帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，包括：硅片承片臺、真空吸片結(jié)構(gòu)和傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)；所述硅片承片臺包括：硅片承載平面、儲膠槽和凸臺；所述真空吸片結(jié)構(gòu)包括：上端和真空吸片口，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm；所述傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)安裝在所述凸臺的頂部，位于所述儲膠槽內(nèi)。通過上述方式，本發(fā)明能夠有效保護(hù)真空吸片口，阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內(nèi)，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導(dǎo)致的吸力不足或堵塞，避免了對勻膠臺的損傷。
【專利說明】帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及勻膠機(jī)設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的光刻膠勻膠臺采用真空吸片的方式吸住硅片，但現(xiàn)有的硅片承片臺無法有效的阻擋光刻膠在甩動過程中滲入真空吸片口中，如圖1所示的現(xiàn)有技術(shù)，硅片與真空吸片口直接接觸，勻膠機(jī)在高速旋轉(zhuǎn)過程中，光刻膠受旋轉(zhuǎn)離心力和表面張力的聯(lián)合作用，被展開成一層薄膜，其中甩動過程中被甩出至硅片邊緣的膠滴，由于硅片邊緣與承片臺吸片口的壓力差和膠體的表面張力的作用，部分硅片邊緣的膠滴會沿著硅片的背面被吸入真空吸片口中，從而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，從而造成光刻膠薄膜的均勻性變差，同時會對勻膠臺造成損傷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，能夠有效保護(hù)真空吸片口，阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內(nèi)，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導(dǎo)致的吸力不足或堵塞，避免了對勻膠臺的損傷。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，包括:硅片承片臺、真空吸片結(jié)構(gòu)和傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)；所述硅片承片臺包括:硅片承載平面、儲膠槽和凸臺，所述硅片承載平面位于所述硅片承片臺的上端，所述硅片承載平面為一圓形水平面，所述儲膠槽為沿著硅片承載平面的圓心開設(shè)的圓形杯體結(jié)構(gòu)的凹槽，所述凸臺位于所述儲膠槽的中間；
所述真空吸片結(jié)構(gòu)包括:上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸臺內(nèi)，所述真空吸片口位于所述上端的頂部，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm ；所述傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)安裝在所述凸臺的頂部，位于所述儲膠槽內(nèi)。
[0005]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述儲膠槽包括槽口和槽底，并且所述槽口的面積大于槽底的面積。
[0006]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述凸臺為圓臺型結(jié)構(gòu)，并且所述凸臺的頂端設(shè)有安裝孔。
[0007]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)包括:安裝軸和保護(hù)傘體，所述安裝軸的下端安裝在所述安裝孔中，所述保護(hù)傘體位于所述安裝軸的上端。
[0008]在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述真空吸片口的圓心與所述硅片承載平面的圓心
在同一垂直線上。
[0009]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，在硅片承片臺的中間開設(shè)一圓形杯體結(jié)構(gòu)的儲膠槽，使光刻膠在甩動過程中被甩出至硅片背面的膠水在重力的作用下首先流入到儲膠槽中，從而能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內(nèi)，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導(dǎo)致的吸力不足或堵塞；并且在凸臺的頂部安裝有傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)，一方面保護(hù)真空吸片口，徹底防止膠滴滴入，另一方面改變氣流方向，使儲膠槽和硅片形成的真空腔體內(nèi)形成一定的氣壓差，有效防止儲膠槽中的光刻膠在運動過程中回流至硅片背面。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是現(xiàn)有勻膠機(jī)托盤結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤一較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是圖2所示局部放大的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4是圖2所示處于工作狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖；
附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、硅片承片臺，2、真空吸片結(jié)構(gòu)，3、傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)，4、硅片，
5、氣流方向，10、硅片承載平面，11、儲膠槽，12、凸臺，20、上端，21、真空吸片口，30、安裝軸，31、保護(hù)體，110、槽口，111、槽底，120、安裝孔。
【具體實施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0012]請參閱圖2和圖3，本發(fā)明實施例包括:
一種帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，包括:硅片承片臺1、真空吸片結(jié)構(gòu)2和傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)3 ;所述硅片承片臺I包括:硅片承載平面10、儲膠槽11和凸臺12，所述硅片承載平面10位于所述硅片承片臺I的上端，所述硅片承載平面10為一圓形水平面，所述儲膠槽11為沿著硅片承載平面10的圓心開設(shè)的圓形杯體結(jié)構(gòu)的凹槽，所述凸臺12位于所述儲膠槽11的中間；所述真空吸片結(jié)構(gòu)2包括:上端20和真空吸片口 21，所述上端20位于所述凸臺12內(nèi)，所述真空吸片口 21位于所述上端20的頂部，并且所述真空吸片口 21與所述硅片承載平面10間的垂直距離大于3mm，兩者間留有一定的間隙，從而使光刻膠在甩動過程中被甩出至硅片背面的膠水在重力的作用下首先流入到儲膠槽11中，從而能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口 21內(nèi)；所述傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)3安裝在所述凸臺12的頂部，并位于所述儲膠槽11內(nèi)，從硅片承片平面邊緣向內(nèi)抽真空，避免了垂直向下抽氣易損傷真空吸片口 21，具有保護(hù)真空吸片口 21的作用。
[0013]其中，所述儲膠槽11包括槽口 110和槽底111，并且所述槽口 110的面積大于槽底111的面積，槽口 110的面積較大能保證勻膠機(jī)旋轉(zhuǎn)中甩出硅片邊緣的光刻膠全部滲入到儲膠槽11中。
[0014]所述凸臺12為圓臺型結(jié)構(gòu)，所述凸臺12的頂端設(shè)有安裝孔120，所述傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)3包括:安裝軸30和保護(hù)傘體31，所述安裝軸30的下端安裝在所述安裝孔120中，所述保護(hù)傘體31位于所述安裝軸30的上端，傘狀保護(hù)體31能避免位于儲膠槽11內(nèi)的光刻膠受離心力作用向四周甩動過程中再次被吸入真空吸片口 21內(nèi)，具有進(jìn)一步保護(hù)真空吸片口 21的作用。
[0015]所述真空吸片口 21的圓心與所述硅片承載平面10的圓心在同一垂直線上，即圓心對齊，以實現(xiàn)滴在硅片表面上的光刻膠在旋轉(zhuǎn)離心力和表面張力的聯(lián)合作用下的均勻涂覆并展成一層均勻的薄膜。[0016]工作過程如下:如圖4所示，首先把硅片4放置在硅片承載平面10上，并使兩者的圓心對齊，然后打開真空吸片結(jié)構(gòu)2，真空吸片口 21開始抽氣，使硅片4的背面及儲膠槽11形成一個真空腔體，從而大氣壓力差把硅片4牢牢吸附在硅片承載平面10上，然后在硅片4靜止或低速旋轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行滴膠，滴膠量根據(jù)光刻膠的粘度和硅片的大小來確定，滴膠結(jié)束后，勻膠機(jī)高速旋轉(zhuǎn)使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚。其中光刻膠在甩動過程中被甩出至硅片4背面的膠水在到達(dá)所述儲膠槽11的槽口 110時，由于儲膠槽11內(nèi)的氣壓低于儲膠槽11邊緣的氣壓，光刻膠滴在氣壓差和重力作用下克服表面張力，故膠滴會下滴至儲膠槽11中并儲存在其中，傘狀保護(hù)體31 —方面保護(hù)真空吸片口 21，徹底防止膠滴滴入，另一方面改變氣流方向，空氣從側(cè)下方往中間抽，使儲膠槽11和娃片4形成的真空腔體內(nèi)形成一定的氣壓差，有效防止儲膠槽11中的光刻膠在運動過程中回流至硅片4的背面。
[0017]以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，包括:硅片承片臺、真空吸片結(jié)構(gòu)和傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)； 所述硅片承片臺包括:硅片承載平面、儲膠槽和凸臺，所述硅片承載平面位于所述硅片承片臺的上端，所述硅片承載平面為一圓形水平面，所述儲膠槽為沿著硅片承載平面的圓心開設(shè)的圓形杯體結(jié)構(gòu)的凹槽，所述凸臺位于所述儲膠槽的中間； 所述真空吸片結(jié)構(gòu)包括:上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸臺內(nèi)，所述真空吸片口位于所述上端的頂部，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm ； 所述傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)安裝在所述凸臺的頂部，位于所述儲膠槽內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，所述儲膠槽包括槽口和槽底，并且所述槽口的面積大于槽底的面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，所述凸臺為圓臺型結(jié)構(gòu)，并且所述凸臺的頂端設(shè)有安裝孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，所述傘狀保護(hù)結(jié)構(gòu)包括:安裝軸和保護(hù)傘體，所述安裝軸的下端安裝在所述安裝孔中，所述保護(hù)傘體位于所述安裝軸的上端。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶保護(hù)結(jié)構(gòu)的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，所述真空吸片口的圓心與所述硅片承載平面的圓心在同一垂直線上。
【文檔編號】B05C11/08GK103691631SQ201310685554
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年12月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月16日
【發(fā)明者】花國然, 王強(qiáng), 朱海峰, 徐影, 鄧潔 申請人:南通大學(xué)