒽和其衍生物，芴酮衍生物，芴和其衍生物，芴醇，呫噸酮，醌茜和熒光素的光吸收化合物的防反射性涂料組合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的防反射性涂料組合物，其中上述光吸收化合物為蒽，9-蒽甲醇，9-蒽腈，9-蒽羧酸，1，8，9-蒽三酚，1，2，10-蒽三酚，2，6-二羥蒽醌，9-蒽醛肟，9-蒽醛，2-氨基-7-甲基-5-氧代-5H-[1]苯并吡喃并[2，3-b]吡啶-3-腈，1-氨基蒽醌，蒽醌-2-羧酸，1，5-二羥基蒽醌，蒽酮，9-蒽基三氟甲酮，芴，9-芴醋酸，2-芴醛，2-芴羧酸，1-芴羧酸，4-芴羧酸，9-芴羧酸，9-芴甲醇，芴醇，呫噸酮，醌茜和熒光素，具有下式的9-烷基蒽衍生物
具有下式的9-羧酸蒽衍生物
具有下式的1-羧基蒽衍生物
具有下式的芴酮衍生物
具有下式的芴酮衍生物
具有下式的芴酮的衍生物
或具有下式的芴酮衍生物
其中，R5，R6和R7各自獨立地表示氫，取代或未取代的直鏈或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基；R8-R15各自獨立地表示氫，羥基，取代或未取代的直鏈或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基；R16-R17各獨立地表示烷基；和p為整數(shù)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10的防反射性涂料組合物，其中組合物用于KrF平版印刷術(shù)。
13.制備防反射性涂料組合物的方法，包括將權(quán)利要求1的聚合物溶解在200～5000％(w/w)的有機溶劑中；和將選自以下的一種或多種光吸收化合物加入到所生成的溶液中蒽，9-蒽甲醇，9-蒽腈，9-蒽羧酸，1，8，9-蒽三酚，1，2，10-蒽三酚，2，6-二羥蒽醌，9-蒽醛肟，9-蒽醛，2-氨基-7-甲基-5-氧代-5H-[1]苯并吡喃并[2，3-b]吡啶-3-腈，1-氨基蒽醌，蒽醌-2-羧酸，1，5-二羥基蒽醌，蒽酮，9-蒽基三氟甲酮，芴，9-芴醋酸，2-芴醛，2-芴羧酸，1-芴羧酸，4-芴羧酸，9-芴羧酸，9-芴甲醇，芴醇，呫噸酮，醌茜和熒光素，具有下式的9-烷基蒽衍生物
具有下式的9-羧酸蒽衍生物
具有下式的1-羧基蒽衍生物
具有下式的芴酮衍生物
具有下式的芴酮衍生物
具有下式的芴酮的衍生物
或具有下式的芴酮衍生物
其中，R5，R6和R7各自獨立地表示氫，取代或未取代的直鏈或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基；R8-R15各自獨立地表示氫，羥基，取代或未取代的直鏈或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基；R16-R17各自獨立地表示烷基；且p為整數(shù)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中光吸收化合物的量為0.1-40％(w/w)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中溶劑選自3-乙氧基丙酸乙基酯，3-甲氧基丙酸甲基酯，環(huán)己酮，丙二醇和甲醚醋酸酯。
16.含有權(quán)利要求1的聚合物的防反射性涂料。
17.適于用于ArF照相平版印刷術(shù)的根據(jù)權(quán)利要求16的防反射性涂料。
18.形成防反射性涂層的方法，包括以下步驟在溶劑中溶解權(quán)利要求1的聚合物以形成溶液；將上述溶液涂敷于硅片上；和在100-300℃下硬烘烤上述硅片10-1000秒鐘。
19.形成根據(jù)權(quán)利要求18的防反射性涂層組合物的方法，進(jìn)一步包括將一種或多種選自以下的光吸收化合物與權(quán)利要求1的聚合物一起溶解蒽，9-蒽甲醇，9-蒽腈，9-蒽羧酸，1，8，9-蒽三酚，1，2，10-蒽三酚，2，6-二羥蒽醌，9-蒽醛肟，9-蒽醛，2-氨基-7-甲基-5-氧代-5H-[1]苯并吡喃并[2，3-b]吡啶-3-腈，1-氨基蒽醌，蒽醌-2-羧酸，1，5-二羥基蒽醌，蒽酮，9-蒽基三氟甲酮，芴，9-芴醋酸，2-芴醛，2-芴羧酸，1-芴羧酸，4-芴羧酸，9-芴羧酸，9-芴甲醇，芴醇，呫噸酮，醌茜和熒光素，具有下式的9-烷基蒽衍生物
具有下式的9-羧酸蒽衍生物
具有下式的1-羧基蒽衍生物
具有下式的芴酮衍生物
具有下式的芴酮衍生物
具有下式的芴酮的衍生物
或具有下式的芴酮衍生物
其中，R5，R6和R7各獨立地表示氫，取代或未取代的直鏈或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基；R8-R15各自獨立地表示氫，羥基，取代或未取代的直鏈或支鏈C1-C5烷基，環(huán)烷基，烷氧基烷基或環(huán)烷氧基烷基；R16和R17各自獨立地表示烷基；且p為整數(shù)。
20.包括防反射性涂料的半導(dǎo)體器件，其中該防反射性涂料含有選自以下化合物的重氮萘醌磺?；?取代的聚合物涂料(a)具有下式的聚羥基苯乙烯聚合物
其中R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；和m∶n為0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比；(b)具有下式的聚(苯乙烯-丙烯酸酯)聚合物
其中R為氫，C1-C6烷基，羥基或羥甲基；x為1至5的數(shù)；和a∶b∶c∶d為0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9∶0.1-0.9的摩爾比；以及(c)具有下式的酚醛清漆聚合物
其中R1為氫，甲基或羥基；和e為平均聚合度。
全文摘要
提供了適用于半導(dǎo)體器件的防反射性涂料的重氮萘醌磺?；〈木酆衔锛捌渲品?。該涂料在照相平版印刷過程中用于半導(dǎo)體器件,防止來自該器件底涂層的或由光致抗蝕涂層厚度變化帶來的光反射,并且消除了當(dāng)使用ArF光時的駐波效應(yīng)。還提供了僅含有這些有機防反射性涂料聚合物或另外結(jié)合了某些光吸收性化合物的防反射性組合物和涂料及制法。該聚合物用于防反射性涂層時,在生產(chǎn)64M,256M,1G,4G和16GDRAM半導(dǎo)體器件時提高了形成亞微圖形的產(chǎn)率。
文檔編號C09D161/14GK1260355SQ9912497
公開日2000年7月19日 申請日期1999年12月23日 優(yōu)先權(quán)日1998年12月31日
發(fā)明者洪圣恩, 鄧旼鎬, 金炯秀, 白基鎬 申請人:現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)株式會社