本發(fā)明涉及一種膠黏劑膜及膠黏劑膜的制造方法。

背景技術(shù)：

1、作為以往的膠黏劑膜，例如有專(zhuān)利文獻(xiàn)1中記載的晶粒黏結(jié)(die?attach)用層疊片支撐體。該以往的晶粒黏結(jié)用層疊片支撐體具備長(zhǎng)條的基材膜及在基材片的單面沿該基材膜的長(zhǎng)度方向分散配置的多個(gè)晶粒黏結(jié)用層疊膜。

2、晶粒黏結(jié)用層疊膜由基材膜側(cè)的晶粒黏結(jié)膜和晶粒黏結(jié)膜上的切割膜構(gòu)成。在基材膜的單面上，以包圍晶粒黏結(jié)用層疊膜的每一個(gè)的方式配置具有與晶粒黏結(jié)用層疊膜相同的厚度的保護(hù)膜。根據(jù)這種保護(hù)膜的配置，例如能夠從將膠黏劑膜卷繞成卷狀時(shí)的壓力保護(hù)晶粒黏結(jié)用層疊膜，并能夠抑制層疊膜的變形、卷痕的轉(zhuǎn)印等的產(chǎn)生。

3、以往技術(shù)文獻(xiàn)

4、專(zhuān)利文獻(xiàn)

5、專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2006-202927號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的技術(shù)課題

2、在如上所述的膠黏劑膜的制造中，例如采用卷對(duì)卷方式。在該方式中，從原片卷送出在一面?zhèn)染哂叙ず蠈拥幕哪?，將壓敏膠黏劑膜層壓于黏合層。其后，通過(guò)輥刀以規(guī)定的圖案預(yù)切基材膜上的黏合層及壓敏膠黏劑膜。預(yù)切后，通過(guò)從基材膜剝離黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分，將基于黏合層及壓敏膠黏劑膜的功能層及包圍該功能層的保護(hù)層形成于基材膜的一面?zhèn)取?/p>

3、然而，在這種膠黏劑膜的制造工序中，根據(jù)黏合層及壓敏膠黏劑膜的預(yù)切形狀，有時(shí)在剝離黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分時(shí)，會(huì)在該不需要部分產(chǎn)生破裂或缺損等不良情況。若發(fā)生這種不良情況，則無(wú)法以一定的搬運(yùn)速度卷取膠黏劑膜并且進(jìn)行不需要部分的剝離，有可能導(dǎo)致膠黏劑膜的制造效率降低。

4、本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而完成的，其目的在于提供一種即使以一定的搬運(yùn)速度進(jìn)行卷取并且進(jìn)行不需要部分的剝離的情況下，也能夠抑制不需要部分的破裂或缺損，并且實(shí)現(xiàn)制造效率的提高的膠黏劑膜及膠黏劑膜的制造方法。

5、用于解決技術(shù)課題的手段

6、本發(fā)明的一方面所涉及的膠黏劑膜具備長(zhǎng)條的基材膜、及設(shè)置于基材膜的一面?zhèn)鹊酿ず蠈蛹皦好裟z黏劑膜，在基材膜的一面?zhèn)仍O(shè)置有：多個(gè)功能層，由黏合層及壓敏膠黏劑膜構(gòu)成，且沿著基材膜的延伸方向相互分開(kāi)配置；多個(gè)保護(hù)層，由黏合層及壓敏膠黏劑膜構(gòu)成，且以包圍功能層的方式相對(duì)于基材膜的寬度方向?qū)ΨQ(chēng)地配置，功能層在基材膜的俯視下呈圓形狀，保護(hù)層在基材膜的俯視下具有沿著基材膜的延伸方向的直線部分及與功能層的圓周相面對(duì)的直線部分。

7、在該膠黏劑膜中，保護(hù)層在基材膜的俯視下具有沿著基材膜的延伸方向的直線部分和與功能層的圓周相面對(duì)的直線部分。通過(guò)這種結(jié)構(gòu)，與使保護(hù)層沿著功能層的圓周的情況相比，能夠確保黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分的面積，進(jìn)而能夠在其形狀中包含直線部分。由此，能夠使從基材膜的一面?zhèn)葎冸x時(shí)施加于不需要部分的力均勻化，即使在以一定的搬運(yùn)速度卷取膠黏劑膜并且進(jìn)行不需要部分的剝離的情況下，也能夠抑制在不需要部分中產(chǎn)生破裂或缺損等不良情況。通過(guò)以一定的搬運(yùn)速度連續(xù)卷取膠黏劑膜而不產(chǎn)生不良情況，從而實(shí)現(xiàn)制造效率的提高。

8、保護(hù)層可以具有在基材膜的俯視下呈三角形狀的島狀部分，并且配置成島狀部分的斜邊與功能層的圓周相面對(duì)，且島狀部分的底邊與基材膜的寬度方向的端部相面對(duì)。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，能夠有效地在功能層的周?chē)渲帽Ｗo(hù)層。因此，能夠從將膠黏劑膜卷繞成卷狀時(shí)的壓力中牢固地保護(hù)功能層，并且能夠抑制功能層的變形、卷痕的轉(zhuǎn)印等的產(chǎn)生。并且，通過(guò)利用島狀部分的直線部分，能夠在黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分的形狀中充分地形成直線部分。由此，能夠更確實(shí)地使從基材膜的一面?zhèn)葎冸x時(shí)施加于不需要部分的力均勻化。

9、保護(hù)層可以具有在基材膜的俯視下呈梯形狀的島狀部分，并且配置成島狀部分的斜邊與功能層的圓周相面對(duì)，且島狀部分的下底與基材膜的寬度方向的端部相面對(duì)。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，能夠有效地在功能層的周?chē)渲帽Ｗo(hù)層。因此，能夠從將膠黏劑膜卷繞成卷狀時(shí)的壓力中牢固地保護(hù)功能層，并且能夠抑制功能層的變形、卷痕的轉(zhuǎn)印等的產(chǎn)生。并且，通過(guò)利用島狀部分的直線部分，能夠在黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分的形狀中充分地形成直線部分。由此，能夠更確實(shí)地使從基材膜的一面?zhèn)葎冸x時(shí)施加于不需要部分的力均勻化。

10、保護(hù)層可以在基材膜的寬度方向的兩端部具有沿基材膜的延伸方向延伸的帶狀部分。通過(guò)將保護(hù)層配置于基材膜的寬度方向的兩端部，能夠從將膠黏劑膜卷繞成卷狀時(shí)的壓力進(jìn)一步充分地保護(hù)功能層。并且，利用帶狀部分的直線部分，能夠?qū)⒅本€部分充分地形成為黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分的形狀。由此，能夠更確實(shí)地使從基材膜的一面?zhèn)葎冸x時(shí)施加于不需要部分的力均勻化。

11、本發(fā)明的一方面所涉及的膠黏劑膜的制造方法包括：送出步驟，以規(guī)定的搬運(yùn)速度送出在一面?zhèn)仍O(shè)置有黏合層的長(zhǎng)條的基材膜；層疊步驟，在黏合層層疊壓敏膠黏劑膜；切斷步驟，以規(guī)定的圖案預(yù)切黏合層及壓敏膠黏劑膜；剝離步驟，從基材膜的一面?zhèn)葎冸x黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分，在基材膜的一面?zhèn)刃纬裳刂哪さ难由旆较蛳嗷シ珠_(kāi)配置的多個(gè)功能層及以包圍功能層的方式相對(duì)于基材膜的寬度方向?qū)ΨQ(chēng)地配置的多個(gè)保護(hù)層；及卷取步驟，將在剝離步驟中獲得的膠黏劑膜卷取成卷狀，在切斷步驟中，以功能層在基材膜的俯視下呈圓形狀，且保護(hù)層在基材膜的俯視下具有沿著基材膜的延伸方向的直線部分及與功能層的圓周相面對(duì)的直線部分的方式預(yù)切黏合層及壓敏膠黏劑膜。

12、在該膠黏劑膜的制造方法中，在黏合層及壓敏膠黏劑膜的預(yù)切中，在保護(hù)層上形成沿著基材膜的延伸方向的直線部分及與功能層的圓周相面對(duì)的直線部分。通過(guò)這種結(jié)構(gòu)，與使保護(hù)層沿著功能層的圓周的情況相比，能夠確保黏合層及壓敏膠黏劑膜的不需要部分的面積，進(jìn)而能夠在其形狀中包含直線部分。能夠使從基材膜的一面?zhèn)葎冸x時(shí)施加于不需要部分的力均勻化，即使在以一定的搬運(yùn)速度卷取膠黏劑膜的同時(shí)進(jìn)行不需要部分的剝離的情況下，也能夠抑制在不需要部分中產(chǎn)生破裂或缺損等不良情況。通過(guò)以一定的搬運(yùn)速度連續(xù)卷取膠黏劑膜而不產(chǎn)生不良情況，從而實(shí)現(xiàn)制造效率的提高。

13、發(fā)明效果

14、根據(jù)本發(fā)明，即使在以一定的搬運(yùn)速度進(jìn)行卷取并且進(jìn)行不需要部分的剝離的情況下，也能夠抑制不需要部分的破裂或缺損，從而實(shí)現(xiàn)制造效率的提高。

技術(shù)特征：

1.一種膠黏劑膜，其具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膠黏劑膜，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膠黏劑膜，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的膠黏劑膜，其中，

5.一種膠黏劑膜的制造方法，其包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的膠黏劑膜的制造方法，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的膠黏劑膜的制造方法，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的膠黏劑膜的制造方法，其中，

技術(shù)總結(jié)
膠黏劑膜(1)具有：由黏合層(3)及壓敏膠黏劑膜(4)構(gòu)成，且沿著基材膜(2)的延伸方向相相互分開(kāi)配置的多個(gè)功能層(11)；及由黏合層(3)及壓敏膠黏劑膜(4)構(gòu)成，且以包圍功能層(11)的方式相對(duì)于基材膜(2)的寬度方向?qū)ΨQ(chēng)地配置的多個(gè)保護(hù)層(12)。功能層(11)在基材膜(2)的俯視下呈圓形狀。保護(hù)層(12)在基材膜(2)的俯視下具有沿著基材膜(2)的延伸方向的直線部分(13A)及與功能層(11)的圓周相面對(duì)的直線部分(13B)。

技術(shù)研發(fā)人員：茶花幸一,原田知典,岡山純
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社力森諾科
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/23