本發(fā)明涉及玻璃生產(chǎn)，具體涉及一種euv氧化易清洗鍍膜層及其制備方法和應(yīng)用。

背景技術(shù)：

1、在tft-lcd等顯示器件的生產(chǎn)過程中，玻璃基板作為關(guān)鍵原材料，其質(zhì)量直接影響到最終產(chǎn)品的性能和良率。因此，在玻璃基板的運(yùn)輸、存儲(chǔ)及加工階段，采取有效的保護(hù)措施至關(guān)重要。這些措施旨在防止玻璃基板表面出現(xiàn)劃傷、污染等質(zhì)量問題，確保生產(chǎn)過程的順利進(jìn)行。

2、目前為了隔離玻璃基板，避免玻璃基板相互之間的直接接觸，生產(chǎn)過程中普遍采用間隔紙作為隔離材料。雖然傳統(tǒng)間隔紙能夠在一定程度上保護(hù)tft玻璃基板，但也存在諸多缺點(diǎn)：首先，隔離紙價(jià)格較高，增加了生產(chǎn)成本；其次，在下游工廠工藝引入玻璃基板時(shí)需要人工或機(jī)械方式去除間隔紙，操作較為復(fù)雜，降低生產(chǎn)效率；最為重要的是，間隔紙?jiān)谑褂眠^程中可能引入額外的污染，影響玻璃基板的潔凈度。

3、隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，面板廠中的array(陣列)工藝和cf(彩膜)工藝對玻璃基板的要求越來越高。在這兩個(gè)關(guān)鍵工藝前，需要對玻璃基板進(jìn)行euv照射，以實(shí)現(xiàn)精細(xì)的圖案化處理。照射完成后，玻璃基板表面會(huì)殘留一定的污染物，因此必須進(jìn)行清洗。因此在此基礎(chǔ)上，開發(fā)一種與euv清洗工藝兼容且易于清洗的鍍膜層，成為玻璃基板包裝的新方向。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種euv氧化易清洗鍍膜層及其制備方法和應(yīng)用，該鍍膜層能夠替代傳統(tǒng)間隔紙，有效保護(hù)玻璃基板表面，同時(shí)在euv光照射下能夠迅速氧化降解，易于清洗，實(shí)現(xiàn)便捷、無殘留的清洗效果。

2、本發(fā)明的技術(shù)方案為：

3、第一方面，本發(fā)明提供了一種euv氧化易清洗鍍膜層，包括以下質(zhì)量百分比的組分：鈦酸四丁酯5-15％、感光樹脂聚合物基體10-20％、表面活性劑1-3％、流平劑2-5％、消泡劑2-5％和溶劑65-80％。

4、其中，對euv光敏感的金屬化合物鈦酸四丁酯及感光樹脂聚合物基體，在euv光照射下能夠迅速發(fā)生氧化反應(yīng)，導(dǎo)致鍍膜層結(jié)構(gòu)被破壞，變得易于清洗。同事，感光樹脂聚合物基體還能為鍍膜層提供較好的穩(wěn)定性和附著性，確保鍍膜層在正常使用過程中不會(huì)脫落或損壞。而表面活性劑、流平劑、消泡劑等添加劑則可以改善鍍膜液的穩(wěn)定性和涂布效果。

5、優(yōu)選地，所述感光樹脂聚合物基體為聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇環(huán)縮醛苯乙烯基吡啶鹽樹脂和聚酰亞胺樹脂中的一種或多種。

6、優(yōu)選地，所述表面活性劑為對十二烷基硫酸鈉。

7、優(yōu)選地，所述流平劑為對全氟壬氧基苯磺酸鈉。

8、優(yōu)選地，所述消泡劑為聚氧丙烯氧化乙烯甘油。

9、優(yōu)選地，所述溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯。

10、第二方面，本發(fā)明提供了上述euv氧化易清洗鍍膜層的制備方法，包括以下步驟：

11、s1將除溶劑外的各組分混合后溶于溶劑中，形成均勻的鍍膜液；

12、s2將鍍膜液均勻涂覆于玻璃基板表面；

13、s3將鍍膜液固化在玻璃基板表面，形成鍍膜層。

14、優(yōu)選地，步驟s2中，鍍膜液的涂覆方式為旋涂、噴涂或浸涂。

15、優(yōu)選地，步驟s3中，鍍膜液的固化方式為加熱、紫外線固化或自然干燥。

16、第三方面，本發(fā)明提供了上述euv氧化易清洗鍍膜層的應(yīng)用，所述鍍膜層代替間隔紙作為玻璃基板間的隔離材料，需要去除時(shí)，通過euv光照射使其氧化降解后再進(jìn)行清洗即可。

17、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下有益效果：

18、本發(fā)明的鍍膜層一是能夠有效隔絕空氣中的塵埃、水汽等污染物，保護(hù)tft玻璃基板表面，具有良好的防護(hù)性能，能有效防止運(yùn)輸、存儲(chǔ)及加工階段對玻璃基板的損害；二是與euv清洗工藝兼容，在euv光照射下，鍍膜層中的金屬化合物及感光樹脂聚合物基體迅速氧化，導(dǎo)致鍍膜層結(jié)構(gòu)被破壞，變得易于清洗，可通過簡單的清洗步驟(如水洗、氣吹等)徹底去除，無需復(fù)雜工藝；三是成本較低，且無需人工或機(jī)械方式去除間隔紙，操作簡便，有利于提高生產(chǎn)效率和降低生產(chǎn)成本。因此，采用本發(fā)明的鍍膜層替代傳統(tǒng)間隔紙進(jìn)行tft玻璃基板的包裝和運(yùn)輸，不僅降低了材料成本，還避免了間隔紙可能引入的污染問題。同時(shí)，在后續(xù)客戶加工過程中，鍍膜層能夠在euv清洗工藝下迅速氧化并變得易于清洗，實(shí)現(xiàn)快速、無殘留的清洗效果，提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)特征：

1.euv氧化易清洗鍍膜層，其特征在于，包括以下質(zhì)量百分比的組分：鈦酸四丁酯5-15％、感光樹脂聚合物基體10-20％、表面活性劑1-3％、流平劑2-5％、消泡劑2-5％和溶劑65-80％。

2.如權(quán)利要求1所述的euv氧化易清洗鍍膜層，其特征在于，所述感光樹脂聚合物基體為聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇環(huán)縮醛苯乙烯基吡啶鹽樹脂和聚酰亞胺樹脂中的一種或多種。

3.如權(quán)利要求1所述的euv氧化易清洗鍍膜層，其特征在于，所述表面活性劑為對十二烷基硫酸鈉。

4.如權(quán)利要求1所述的euv氧化易清洗鍍膜層，其特征在于，所述流平劑為對全氟壬氧基苯磺酸鈉。

5.如權(quán)利要求1所述的euv氧化易清洗鍍膜層，其特征在于，所述消泡劑為聚氧丙烯氧化乙烯甘油。

6.如權(quán)利要求1所述的euv氧化易清洗鍍膜層，其特征在于，所述溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯。

7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的euv氧化易清洗鍍膜層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

8.如權(quán)利要求1所述的euv氧化易清洗鍍膜層的制備方法，其特征在于，步驟s2中，鍍膜液的涂覆方式為旋涂、噴涂或浸涂。

9.如權(quán)利要求1所述的euv氧化易清洗鍍膜層的制備方法，其特征在于，步驟s3中，鍍膜液的固化方式為加熱、紫外線固化或自然干燥。

10.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的euv氧化易清洗鍍膜層的應(yīng)用，其特征在于，所述鍍膜層代替間隔紙作為玻璃基板間的隔離材料，需要去除時(shí)，通過euv光照射使其氧化降解后再進(jìn)行清洗即可。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種EUV氧化易清洗鍍膜層及其制備方法和應(yīng)用，涉及玻璃生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。其技術(shù)方案為：包括以下質(zhì)量百分比的組分：鈦酸四丁酯5?15％、感光樹脂聚合物基體10?20％、表面活性劑1?3％、流平劑2?5％、消泡劑2?5％和溶劑65?80％。本發(fā)明的鍍膜層能夠替代傳統(tǒng)間隔紙，有效保護(hù)玻璃基板表面，同時(shí)在EUV光照射下能夠迅速氧化降解，易于清洗，實(shí)現(xiàn)便捷、無殘留的清洗效果。

技術(shù)研發(fā)人員：張穩(wěn)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：四川蜀旺辰昇新材料有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9