專利名稱：涂布設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及涂布技術(shù)，尤其涉及一種涂布設(shè)備。
背景技術(shù)：
在液晶和平板顯示制造領(lǐng)域，制造工藝中涉及多種涂布設(shè)備，如涂布感光材料 (PHOTO RESIST,PR)的涂布設(shè)備、密封(seal)膠的涂布設(shè)備等。制造工藝中采用的掩膜技 術(shù)，在基板上鍍相應(yīng)膜層后，需要涂布設(shè)備在基板上均勻涂冊，以通過光照反應(yīng)、化學(xué)品顯 像、濕刻，最終得到相應(yīng)膜層圖案。現(xiàn)有技術(shù)中，涂布設(shè)備包括狹縫噴嘴、噴嘴支架、連接板、微分調(diào)節(jié)器及涂布液輸 入管道。用涂布設(shè)備涂布ra時，狹縫噴嘴的兩端通過連接板固定在噴嘴支架上，微分調(diào)節(jié) 器用來調(diào)節(jié)狹縫噴嘴與待涂布ra的基板之間的距離，涂布液輸入管道設(shè)置在狹縫噴嘴頂 部，將I3R輸入到狹縫噴嘴中，然后I3R通過狹縫噴嘴涂布在基板上。密封膠等涂布液的涂布 設(shè)備也有類似結(jié)構(gòu)?，F(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷在于當(dāng)待涂布ra或密封膠等涂布液的基板上殘留有玻璃 碎屑類及類似于玻璃碎屑類等雜物時，涂布設(shè)備上的狹縫噴嘴易被這些雜物損壞，如，當(dāng)待 涂布ra或密封膠等涂布液的基板上有玻璃碎屑時，則狹縫噴嘴會在涂布ra或密封膠等涂 布液過程當(dāng)中受損，導(dǎo)致下次使用時出現(xiàn)涂布不良。且當(dāng)待涂布I3R或密封膠等涂布液的基 板上殘留有浮游性PARTICLE時，涂布ra或密封膠等涂布液會將PARTICLE蓋在I3R或密封 膠等涂布液下面，影響涂布在基板上的I3R或密封膠等涂布液平整度，造成工藝上的不良品 率增加，最終影響良品率。

實用新型內(nèi)容本實用新型提供一種涂布設(shè)備，用以克服現(xiàn)有技術(shù)中存在ra、密封膠等涂布不均 勻平整以及狹縫噴嘴受損的缺陷。本實用新型提供一種涂布設(shè)備，包括狹縫噴嘴，其中，所述狹縫噴嘴的一側(cè)設(shè)置有 清潔噴嘴，所述清潔噴嘴朝向待涂布的基板，尾部連接有氣體傳輸管道，所述清潔噴嘴與所 述氣體傳輸管道內(nèi)部連通。如上所述的涂布設(shè)備，其中，所述清潔噴嘴與所述氣體傳輸管道之間設(shè)有通槽，所 述清潔噴嘴固定在所述通槽的底面，所述通槽的頂部與所述氣體傳輸管道相連，所述清潔 噴嘴與所述通槽內(nèi)部連通，所述通槽與所述氣體傳輸管道內(nèi)部連通。清潔噴嘴及氣體傳輸管道可單獨設(shè)置，也可與狹縫噴嘴合體設(shè)置。當(dāng)清潔噴嘴與狹縫噴嘴合體設(shè)置時，所述通槽開設(shè)于所述狹縫噴嘴的側(cè)板中。 如上所述的涂布設(shè)備，其中，所述清潔噴嘴與豎直方向的夾角可為0度 90度，優(yōu) 選為30度 60度。 所述清潔噴嘴可包括第一唇板、第二唇板、第一端板及第二端板；[0013]所述第一唇板固定在所述通槽背離所述狹縫噴嘴的槽壁上，所述第二唇板固定在 所述通槽臨接所述狹縫噴嘴的槽壁上；所述第一端板固定在所述第一唇板與第二唇板的一端，所述第二端板固定在所述
第一唇板與第二唇板的另一端。作為本實用新型的進一步改進，所述第一唇板與所述通槽槽壁連接的連接部的端 部，在豎直方向上可具有延伸部；所述延伸部與所述通槽槽壁的側(cè)面連接，以增加第一唇板 的固定性。所述狹縫噴嘴的一個側(cè)板開設(shè)有所述通槽。作為本實用新型的進一步改進，所述狹縫噴嘴的兩個側(cè)板可均開設(shè)有所述通槽， 在朝哪個方向進行涂布的時候就使用那一側(cè)的清潔噴嘴，在涂布的方向改變時方便使用。所述氣體傳輸管道可為用于將氣體輸入到所述通槽中的氣體輸入管道，以通過清 潔噴嘴噴出的氣流對待涂布的表面進行清潔?；蛘撸鰵怏w傳輸管道可為用于輸出從所述清潔噴嘴進入到所述通槽中的氣體 的氣體輸出管道，以通過清潔噴嘴吸走待涂布的表面上的雜質(zhì)，達到清潔目的。所述清潔噴嘴的出口處可為梯形、圓弧形或波浪形等形狀。所述清潔噴嘴的底部在豎直方向上低于所述狹縫噴嘴的底部，以便直接推走基板 表面的雜物，增加清潔效果。本實用新型提供的涂布設(shè)備通過清潔噴嘴對基板表面進行清潔，除掉了基板表面 的浮游性PARTICLE以及類似于玻璃碎屑類等雜物，避免了 PARTICLE存在于I3R或密封膠等 涂布液下面造成的涂布不良發(fā)生，提高了 I3R或密封膠等涂布液涂布的平整度及均勻性，使 得產(chǎn)品良品率提高的同時，保護了昂貴的狹縫噴嘴不受損傷，從而延長了涂布的壽命，降低 了涂布設(shè)備的維護成本。

圖IA為本實用新型提供的涂布設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖IB為本實用新型的第一實施例提供的涂布設(shè)備中清潔噴嘴的結(jié)構(gòu)示意圖即圖 IA在AA方向上的剖視圖；圖IC為本實用新型提供的涂布設(shè)備中清潔噴嘴的立體示意圖；圖2為本實用新型提供的涂布設(shè)備中第一唇板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實用新型提供的涂布設(shè)備中第二唇板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實用新型提供的涂布設(shè)備中第一端板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實用新型提供的涂布設(shè)備應(yīng)用的示意圖；圖6為本實用新型提供的第二實施例提供的涂布設(shè)備中清潔噴嘴的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7為本實用新型提供的第三實施例提供的涂布設(shè)備中清潔噴嘴的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為使本實用新型實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本實用新 型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描 述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于 本實用新型保護的范圍。以圖IA-圖7為例對本實用新型進行說明。該實用新型各實施例的涂布設(shè)備總體結(jié)構(gòu)類似，如圖IA所示，涂布設(shè)備包括狹縫 噴嘴1、噴嘴支架2、微分調(diào)節(jié)器6 (參見圖5)、連接板5、氣體清潔噴嘴9 (詳見圖1B)、蓋板 11、氣體傳輸管道16及涂布液輸入管道17。狹縫噴嘴1由兩塊側(cè)板對合而成，兩塊側(cè)板對合后中間形成有一狹縫間隙。狹縫 噴嘴1經(jīng)過固定螺絲4和連接板5緊固在噴嘴支架2的固定面3上，保證狹縫噴嘴1和噴 嘴支架2 —起移動，同時也便于用微分調(diào)節(jié)器6對狹縫噴嘴1進行高度調(diào)整。其中，微分調(diào)節(jié)器6如圖5所示，包括旋扭7和主軸8，用于調(diào)整狹縫噴嘴1和待涂 布ra或密封膠等涂布液的基板 ο之間的距離。如液晶顯示器的TFT(薄膜晶體管)制作 工藝中，通常將狹縫噴嘴1和待涂布I3R的基板10之間的距離調(diào)整在0. Imm 0. 3mm之間。該實用新型的第一實施例如圖IB所示，狹縫噴嘴1的一個側(cè)板開設(shè)有豎直方向上 的通槽21，蓋板11通過蓋板螺釘12固定在通槽21的頂部，通槽21的底面固定有清潔噴嘴 9，清潔噴嘴9與通槽21內(nèi)部連通，如圖IA所示，蓋板11上設(shè)置有用于將氣體輸入到通槽 21中或者將氣體從通槽21中輸出的氣體傳輸管道16。清潔噴嘴9距離基板的高度可調(diào)。 當(dāng)清潔噴嘴9的底部在豎直方向上高于狹縫噴嘴1的底部，即清潔噴嘴9與基板10之間的 距離大于狹縫噴嘴1與基板10之間的距離時，清潔噴嘴能吹走或者吸走基板10上的雜質(zhì)， 提高涂布的平整度及均勻性，同時可以保護狹縫噴嘴不受損傷。當(dāng)清潔噴嘴9的底部在豎 直方向上低于狹縫噴嘴1的底部時，即清潔噴嘴9與基板10之間的距離小于狹縫噴嘴1與 基板10之間的距離時，可以吹走、吸走或者直接推走大于0. 1 0. 3mm的PARTICLE，提高涂 布的平整度及均勻性，同時可以保護狹縫噴嘴不受損傷。清潔噴嘴9的出口處的間隙寬度 可根據(jù)實際需要調(diào)節(jié)。清潔噴嘴9如圖IC所示，包括如圖2所示的第一唇板14、如圖3所示的第二唇板 15、如圖4所示的第一端板181及第二端板182。如圖IB所示，第一唇板14通過噴嘴螺釘13固定在通槽21背離狹縫噴嘴1的槽 壁上，第二唇板15通過噴嘴螺釘13固定在通槽21臨接狹縫噴嘴1的槽壁上。第一端板181及第二端板182均如圖4所示，具有第一螺紋孔19、第二螺紋孔20。 第一端板181通過第一螺紋孔19、第二螺紋孔20固定在第一唇板14與第二唇板15的一 端，第二端板182通過第一螺紋孔19、第二螺紋孔20固定在第一唇板14與第二唇板15的 另一端。這樣，清潔噴嘴9噴出或者吸入氣流的間隙寬度，可以根據(jù)PARTICLE的大小、 PARTICLE的數(shù)量的多少、PARTICLE的分布以及清潔噴嘴距離基板的高度等等因素，通過第
一唇板與第二唇板進行調(diào)整。清潔噴嘴的傾斜角度可以根據(jù)PARTICLE的大小、PARTICLE的數(shù)量的多少、 PARTICLE的分布以及清潔噴嘴距離基板的高度等等因素，進行加工，傾斜角度可以設(shè)置為 30度 60度。以清潔噴嘴9噴氣清潔時為例。使用時，如圖5所示，當(dāng)噴嘴支架2帶動狹縫噴嘴 1移動到基板10邊緣準(zhǔn)備進行涂布時，由氣泵或其它均勻壓力將PR、密封膠等由涂布液輸入管道17均勻輸入狹縫噴嘴1中，并打開控制氣體傳輸?shù)碾姶砰y(或其它氣動控制裝置)， 氣體經(jīng)過氣體傳輸管道16進入清潔噴嘴9內(nèi)，通過第一唇板14與第二唇板15之間的間 隙，氣流對基板10的表面進行清潔，隨著噴嘴支架2均速水平移動，實現(xiàn)了先對基板10的 清潔，之后狹縫噴嘴1對干凈的基板10涂布PR、密封膠等，避免了浮游性PARTICLE導(dǎo)致的 涂布的ra、密封膠等平整性差以及玻璃碎屑等雜物導(dǎo)致的狹縫噴嘴ι的損壞，最終實現(xiàn)ra、 密封膠等均勻、平整的被涂布在基板10的表面，達到平整均勻性工藝要求。需要說明的是，通槽也可開設(shè)在狹縫噴嘴的另一個側(cè)板上，相應(yīng)地，下部設(shè)置有清 潔噴嘴，通槽與清潔噴嘴的結(jié)構(gòu)詳見上述實施例的說明。需要說明的是，清潔噴嘴9也可通過吸氣的方式吸走待涂布表面的雜質(zhì)，達到清 潔目的，此時，氣體輸入管道替換為氣體輸出管道即可。并且通槽可通過另外單獨設(shè)置一空 腔體來替代，而無需對狹縫噴嘴進行改動。該實用新型的第二實施例如圖6所示，第一唇板14與通槽21槽壁連接的連接部 的端部，在豎直方向上具有延伸部23，該延伸部23與通槽21槽壁的側(cè)面連接，加強了清潔 噴嘴9的穩(wěn)定性。該實用新型的第三實施例如圖7所示，狹縫噴嘴1的兩個側(cè)板均開設(shè)有通槽21，相 應(yīng)地，通槽21下固定有清潔噴嘴9，在朝哪個方向進行涂布的時候就使用那一側(cè)的清潔噴 嘴，在涂布的方向改變時方便使用。通槽與清潔噴嘴的結(jié)構(gòu)詳見上述實施例的說明。上述實施例提供的涂布設(shè)備中，清潔噴嘴的出口處可為梯形、圓弧形或波浪形等 形狀，以有效地針對基板上PARTICLE多的區(qū)域，使噴出氣流或吸附力更強，從而使得清潔 效果更好。例如，當(dāng)上述涂布設(shè)備用于涂布密封膠時，清潔噴嘴的出口處可為梯形，其較寬的 一邊朝向非顯示區(qū)域，較窄的一邊朝向顯示區(qū)域，以保證涂布密封膠時，清潔噴嘴噴出的氣 流將待涂布區(qū)域上的雜質(zhì)吹向非顯示區(qū)域。上述實施例中，涂布設(shè)備通過清潔噴嘴噴出氣體或清潔噴嘴吸氣對基板表面進行 清潔，除掉了基板表面的浮游性PARTICLE以及類似于玻璃碎屑類等雜物，避免了 PARTICLE 存在于ra或密封膠等涂布液下面造成的涂布不良發(fā)生，提高了 ra或密封膠等涂布液涂布 的平整度及均勻性，使得產(chǎn)品良品率提高的同時，保護了昂貴的狹縫噴嘴不受損傷，從而延 長了涂布設(shè)備的壽命，降低了涂布設(shè)備的維護成本。最后應(yīng)說明的是以上實施例僅用以說明本實用新型的技術(shù)方案，而非對其限制； 盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解: 其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進行等 同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實用新型各實施例技術(shù) 方案的精神和范圍。
權(quán)利要求1.一種涂布設(shè)備，包括狹縫噴嘴，其特征在于，所述狹縫噴嘴的一側(cè)設(shè)置有清潔噴嘴， 所述清潔噴嘴朝向待涂布的基板，尾部連接有氣體傳輸管道，所述清潔噴嘴與所述氣體傳 輸管道內(nèi)部連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述清潔噴嘴與所述氣體傳輸管道 之間設(shè)有通槽，所述清潔噴嘴固定在所述通槽的底面，所述通槽的頂部與所述氣體傳輸管 道相連，所述清潔噴嘴與所述通槽內(nèi)部連通，所述通槽與所述氣體傳輸管道內(nèi)部連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述通槽開設(shè)于所述狹縫噴嘴的側(cè) 板中。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述氣體傳輸管道為用于將氣體輸 入到所述通槽中的氣體輸入管道。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述氣體傳輸管道為用于輸出從所 述清潔噴嘴進入到所述通槽中的氣體的氣體輸出管道。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述清潔噴嘴與豎直方向的夾角為 30度 60度。
7.根據(jù)權(quán)利要求2-6任一所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述清潔噴嘴包括第一唇板、 第二唇板、第一端板及第二端板；所述第一唇板固定在所述通槽背離所述狹縫噴嘴的槽壁上，所述第二唇板固定在所述 通槽臨接所述狹縫噴嘴的槽壁上；所述第一端板固定在所述第一唇板與第二唇板的一端，所述第二端板固定在所述第一 唇板與第二唇板的另一端。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述第一唇板與所述通槽槽壁連接 的連接部的端部，在豎直方向上具有延伸部；所述延伸部與所述通槽槽壁的側(cè)面連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述狹縫噴嘴的兩個側(cè)板開設(shè)有所 述通槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述清潔噴嘴的出口處為梯 形、圓弧形或波浪形。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述清潔噴嘴的底部在豎直 方向上低于所述狹縫噴嘴的底部。
專利摘要本實用新型公開了一種涂布設(shè)備，包括狹縫噴嘴，其中，所述狹縫噴嘴的一側(cè)設(shè)置有清潔噴嘴，所述清潔噴嘴朝向待涂布的基板，尾部連接有氣體傳輸管道，所述清潔噴嘴與所述氣體傳輸管道內(nèi)部連通。通過清潔噴嘴對基板表面進行清潔，除掉了基板表面的浮游性PARTICLE以及類似于玻璃碎屑等雜物，避免了PARTICLE存在于PR或密封膠等涂布液下面造成的涂布不良發(fā)生，提高了PR或密封膠等涂布液涂布的平整度及均勻性。
文檔編號B05C5/02GK201783440SQ20102053614
公開日2011年4月6日 申請日期2010年9月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月17日
發(fā)明者宋瑞濤, 張學(xué)智, 焦宇 申請人:北京京東方光電科技有限公司