本發(fā)明涉及放射實驗，尤其涉及一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置。

背景技術(shù)：

1、惡性腫瘤具有發(fā)病隱匿和難以治愈的特點，嚴(yán)重威脅了人民群眾的健康，現(xiàn)有三種治療惡性腫瘤的方法：手術(shù)切除、放射線治療和化學(xué)治療，其中放射線治療是利用一些腫瘤細(xì)胞對輻射敏感的特點，利用放射線誘導(dǎo)這類癌細(xì)胞dna損傷而發(fā)生細(xì)胞凋亡，其中一種放射線治療的方式是將放射性粒子植入腫瘤內(nèi)進(jìn)行治療，但由于同一類癌細(xì)胞在不同的患者體內(nèi)存在不同的放射敏感性，故而在進(jìn)行放射性粒子植入前需要了解該患者體內(nèi)癌細(xì)胞的放射敏感性，即了解癌細(xì)胞在輻射條件下抵抗衰老的能力，并根據(jù)放射性實驗數(shù)據(jù)調(diào)整植入患者體內(nèi)放射性粒子的數(shù)量和分布情況，現(xiàn)有為了解癌細(xì)胞的放射敏感性通常對患者體內(nèi)的癌細(xì)胞進(jìn)行取樣，隨后利用培養(yǎng)箱模擬患者體內(nèi)環(huán)境并對癌細(xì)胞進(jìn)行繁殖培養(yǎng)，在癌細(xì)胞到達(dá)一定數(shù)量后，將癌細(xì)胞暴露在輻射條件下，并定時對癌細(xì)胞進(jìn)行取樣觀察其存活情況，但在對培養(yǎng)皿中的癌細(xì)胞進(jìn)行取樣時，需要將培養(yǎng)箱完全打開，導(dǎo)致培養(yǎng)箱內(nèi)的環(huán)境完全與外界環(huán)境接觸，破壞了培養(yǎng)箱內(nèi)的環(huán)境，對實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性造成影響。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供了一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，以克服現(xiàn)有對細(xì)胞進(jìn)行放射性實驗時，中途取樣時會破壞細(xì)胞培養(yǎng)環(huán)境，對實驗結(jié)果的精準(zhǔn)性產(chǎn)生影響的缺點。

2、技術(shù)方案為：一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，包括有殼體，所述殼體上密封滑動連接有放料環(huán)，所述殼體上設(shè)置有環(huán)形分布且均與所述放料環(huán)封堵配合的放料孔，所述殼體固接有位于環(huán)形分布所述放料孔上方的分料盤，所述分料盤上設(shè)置有環(huán)形分布的分料孔，所述分料盤的下側(cè)轉(zhuǎn)動連接有與環(huán)形分布的所述分料孔均封堵配合的遮擋環(huán)，所述遮擋環(huán)上設(shè)置有環(huán)形分布的透光片，所述殼體上設(shè)置有環(huán)形分布且分別位于相鄰所述放料孔下方的取料孔，所述殼體內(nèi)固接有環(huán)形分布且分別與相鄰所述取料孔連通的連通殼，所述連通殼轉(zhuǎn)動連接有與所述殼體轉(zhuǎn)動連接的放置件，所述放置件內(nèi)密封滑動且轉(zhuǎn)動連接有支撐件，所述支撐件上設(shè)置有引導(dǎo)槽，所述放置件上設(shè)置有與相鄰所述引導(dǎo)槽滑動連接的半球，所述殼體內(nèi)靠近所述放置件的位置均固接有限位筒，所述限位筒內(nèi)限位滑動連接有與相鄰所述支撐件轉(zhuǎn)動連接且摩擦配合的滑動件，所述殼體內(nèi)設(shè)置有為環(huán)形分布所述放置件提供動力的動力組件，所述殼體內(nèi)設(shè)置有環(huán)形分布且減小培養(yǎng)箱與外界環(huán)境接觸面積的遮擋組件和環(huán)形分布且提高培養(yǎng)皿穩(wěn)定性的支撐組件。

3、更進(jìn)一步地，環(huán)形分布的所述分料孔的數(shù)量為環(huán)形分布所述放置件數(shù)量的整數(shù)倍，且所述分料孔未處于所述放置件于所述分料盤表面的投影內(nèi)，用于提高培養(yǎng)皿中細(xì)胞受輻射的均勻性。

4、更進(jìn)一步地，所述動力組件包括有電機(jī)，所述電機(jī)安裝于所述殼體內(nèi)，所述電機(jī)的輸出軸固接有主動齒環(huán)，所述殼體轉(zhuǎn)動連接有環(huán)形分布且分別與相鄰所述放置件轉(zhuǎn)動連接的被動齒環(huán)，所述被動齒環(huán)與所述主動齒環(huán)嚙合，所述被動齒環(huán)滑動連接有三叉限位件，所述放置件上設(shè)置有與相鄰所述三叉限位件限位配合的凹槽，所述三叉限位件轉(zhuǎn)動連接有限位環(huán)，所述限位環(huán)固接有與所述殼體滑動連接的控制架，所述控制架與所述殼體摩擦配合。

5、更進(jìn)一步地，所述支撐件與相鄰所述滑動件之間的摩擦力于所述放置件上半球沿所述引導(dǎo)槽切線方向的分力大于所述支撐件及其上零件的重力于所述放置件上半球沿所述引導(dǎo)槽切線方向的分力，用于控制所述支撐件的運動。

6、更進(jìn)一步地，所述遮擋組件包括有遮擋膜，所述遮擋膜固接于相鄰的所述放置件遠(yuǎn)離相鄰所述被動齒環(huán)的一側(cè)，所述遮擋膜靠近相鄰所述放置件中心軸線的一側(cè)固接有彈性環(huán)，所述彈性環(huán)固接有環(huán)形分布的拉繩，所述滑動件轉(zhuǎn)動連接有連接環(huán)，所述拉繩穿過相鄰所述放置件并與相鄰所述連接環(huán)固接。

7、更進(jìn)一步地，所述遮擋膜為彈性不透光材質(zhì)，且所述遮擋膜的彈性系數(shù)小于所述彈性環(huán)的彈性系數(shù)，用于使所述遮擋膜不受力的情況下不遮擋相鄰所述放置件。

8、更進(jìn)一步地，所述支撐組件包括有三叉擠壓件，所述三叉擠壓件滑動連接于相鄰的所述放置件遠(yuǎn)離相鄰所述被動齒環(huán)的一側(cè)，所述三叉擠壓件轉(zhuǎn)動連接有與相鄰所述控制架固接的帶動環(huán)，所述放置件靠近相鄰所述三叉擠壓件的位置限位滑動連接有環(huán)形分布的擠壓彈片，所述擠壓彈片與相鄰所述三叉擠壓件擠壓配合。

9、更進(jìn)一步地，還包括有散料件，所述散料件轉(zhuǎn)動連接于所述殼體內(nèi)靠近所述分料盤的位置，所述散料件與所述分料盤接觸，所述分料盤與所述殼體配合形成與環(huán)形分布的所述分料孔均連通的布料腔，所述散料件遠(yuǎn)離所述殼體中心軸線的位置設(shè)置有斜面和限位槽，且上述限位槽遠(yuǎn)離所述殼體中心軸線的一側(cè)位于環(huán)形分布所述分料孔遠(yuǎn)離所述殼體中心軸線的一側(cè)所組成的圓上。

10、更進(jìn)一步地，所述遮擋環(huán)上固接并連通有環(huán)形分布的下料殼，環(huán)形分布的所述下料殼與環(huán)形分布的所述透光片交錯分布，環(huán)形分布的所述下料殼部分所述下料殼靠近所述殼體中心軸線的一側(cè)固接有連接件，所述連接件上設(shè)置有存料槽，所述下料殼靠近所述連接件中心軸線的位置在水平面內(nèi)的投影位于所述存料槽內(nèi)。

11、更進(jìn)一步地，所述散料件和所述分料盤一同密封滑動且轉(zhuǎn)動連接有推桿，所述推桿位于所述殼體內(nèi)的一側(cè)轉(zhuǎn)動連接有傳動架，所述傳動架與所述連接件之間固接有扭簧，所述電機(jī)的輸出軸固接有摩擦輪，所述摩擦輪與所述傳動架摩擦配合，所述分料盤內(nèi)滑動連接有擠壓柱，且二者之間固接有彈簧，所述遮擋環(huán)上設(shè)置有環(huán)形分布的半圓槽，所述半圓槽與所述擠壓柱擠壓配合，所述半圓槽的數(shù)量為環(huán)形分布所述透光片數(shù)量的三倍，且所述透光片和所述下料殼分別與相鄰的所述半圓槽對應(yīng)。

12、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點和積極效果是：本發(fā)明通過取樣時開啟單個培養(yǎng)皿位置的取料孔，無需開啟整個培養(yǎng)箱，減小了取樣時培養(yǎng)箱內(nèi)環(huán)境與外界環(huán)境接觸的面積，降低取樣過程對培養(yǎng)箱內(nèi)環(huán)境的影響，進(jìn)而提高了實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性。

13、通過周向分布的擠壓彈片對培養(yǎng)箱內(nèi)的培養(yǎng)皿進(jìn)行夾持固定，提高了培養(yǎng)皿的穩(wěn)定性，降低外界環(huán)境對培養(yǎng)皿中細(xì)胞造成影響的概率。

14、通過散料件將放射性粒子散布至對應(yīng)的位置，提高工作效率的同時減小了醫(yī)生受輻射的時長，降低了放射性粒子對醫(yī)生身體造成的傷害。

15、通過扭簧蓄力使遮擋環(huán)快速解除對分料孔的封堵，使培養(yǎng)箱內(nèi)所有的培養(yǎng)皿同時接受輻射，提高了實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性。

技術(shù)特征：

1.一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：包括有殼體（1），所述殼體（1）上密封滑動連接有放料環(huán)（2），所述殼體（1）上設(shè)置有環(huán)形分布且均與所述放料環(huán)（2）封堵配合的放料孔（201），所述殼體（1）固接有位于環(huán)形分布所述放料孔（201）上方的分料盤（3），所述分料盤（3）上設(shè)置有環(huán)形分布的分料孔（301），所述分料盤（3）的下側(cè)轉(zhuǎn)動連接有與環(huán)形分布的所述分料孔（301）均封堵配合的遮擋環(huán)（4），所述遮擋環(huán)（4）上設(shè)置有環(huán)形分布的透光片（401），所述殼體（1）上設(shè)置有環(huán)形分布且分別位于相鄰所述放料孔（201）下方的取料孔（501），所述殼體（1）內(nèi)固接有環(huán)形分布且分別與相鄰所述取料孔（501）連通的連通殼（5），所述連通殼（5）轉(zhuǎn)動連接有與所述殼體（1）轉(zhuǎn)動連接的放置件（6），所述放置件（6）內(nèi)密封滑動且轉(zhuǎn)動連接有支撐件（7），所述支撐件（7）上設(shè)置有引導(dǎo)槽（701），所述放置件（6）上設(shè)置有與相鄰所述引導(dǎo)槽（701）滑動連接的半球，所述殼體（1）內(nèi)靠近所述放置件（6）的位置均固接有限位筒（8），所述限位筒（8）內(nèi)限位滑動連接有與相鄰所述支撐件（7）轉(zhuǎn)動連接且摩擦配合的滑動件（9），所述殼體（1）內(nèi)設(shè)置有為環(huán)形分布所述放置件（6）提供動力的動力組件，所述殼體（1）內(nèi)設(shè)置有環(huán)形分布且減小培養(yǎng)箱與外界環(huán)境接觸面積的遮擋組件和環(huán)形分布且提高培養(yǎng)皿穩(wěn)定性的支撐組件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：環(huán)形分布的所述分料孔（301）的數(shù)量為環(huán)形分布所述放置件（6）數(shù)量的整數(shù)倍，且所述分料孔（301）未處于所述放置件（6）于所述分料盤（3）表面的投影內(nèi)，用于提高培養(yǎng)皿中細(xì)胞受輻射的均勻性。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述動力組件包括有電機(jī)（10），所述電機(jī)（10）安裝于所述殼體（1）內(nèi)，所述電機(jī)（10）的輸出軸固接有主動齒環(huán)（11），所述殼體（1）轉(zhuǎn)動連接有環(huán)形分布且分別與相鄰所述放置件（6）轉(zhuǎn)動連接的被動齒環(huán)（12），所述被動齒環(huán)（12）與所述主動齒環(huán)（11）嚙合，所述被動齒環(huán)（12）滑動連接有三叉限位件（13），所述放置件（6）上設(shè)置有與相鄰所述三叉限位件（13）限位配合的凹槽，所述三叉限位件（13）轉(zhuǎn)動連接有限位環(huán)（14），所述限位環(huán)（14）固接有與所述殼體（1）滑動連接的控制架（15），所述控制架（15）與所述殼體（1）摩擦配合。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述支撐件（7）與相鄰所述滑動件（9）之間的摩擦力于所述放置件（6）上半球沿所述引導(dǎo)槽（701）切線方向的分力大于所述支撐件（7）及其上零件的重力于所述放置件（6）上半球沿所述引導(dǎo)槽（701）切線方向的分力，用于控制所述支撐件（7）的運動。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述遮擋組件包括有遮擋膜（16），所述遮擋膜（16）固接于相鄰的所述放置件（6）遠(yuǎn)離相鄰所述被動齒環(huán)（12）的一側(cè)，所述遮擋膜（16）靠近相鄰所述放置件（6）中心軸線的一側(cè)固接有彈性環(huán)（17），所述彈性環(huán)（17）固接有環(huán)形分布的拉繩（18），所述滑動件（9）轉(zhuǎn)動連接有連接環(huán)（19），所述拉繩（18）穿過相鄰所述放置件（6）并與相鄰所述連接環(huán)（19）固接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述遮擋膜（16）為彈性不透光材質(zhì)，且所述遮擋膜（16）的彈性系數(shù)小于所述彈性環(huán)（17）的彈性系數(shù)，用于使所述遮擋膜（16）不受力的情況下不遮擋相鄰所述放置件（6）。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述支撐組件包括有三叉擠壓件（20），所述三叉擠壓件（20）滑動連接于相鄰的所述放置件（6）遠(yuǎn)離相鄰所述被動齒環(huán)（12）的一側(cè)，所述三叉擠壓件（20）轉(zhuǎn)動連接有與相鄰所述控制架（15）固接的帶動環(huán)（21），所述放置件（6）靠近相鄰所述三叉擠壓件（20）的位置限位滑動連接有環(huán)形分布的擠壓彈片（22），所述擠壓彈片（22）與相鄰所述三叉擠壓件（20）擠壓配合。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：還包括有散料件（23），所述散料件（23）轉(zhuǎn)動連接于所述殼體（1）內(nèi)靠近所述分料盤（3）的位置，所述散料件（23）與所述分料盤（3）接觸，所述分料盤（3）與所述殼體（1）配合形成與環(huán)形分布的所述分料孔（301）均連通的布料腔（231），所述散料件（23）遠(yuǎn)離所述殼體（1）中心軸線的位置設(shè)置有斜面和限位槽，且上述限位槽遠(yuǎn)離所述殼體（1）中心軸線的一側(cè)位于環(huán)形分布所述分料孔（301）遠(yuǎn)離所述殼體（1）中心軸線的一側(cè)所組成的圓上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述遮擋環(huán)（4）上固接并連通有環(huán)形分布的下料殼（24），環(huán)形分布的所述下料殼（24）與環(huán)形分布的所述透光片（401）交錯分布，環(huán)形分布的所述下料殼（24）部分所述下料殼（24）靠近所述殼體（1）中心軸線的一側(cè)固接有連接件（25），所述連接件（25）上設(shè)置有存料槽（251），所述下料殼（24）靠近所述連接件（25）中心軸線的位置在水平面內(nèi)的投影位于所述存料槽（251）內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述散料件（23）和所述分料盤（3）一同密封滑動且轉(zhuǎn)動連接有推桿（26），所述推桿（26）位于所述殼體（1）內(nèi)的一側(cè)轉(zhuǎn)動連接有傳動架（27），所述傳動架（27）與所述連接件（25）之間固接有扭簧，所述電機(jī)（10）的輸出軸固接有摩擦輪（28），所述摩擦輪（28）與所述傳動架（27）摩擦配合，所述分料盤（3）內(nèi)滑動連接有擠壓柱（29），且二者之間固接有彈簧，所述遮擋環(huán)（4）上設(shè)置有環(huán)形分布的半圓槽（291），所述半圓槽（291）與所述擠壓柱（29）擠壓配合，所述半圓槽（291）的數(shù)量為環(huán)形分布所述透光片（401）數(shù)量的三倍，且所述透光片（401）和所述下料殼（24）分別與相鄰的所述半圓槽（291）對應(yīng)。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了涉及放射實驗技術(shù)領(lǐng)域的一種細(xì)胞工程用抗衰放射裝置。包括有殼體，所述殼體上密封滑動連接有放料環(huán)，所述殼體上設(shè)置有環(huán)形分布且均與所述放料環(huán)封堵配合的放料孔，所述殼體固接有位于環(huán)形分布所述放料孔上方的分料盤，所述分料盤上設(shè)置有環(huán)形分布的分料孔，所述分料盤的下側(cè)轉(zhuǎn)動連接有與環(huán)形分布的所述分料孔均封堵配合的遮擋環(huán)，所述遮擋環(huán)上設(shè)置有環(huán)形分布的透光片，所述殼體上設(shè)置有環(huán)形分布且分別位于相鄰所述放料孔下方的取料孔。本發(fā)明通過取樣時開啟單個培養(yǎng)皿位置的取料孔，無需開啟整個培養(yǎng)箱，減小了取樣時培養(yǎng)箱內(nèi)環(huán)境與外界環(huán)境接觸的面積，降低取樣過程對培養(yǎng)箱內(nèi)環(huán)境的影響，進(jìn)而提高了實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性。

技術(shù)研發(fā)人員：潘夢雪,姬小佳,楊洋,王東陽,趙偉康
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所山東分所
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6