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壓電陶瓷超聲霧化片的制作方法

文檔序號(hào):3791008閱讀:227來(lái)源:國(guó)知局
壓電陶瓷超聲霧化片的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種壓電陶瓷超聲霧化片,主要包括有至少一片金屬膜片和至少一片壓電陶瓷環(huán)片。金屬膜片上中心設(shè)有一含有密集霧化孔的區(qū)域,壓電陶瓷環(huán)片設(shè)有通孔;所述的密集霧化孔區(qū)域面積小于等于所述的壓電陶瓷環(huán)片通孔覆蓋的面積;所述的金屬膜片與所述的壓電陶瓷環(huán)片通過(guò)粘結(jié)劑粘結(jié)在一起;所述的金屬膜片上密集霧化孔區(qū)域中的霧化孔可以是錐形孔,也可以是圓弧母線錐狀孔。本實(shí)用新型提出了一種具有特殊霧化孔孔徑設(shè)計(jì)的壓電陶瓷超聲霧化片,在霧化孔的分布區(qū)域中內(nèi)外層孔徑大小是不一致的,霧化孔孔徑由內(nèi)而外是不斷增加的。采用這種設(shè)計(jì)可以有效避免因霧化片工作中存在變形不均造成的霧化顆粒大小不一、霧化效果不理想的缺點(diǎn)。
【專利說(shuō)明】壓電陶瓷超聲霧化片
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種將液體進(jìn)行霧化的裝置,尤其涉及一種采用壓電陶瓷換能器進(jìn)行超聲霧化的霧化片。
【背景技術(shù)】
[0002]生活中,人為地將液體打散細(xì)化成微小顆粒狀的過(guò)程,稱之為“霧化”。實(shí)現(xiàn)霧化的裝置有很多,比如,廣泛使用的壓縮型霧化器,以及現(xiàn)階段快速發(fā)展的壓電式霧化裝置。作為一種容積式霧化裝置是壓縮型霧化工程需要人力或電機(jī)帶動(dòng)來(lái)實(shí)現(xiàn)容積的交替變化,因此結(jié)構(gòu)上較為復(fù)雜且不易小型化。
[0003]近些年,隨著壓電材料以及理論的不斷發(fā)展和成熟,各種結(jié)構(gòu)的壓電式霧化裝置不斷被提出。與壓縮型霧化裝置不同,壓電式霧化裝置不需要外力的驅(qū)動(dòng),所以結(jié)構(gòu)上更為簡(jiǎn)單,易于小型化和微型化的實(shí)現(xiàn)。但需要注意的是,現(xiàn)階段使用的壓電式霧化器在霧化過(guò)程中存在著霧化顆粒大小不均、霧化效果不佳的問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型目的在于提出了一種霧化孔孔徑大小分布不一致的壓電陶瓷霧化片,用以解決現(xiàn)階段霧化片工作中存在的霧化顆粒大小不均,霧化效果不理想的問(wèn)題。
[0005]第一種壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:包括第一金屬膜片和第一壓電陶瓷環(huán)片;所述的第一金屬膜片和所述的第一壓電陶瓷環(huán)片通過(guò)粘結(jié)劑粘結(jié)在一起;所述的第一壓電陶瓷環(huán)片上設(shè)有第一通孔;所述的第一金屬膜片上設(shè)有第一密集霧化孔區(qū)域,第一密集霧化孔區(qū)域位置和第一通孔位置對(duì)應(yīng),且第一密集霧化孔區(qū)域的面積小于等于第一通孔的面積;所述第一密集霧化孔區(qū)域的霧化孔朝向第一通孔一側(cè)為第一開(kāi)口,霧化孔背向第一通孔一側(cè)為第二開(kāi)口 ;第一開(kāi)口直徑小于第二開(kāi)口直徑;上述霧化口的直徑由第一密集霧化孔區(qū)域中心向外側(cè)不斷增大。
[0006]第二種壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:包括有第二金屬膜片和第二壓電陶瓷環(huán)片及第三壓電陶瓷環(huán)片;所述的第二壓電陶瓷環(huán)片和第三壓電陶瓷環(huán)片位于所述的第二金屬膜片的兩側(cè);所述的第二金屬膜片和所述的第二壓電陶瓷環(huán)片、第三壓電陶瓷環(huán)片通過(guò)粘結(jié)劑粘結(jié)在一起;所述的第二壓電陶瓷環(huán)片上設(shè)有第二通孔,所述的第三壓電陶瓷環(huán)片上設(shè)有第三通孔,所述的第二金屬膜片上設(shè)有第二密集霧化孔區(qū)域,第二密集霧化孔區(qū)域位置和第二通孔、第三通孔位置對(duì)應(yīng),且第二密集霧化孔區(qū)域的面積小于等于第二通孔、第三通孔的面積;所述第二密集霧化孔區(qū)域的霧化孔朝向第二壓電陶瓷環(huán)片一側(cè)或第三壓電陶瓷環(huán)片一側(cè)的開(kāi)口為霧化口,上述霧化口的直徑由第二密集霧化孔區(qū)域中心向外側(cè)不斷增大。
[0007]第三種壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:包括有第三金屬膜片、第四金屬膜片和第四壓電陶瓷環(huán)片、第五壓電陶瓷環(huán)片、第六壓電陶瓷環(huán)片;所述的第四壓電陶瓷環(huán)片、第三金屬膜片、第五壓電陶瓷環(huán)片、第四金屬膜片和第六壓電陶瓷環(huán)片依次粘結(jié)在一起,所述的第三金屬膜片上設(shè)有第三密集霧化孔區(qū)域;所述的第四金屬膜片上設(shè)有第四密集霧化孔區(qū)域;所述的第四壓電陶瓷環(huán)片上設(shè)有第四通孔;所述的第五壓電陶瓷環(huán)片上設(shè)有第五通孔;所述的第六壓電陶瓷環(huán)片上設(shè)有第六通孔;所述的第三密集霧化孔區(qū)域、第四密集霧化孔區(qū)域和所述的第四通孔、第五通孔、第六通孔之間的位置對(duì)應(yīng)并對(duì)齊;所述的第四通孔、第五通孔、第六通孔的面積大于等于所述的第三密集霧化孔區(qū)域、第四密集霧化孔區(qū)域的面積;所述的第三金屬膜片上的霧化孔的霧化口的朝向和第四金屬膜片上的霧化孔的霧化口的朝向相同;上述第三金屬膜片上的霧化口的直徑由第三密集霧化孔區(qū)域中心向外側(cè)不斷增大,第四金屬膜片上的霧化口的直徑由第四密集霧化孔區(qū)域中心向外側(cè)不斷增大。
[0008]更進(jìn)一步地,所述的通孔為圓形,或矩形,或橢圓形,或其他形狀。
[0009]更進(jìn)一步地,所述金屬膜片上分布的密集霧化孔的形狀可以錐形的,也可以是圓弧母線錐狀孔(孔形狀的外圍母線是弧線而不是直線)。
[0010]更進(jìn)一步地,所述的霧化孔的霧化開(kāi)口的變化不一定是嚴(yán)格線性的。孔徑增加過(guò)程可以視金屬膜片的彎曲變形情況進(jìn)行確定。
[0011]本實(shí)用新型提出的內(nèi)外不等徑壓電陶瓷超聲霧化片是在考慮了霧化片中金屬膜片變形不均的情況,通過(guò)利用彎曲變形不均的作用效果提出來(lái)的。在不同的變形作用下,霧化孔結(jié)構(gòu)參數(shù)發(fā)生改變,通過(guò)利用這個(gè)改變?cè)O(shè)計(jì)出不同孔徑的霧化孔實(shí)現(xiàn)了霧化顆粒的均勻化,提高霧化效果。
[0012]有益效果
[0013]通過(guò)利用霧化片中金屬膜片彎曲變形分布不均,充分利用金屬膜片彎曲不均的作用效果,設(shè)計(jì)出一種內(nèi)外不等徑霧化孔壓電陶瓷超聲霧化片。與現(xiàn)階段使用的壓電陶瓷超聲霧化片工作情況相比,本實(shí)用新型在工作中可以很好的實(shí)現(xiàn)霧化顆粒的大小均勻,霧化效果理想。
[0014]【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1現(xiàn)階段使用的壓電陶瓷超聲霧化片結(jié)構(gòu)示意圖
[0016]圖2壓電陶瓷超聲霧化片運(yùn)動(dòng)效果圖(向下彎曲)
[0017]圖3壓電陶瓷超聲霧化片運(yùn)動(dòng)效果圖(向上彎曲)
[0018]圖4霧化片向下彎曲時(shí)霧化孔受力情況示意圖
[0019]圖5霧化片向上彎曲時(shí)霧化孔受力情況示意圖
[0020]圖6錐形霧化孔的結(jié)構(gòu)示意圖
[0021]圖7圓弧母線錐狀霧化孔的結(jié)構(gòu)示意圖
[0022]圖8霧化片向上彎曲時(shí)錐形霧化孔最終變形示意圖
[0023]圖9霧化片向下彎曲時(shí)錐形霧化孔最終變形示意圖
[0024]圖10現(xiàn)階段使用的霧化片內(nèi)層霧化孔實(shí)現(xiàn)霧化時(shí)霧化孔的變形情況示意圖
[0025]圖11現(xiàn)階段使用的霧化片中間層霧化孔實(shí)現(xiàn)霧化時(shí)霧化孔的變形情況示意圖
[0026]圖12現(xiàn)階段使用的霧化片外層霧化孔實(shí)現(xiàn)霧化時(shí)霧化孔的變形情況示意圖
[0027]圖13本實(shí)用新型提出的壓電陶瓷超聲霧化片各區(qū)域分布示意圖
[0028]圖14本實(shí)用新型提出的第一類型壓電陶瓷超聲霧化片結(jié)構(gòu)示意圖(采用一片金屬膜片和一片壓電陶瓷環(huán)片)
[0029]圖15采用圓弧母線錐狀霧化孔的本實(shí)用新型第一種類型壓電陶瓷超聲霧化片結(jié)構(gòu)示意圖
[0030]圖16本實(shí)用新型提出的第二種類型壓電陶瓷超聲霧化片結(jié)構(gòu)示意圖(采用一片金屬膜片和兩片壓電陶瓷環(huán)片)
[0031]圖17本實(shí)用新型提出的第三種類型壓電陶瓷超聲霧化片結(jié)構(gòu)示意圖(采用兩片金屬膜片和三片壓電陶瓷環(huán)片)
[0032]圖18本實(shí)用新型在給出的實(shí)施例中內(nèi)層霧化孔實(shí)現(xiàn)霧化時(shí)的變形情況示意圖
[0033]圖19本實(shí)用新型在給出的實(shí)施例中中間層霧化孔實(shí)現(xiàn)霧化時(shí)的變形情況示意圖
[0034]圖20本實(shí)用新型在給出的實(shí)施例中外層霧化孔實(shí)現(xiàn)霧化時(shí)的變形情況示意圖
[0035]圖中標(biāo)號(hào)名稱:1、第一金屬膜片;2、第一壓電陶瓷環(huán)片;3、第一密集霧化孔區(qū)域;4、第一通孔;5、第一開(kāi)口 ; 6、第二開(kāi)口 ;001、中性層上端材料;002、中性層下端材料;100、第二金屬膜片;200、第二壓電陶瓷環(huán)片;201、第三壓電陶瓷環(huán)片;3’、第二密集霧化孔區(qū)域;4’、第二通孔;4”、第三通孔;101、第三金屬膜片;102、第四金屬膜片;202、第四壓電陶瓷環(huán)片;203、第五壓電陶瓷環(huán)片;204、第六壓電陶瓷環(huán)片;33’、第三密集霧化孔區(qū)域;33”、第四密集霧化孔區(qū)域;44、第四通孔;45、第五通孔;46、第六通孔;11、本實(shí)用新型在實(shí)施例中的內(nèi)層霧化孔;22、本實(shí)用新型在實(shí)施例中的中間層霧化孔;33、本實(shí)用新型在實(shí)施例中的外層霧化孔。
【具體實(shí)施方式】
[0036]通過(guò)對(duì)壓電式霧化器核心部件一壓電陶瓷超聲霧化片(如圖1所示)的作動(dòng)研究,我們發(fā)現(xiàn)霧化片在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中金屬膜片存在著彎曲變形不均的現(xiàn)象。金屬膜片上霧化孔分布區(qū)域存在著中心區(qū)域內(nèi)變形量大,霧化孔區(qū)域邊緣部分變形較小,變形量由中心向外不斷減小的特點(diǎn),具體變形情況如圖2、3所示。
[0037]根據(jù)彈性力學(xué)中板殼彎曲變形的相關(guān)知識(shí)可知,當(dāng)金屬膜片做彎曲運(yùn)動(dòng)時(shí),在金屬膜片厚度方向上存在一個(gè)中性層0-0 (物理上不存在),中性層上方與下方的受力情況是不一致的(箭頭表示受力方向)。金屬膜片向下彎曲時(shí),中性層上端材料001受壓,下端材料002受拉,作用效果如圖4所示;反之,當(dāng)金屬膜片向上彎曲時(shí),中性層上端材料001受拉,下端材料002受壓,作用效果如圖5所示。
[0038]金屬膜片彎曲變形的不一致以及上下端材料(001和002)受力方向的不一致,直接對(duì)金屬膜片中霧化孔的工作狀態(tài)造成影響并最終決定了霧化效果。為了更好的說(shuō)明,我們結(jié)合圖6、7、8、9進(jìn)行闡述。如圖6所示,霧化孔結(jié)構(gòu)呈錐形、錐孔小徑端直徑為 <,錐孔大徑端直徑為?中性層為0-0,中性層上方的霧化孔腔體體積力P;下方體積為K。當(dāng)金屬膜片向下彎曲時(shí),中性層上端材料001受壓,下端材料002受拉,霧化孔小徑端直徑因壓力作用縮小變?yōu)?lt;,大徑端直徑因拉力作用擴(kuò)大變?yōu)镮中性層上方腔體體積變?yōu)閂1'丨‘,下方腔體體積變?yōu)镕2'',如圖9所示;反之,當(dāng)金屬膜片向上彎曲時(shí),中性層上端材料001受拉,下端材料002受壓,霧化孔小徑端直徑受拉力作用擴(kuò)大變?yōu)?lt;,大徑端直徑因壓力作用縮小力\,中性層上方腔體體積變?yōu)镵,下方腔體體積變力V1'如圖8所示。對(duì)于從霧化孔小徑一側(cè)霧化(錐角β滿足34。<θ<90°>的霧化片來(lái)說(shuō),通過(guò)積分計(jì)算有< <? > ? + < > V; +F2'。由< + ^ >攻+g可知,霧化片向下彎曲運(yùn)動(dòng)時(shí),霧化孔的體積< + <相對(duì)于霧化片向上彎曲時(shí)的體積是增大的,所以當(dāng)金屬膜片由向上彎曲轉(zhuǎn)為向下彎曲方向運(yùn)動(dòng)時(shí),霧化孔體積增大,霧化孔從外部吸入液體,為吸程;當(dāng)金屬膜片由向下彎曲轉(zhuǎn)為向上彎曲方向運(yùn)動(dòng)時(shí),霧化孔體積減小,霧化孔內(nèi)液體被排出,在霧化片的第一開(kāi)口有霧滴產(chǎn)生,為排程。綜上分析可知,最終霧化的霧化顆粒大小是由第一開(kāi)口在排程階段的孔徑^決定的。對(duì)于采用圓弧母線錐狀霧化孔(圖7)的霧化片,其作用效果與原理也是一樣的,在這不再贅述。
[0039]通過(guò)上述分析可知,現(xiàn)階段使用的霧化片(圖1)孔徑是完全一致的,所以在金屬膜片內(nèi)外變形劇烈程度不一致的條件下,霧化孔區(qū)域中內(nèi)外層的霧化孔在排程階段的第一開(kāi)口孔徑4是不一致的(圖10-12所示),進(jìn)而造成霧化顆粒大小不一,霧化效果不佳。
[0040]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例做詳細(xì)的說(shuō)明:本實(shí)施例是以本實(shí)用新型提出的第一種類型壓電陶瓷霧化片(只包括一片第一金屬膜片和一片第一壓電陶瓷環(huán)片組成)結(jié)構(gòu)下進(jìn)行實(shí)施的且采用的霧化孔為錐形孔。下面給出了詳細(xì)的問(wèn)題分析和實(shí)施分析,但必須指出的是本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不限于本實(shí)施例。
[0041]圖13和圖14給出了本實(shí)施例中本實(shí)用新型的各區(qū)域分布示意圖和剖視圖。如圖13,14所示,本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)中主要包括有:第一金屬膜片1、第一壓電陶瓷環(huán)片2。第一金屬膜片I上有第一密集霧化孔區(qū)域3,第一密集霧化孔區(qū)域3由中心向外有不同結(jié)構(gòu)參數(shù)的霧化孔,分別編號(hào)為霧化孔11、霧化孔22、霧化孔33,采用的霧化孔是錐形的,所有的霧化孔都設(shè)有第一開(kāi)口 5和第二開(kāi)口 6,第一壓電陶瓷環(huán)片2上設(shè)有第一通孔4,第一金屬膜片I上第一密集霧化孔區(qū)域3的面積小于等于第一通孔4所覆蓋的面積。第一金屬膜片I和第一壓電陶瓷環(huán)片2通過(guò)粘結(jié)劑粘結(jié)在一起。
[0042]在交流電作用下第一壓電陶瓷環(huán)片2因逆壓電效應(yīng)作用將產(chǎn)生沿徑向的振動(dòng),進(jìn)而帶著第一金屬膜片I做向上或者向下彎曲的運(yùn)動(dòng),運(yùn)動(dòng)效果可以參照?qǐng)D2和圖3。從圖中我們可以看出,第一金屬膜片I彎曲變形量由中心向外不斷減小,中間部分彎曲變形最為劇烈。
[0043]本實(shí)用新型提出的霧化片中內(nèi)層霧化孔11的第一開(kāi)口 5直徑為‘中間層霧化孔22的第一開(kāi)口 5直徑為J22,外層霧化孔33的第一開(kāi)口直徑為4,且滿足4。由于在工作排程中因第一密集霧化孔區(qū)域3中的變形的劇烈程度由中心向外是不斷減小,所以d11張最為劇烈變?yōu)槭?,4次之,擴(kuò)張為擴(kuò)張最少變?yōu)镾33,最終實(shí)現(xiàn)有J11? d22 rndw這樣從第一開(kāi)口 5噴出的霧化顆粒大小均勻,霧化效果更為理想。
【權(quán)利要求】
1.一種壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:包括第一金屬膜片(I)和第一壓電陶瓷環(huán)片(2);所述的第一金屬膜片(I)和所述的第一壓電陶瓷環(huán)片(2)通過(guò)粘結(jié)劑粘結(jié)在一起;所述的第一壓電陶瓷環(huán)片(2)上設(shè)有第一通孔(4);所述的第一金屬膜片(I)上設(shè)有第一密集霧化孔區(qū)域(3),第一密集霧化孔區(qū)域(3)位置和第一通孔(4)位置對(duì)應(yīng),且第一密集霧化孔區(qū)域(3)的面積小于等于第一通孔(4)的面積;所述第一密集霧化孔區(qū)域(3)的霧化孔朝向第一通孔(4) 一側(cè)為第一開(kāi)口(5),霧化孔背向第一通孔(4) 一側(cè)為第二開(kāi)口(6);第一開(kāi)口(5)直徑小于第二開(kāi)口(6)直徑;上述霧化口的直徑由第一密集霧化孔區(qū)域(3)中心向外側(cè)不斷增大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述第一通孔(4)為圓形,或矩形,或橢圓形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述霧化孔為錐形孔,或圓弧母線錐狀孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述霧化口直徑變化是非線性的。
5.一種壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:包括有第二金屬膜片(100)和第二壓電陶瓷環(huán)片(200)及第三壓電陶瓷環(huán)片(201);所述的第二壓電陶瓷環(huán)片(200)和第三壓電陶瓷環(huán)片(201)位于所述的第二金屬膜片(100)的兩側(cè);所述的第二金屬膜片(100)和所述的第二壓電陶瓷環(huán)片(200)、第三壓電陶瓷環(huán)片(201)通過(guò)粘結(jié)劑粘結(jié)在一起;所述的第二壓電陶瓷環(huán)片(200)上設(shè)有第二通孔(4’),所述的第三壓電陶瓷環(huán)片(201)上設(shè)有第三通孔(4”),所述的第二金屬膜片(100)上設(shè)有第二密集霧化孔區(qū)域(3’),第二密集霧化孔區(qū)域(3’)位置 和第二通孔(4’)、第三通孔(4”)位置對(duì)應(yīng),且第二密集霧化孔區(qū)域(3’)的面積小于等于第二通孔(4’)、第三通孔(4”)的面積;所述第二密集霧化孔區(qū)域(3’)的霧化孔朝向第二壓電陶瓷環(huán)片(200)—側(cè)或第三壓電陶瓷環(huán)片(201)—側(cè)的開(kāi)口為霧化口,上述霧化口的直徑由第二密集霧化孔區(qū)域(3’)中心向外側(cè)不斷增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述第二通孔(4’)或第三通孔(4’ ’)為圓形,或矩形,或橢圓形。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述霧化孔為錐形孔,或圓弧母線錐狀孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述霧化口直徑變化是非線性的。
9.一種壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:包括有第三金屬膜片(101)、第四金屬膜片(102)和第四壓電陶瓷環(huán)片(202)、第五壓電陶瓷環(huán)片(203)、第六壓電陶瓷環(huán)片(204);所述的第四壓電陶瓷環(huán)片(202)、第三金屬膜片(101)、第五壓電陶瓷環(huán)片(203)、第四金屬膜片(102)和第六壓電陶瓷環(huán)片(204)依次粘結(jié)在一起,所述的第三金屬膜片(101)上設(shè)有第三密集霧化孔區(qū)域(33’);所述的第四金屬膜片(102)上設(shè)有第四密集霧化孔區(qū)域(33”);所述的第四壓電陶瓷環(huán)片(202)上設(shè)有第四通孔(44);所述的第五壓電陶瓷環(huán)片(203)上設(shè)有第五通孔(45);所述的第六壓電陶瓷環(huán)片(204)上設(shè)有第六通孔(46);所述的第三密集霧化孔區(qū)域(33’)、第四密集霧化孔區(qū)域(33”)和所述的第四通孔(44)、第五通孔(45)、第六通孔(46)之間的位置對(duì)應(yīng)并對(duì)齊;所述的第四通孔(44)、第五通孔(45)、第六通孔(46)的面積大于等于所述的第三密集霧化孔區(qū)域(33’)、第四密集霧化孔區(qū)域(33”)的面積;所述的第三金屬膜片(101)上的霧化孔的霧化口的朝向和第四金屬膜片(102)上的霧化孔的霧化口的朝向相同;上述第三金屬膜片(101)上的霧化口的直徑由第三密集霧化孔區(qū)域(33’)中心向外側(cè)不斷增大,第四金屬膜片(102)上的霧化口的直徑由第四密集霧化孔區(qū)域(33”)中心向外側(cè)不斷增大。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述第四通孔(44)或第五通孔(45)或第六通孔(46)為圓形,或矩形,或橢圓形。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述霧化孔為錐形孔,或圓弧母線錐狀孔。
12.根據(jù)權(quán)利 要求9所述的壓電陶瓷超聲霧化片,其特征在于:所述霧化口直徑變化是非線性的。
【文檔編號(hào)】B05B17/06GK203437258SQ201320341177
【公開(kāi)日】2014年2月19日 申請(qǐng)日期:2013年6月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月14日
【發(fā)明者】陳道根, 張建輝, 曹炳鑫, 黃 俊 申請(qǐng)人:南京航空航天大學(xué)
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