專利名稱：一種使光學編碼的介質(zhì)不可讀取和防竄改的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學上可讀取的數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)，并且更特別地涉及使所述介質(zhì)被讀取至少一次后再不可讀取的技術(shù)。
當租借光學介質(zhì)如DVD或CD上的內(nèi)容時，同樣有利的是僅提供一個有限量的時間，在此時間內(nèi)所述內(nèi)容可以被觀看或者被訪問，并且隨后禁止再觀看或訪問(在此被稱為有限播放機構(gòu))。在這種方式下，租借介質(zhì)的人不需要歸還此介質(zhì)，因為有限量時間期滿后該介質(zhì)便不能用了。
通過所有當前的盤讀出器成功地讀出一個光盤很大地取決于許多參數(shù)，這些參數(shù)表示讀出激光束在其從激光器到盤的反射數(shù)據(jù)層并返回到讀出器的光檢取系統(tǒng)的路徑中的特征。讀出束的電磁波結(jié)構(gòu)由構(gòu)成讀出束的波組分的強度、相位、偏振和波矢進行描述。束的波結(jié)構(gòu)決定束的幾何和傳播參數(shù)，如束的大小、入射角和會聚角。
除了讀取盤中的數(shù)據(jù)層，讀出器還完成其它的功能，這些功能對于可播放性與數(shù)據(jù)讀出本身一樣關(guān)鍵。這些功能包括自動聚焦、自動跟蹤和誤差校正。前兩個功能允許讀出器設(shè)備有效地控制激光頭和主軸馬達的運動以便于維持束相對于盤所需的位置。因此，在盤材料內(nèi)部在貫穿束的路徑上維持波結(jié)構(gòu)的完整性不僅對于束所攜帶信息的成功檢測和解碼是一個關(guān)鍵，而且對于讀出過程的連續(xù)性也是一個關(guān)鍵。
專利5,815,484公開了一種具有反射金屬層的光盤，該反射金屬層具有多個數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)(以凹坑和平臺的形式被提供)及疊加在至少一些數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)上面的反應(yīng)性化合物。這種反應(yīng)性化合物是一種光致變色的化合物，當它經(jīng)受讀出光和/或大氣氧時其從光透明條件變成光不透明條件。當此化合物變?yōu)椴煌该鲿r，它防止讀出光被讀出裝置所檢測，從而有效地使光盤不可讀取。
可認識到的這種方法的一個顯著缺點是盤的制造、處理和存儲將需要一個無氧環(huán)境。此外，涂料應(yīng)該被脫氣到無氧狀態(tài)并且被維持在這一條件下。
另一個缺點是所描述的大多數(shù)化學部分具有差的耐光性，這將使得有限播放盤變成光褪色并被轉(zhuǎn)化成一個永久播放盤。
此外，在一些情況下，有可能除去一層光致變色化合物，因而使得在介質(zhì)上提供相同內(nèi)容這一目的被阻撓。
概括來說，未經(jīng)授權(quán)除去介質(zhì)上的一層以試圖阻撓有限播放機構(gòu)且從而延長介質(zhì)的使用期限是所不希望的。
也可以參考被公共轉(zhuǎn)讓的用以公開阻擋層使用的美國專利號6,011,772,除去所述的阻擋層會啟動讀取禁止劑的動作來防止光盤上的信息編碼特征的機械讀取。這種讀取禁止劑也可以因暴露在光輻射或由于盤的旋轉(zhuǎn)而被觸發(fā)。
本發(fā)明的目的本發(fā)明的第一目的及優(yōu)點是提供一個使光學上可讀取的介質(zhì)，如但并不局限于光盤、激光唱片(CD)或數(shù)字錄像激光盤(DVD)不可讀取的改進系統(tǒng)和方法。
本發(fā)明的第二目的及優(yōu)點是提供一個使光學上可讀取的介質(zhì)在已經(jīng)被至少讀取過一次后永久性地不可再讀取的改進系統(tǒng)和方法。
本發(fā)明的第三目的及優(yōu)點是提供一個防止或阻礙對已經(jīng)預(yù)定來限制光學上可讀取介質(zhì)有效期限的層進行竄改的改進系統(tǒng)和方法。
本發(fā)明的另一目的及優(yōu)點是提供一個機構(gòu)，該機構(gòu)依靠一物質(zhì)的蒸發(fā)來改變光學上可讀取介質(zhì)的光學性能，以便使介質(zhì)光學上不可讀取。
本發(fā)明的另一目的及優(yōu)點是提供一個機構(gòu)，該機構(gòu)依靠一物質(zhì)的升華來改變光學上可讀取介質(zhì)的光學性能，以便于使介質(zhì)光學上不可讀取。
本發(fā)明的另一目的及優(yōu)點是提供一種增強來自光學上可讀取媒質(zhì)的表面或?qū)拥墓馍⑸涞募夹g(shù)，以便使介質(zhì)光學上不可讀取，并且/或阻撓除去介質(zhì)的有限播放機構(gòu)這樣的企圖。
本發(fā)明的另一目的及優(yōu)點是提供一個改變光學上可讀取介質(zhì)表面特性的機構(gòu)，以便于在試圖讀出介質(zhì)期間不利地影響讀出裝置跟蹤程序。
本發(fā)明的另一目的及優(yōu)點是提供一個引起光學上可讀取介質(zhì)的表面外形變化的機構(gòu)，以便于不利地影響讀出裝置的反饋及跟蹤過程，從而不利地影響讀出的保真度。
一種以使光學上可讀取的介質(zhì)不可讀取的方法被公開，這個介質(zhì)是作為一個根據(jù)本發(fā)明的方法操作的介質(zhì)。這種方法具有這樣的步驟(a)為所述介質(zhì)提供一個非平的(即，以某些方式如通過對一個非平面層或區(qū)域進行壓紋、刻痕、沉積如微滴而帶有構(gòu)造)并且禁止所述介質(zhì)的光讀出的讀出表面層；(b)將涂層施加到非平表面層以便使非平表面變得平滑并且允許對介質(zhì)的光讀出；并且在讀出周期的初始化之后，(c)減少所述涂層的厚度以便暴露出非平讀出表面層，從而禁止介質(zhì)的光讀出。優(yōu)選地，涂層基本上與讀出表面層折射率匹配。在一個實施例中減少厚度的步驟包括使涂層的至少一個成分材料蒸發(fā)或升華這樣的一個步驟。
進一步根據(jù)這些學說，公開了一種用來阻礙對光學上可讀取介質(zhì)的讀出限制機構(gòu)進行竄改的方法，但這種介質(zhì)是按照能夠根據(jù)本方法操作而構(gòu)造的。在這個實施例中，所述方法包括如下步驟(a)為介質(zhì)提供包括有讀出限制機構(gòu)的至少一層；(b)提供構(gòu)成位于所述至少一層下面一層的部分的帶有構(gòu)造的表面，其中所述的帶有構(gòu)造的表面禁止介質(zhì)的光讀出；并且(c)在所述帶有構(gòu)造的表面上施加至少一個涂層以便使帶有構(gòu)造的表面光滑并且允許對介質(zhì)的光讀出，其中涂層的除去暴露出帶有構(gòu)造的表面，從而禁止介質(zhì)的光讀出。這種讀出限制機構(gòu)可以包括這樣的一層，即從光透明狀態(tài)變化到禁止成功地讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)狀態(tài)的一層的狀態(tài)，或者更概括地說，即從允許成功地讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的第一狀態(tài)變化到對禁止成功地讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的第二狀態(tài)的一層。這種讀出限制機構(gòu)也可以起到涂層之一的作用。
上述從第一狀態(tài)到第二狀態(tài)的變化可以通過增加光吸收和/或通過增加或改變一層或多層中的機械應(yīng)力，以及/或通過增加光散射，以及/或通過一種揮發(fā)性化合物的蒸發(fā)，以及/或通過一種揮發(fā)性化合物的升華被引起。此處所應(yīng)用的揮發(fā)性化合物或材料是能夠支持或參與由材料和周圍介質(zhì)之間的濃度梯度而驅(qū)動的材料轉(zhuǎn)移(其中的實例是蒸發(fā)和升華)這樣的一種材料。換不同的方法來陳述，揮發(fā)性的化合物或材料是能夠通過轉(zhuǎn)移機理向周圍介質(zhì)流失質(zhì)量的一種材料。
在本發(fā)明的另一個實施例中，一個光學上可讀取的介質(zhì)被構(gòu)造成包括一個表面區(qū)域和一個透明讀出表面層，其中表面區(qū)域編碼有由讀取裝置光學上可讀取的信息，而透明讀出表面層包括局部區(qū)域，每個局部區(qū)域包含一種在讀出光波長處具有精密匹配于周圍讀出表面層材料的折射率的揮發(fā)性化合物。這些局部區(qū)域響應(yīng)于用于流失至少一些揮發(fā)性化合物(如通過蒸發(fā)或升華)的讀出周期的初始化，以為了在透明讀出表面層內(nèi)產(chǎn)生空隙?？障兜拇嬖谠黾恿斯馍⑸洳⑶矣纱私沽私橘|(zhì)的光讀出。
應(yīng)該注意到在采用表面粗糙度或空隙的這些實施例中，通過這一層的光透射可以基本上不被改變。
在本發(fā)明的各種實施例中，可以提供一個阻擋層來防止并禁止或調(diào)節(jié)揮發(fā)性物質(zhì)向周圍介質(zhì)的流失，以有效地將包含揮發(fā)性物質(zhì)的一層與周圍介質(zhì)相隔離。這個阻擋層可以作為可剝落層而被提供，用于將揮發(fā)性物質(zhì)與周圍介質(zhì)相隔離至少直到需要在讀出裝置中使用該介質(zhì)。該介質(zhì)可以被包裝在一個密封的容器如一個容納揮發(fā)性化合物源的塑料袋中，從而禁止揮發(fā)性化合物從介質(zhì)中的流失直到該介質(zhì)被從容器中取出并被暴露于周圍的介質(zhì)。
優(yōu)選地，有限播放盤被包裝在一個具有試劑源的密封容器中，這種試劑源禁止揮發(fā)物種從顏色形成層或從升華層被轉(zhuǎn)移，其中有限播放周期的開始與容器的打開同時發(fā)生。
應(yīng)該理解為本發(fā)明學說的上述及其它各個方面可以被單獨或者聯(lián)合實施，以獲取此處所提出的目的。
圖2是掃描

圖1中光學上可讀取盤的光掃描系統(tǒng)的光掃描頭的示意性側(cè)視及部分斷面圖；圖3舉例說明一個無色內(nèi)酯形式及其陽離子的(著色的)形式，并且其有益于解釋采用使光學上可讀取介質(zhì)不可讀取的蒸發(fā)技術(shù)的本發(fā)明的一個實施例。
圖4舉例說明針對根據(jù)本發(fā)明的一個方面的一個顏色變化化合物(在一個4-乙烯基苯酚聚合體(4-vinylphenol polymer)中的氨基-2苯并呋喃酮(amino-phthalide)染料(SD-3055))的實施例，作為波長函數(shù)的光吸收的變化。
圖5顯示出防止化學竄改或涂料被除去的保護機理的實施。
圖6是一個光學上可讀取介質(zhì)的一部分的放大橫斷面圖，此光學上可讀取介質(zhì)具有由平面分布修改而成的表面外形，并且根據(jù)本發(fā)明的學說其可以被用來不利地影響讀出裝置的跟蹤操作。
圖7顯示出原始盤的兩維分布。
圖8顯示出具有表面構(gòu)造的盤的兩維分布。
圖9顯示出具有表面構(gòu)造及在表面構(gòu)造上的保護(使平滑)涂層的盤的兩維分布。
圖10描述根據(jù)這些學說的一個方面將一種升華涂層作為一種平滑層施加到表面粗糙度層上的步驟；圖11是描述對于一種特殊的升華涂層材料(金剛烷)作為時間函數(shù)的重量流失的圖形；圖12是一個實施例的橫斷面圖，其中根據(jù)這些學說中的另一個實施例，具有蒸發(fā)或升華能力的一種化合物被結(jié)合作為一層內(nèi)的局部區(qū)域，用于產(chǎn)生光散射空隙來禁止光盤的讀出。
圖13是顯示使用一個偏置發(fā)色團來改變根據(jù)這些學說的光吸收層達到最小的盤可讀取性閾值所需時間的圖形；圖14描述在根據(jù)這些學說的一個實施例的幾個加工步驟期間一個盤的橫斷面圖；圖15是繪制盤的可讀取性時間與頂部阻擋層厚度關(guān)系的圖形；以及圖16是一個容納盤的包裝被部分切去的視圖，這個盤具有包含揮發(fā)性化合物及顏色阻擋劑(CBA)源的有限播放機構(gòu)。
本發(fā)明的詳細說明現(xiàn)在參考圖1，一個用于讀取結(jié)合有本發(fā)明一個或多個特征的光學上可讀取盤的光學掃描系統(tǒng)1的示意圖被顯示出來。雖然將參考附圖中所示的實施例對本發(fā)明加以說明，但是應(yīng)該理解為本發(fā)明可以被包含在許多形式的可選擇的實施例中。此外，任何適合的尺寸、形狀或材料或元素類型可以被使用。
在開始還應(yīng)該注意到此處所采用的“被光學編碼的”或“光學上可讀取的”介質(zhì)是打算來包涵眾多各種裝置，其中在此總體來被簡單稱為信息或內(nèi)容的數(shù)據(jù)(如計算機程序)、聲音(如音樂)和/或圖像(如電影)被存儲以便于當光束(既可以是可見光也可以是不可見光)被施加到所述介質(zhì)時所存儲的內(nèi)容可以被讀出。這樣的介質(zhì)可以包括，但并不局限于光盤、激光唱片(CD)、CD-ROM和數(shù)字視頻或通用盤(DVD)以及某些種類的帶。
一般而言，本發(fā)明所關(guān)注的介質(zhì)結(jié)合有一些類型的機構(gòu)，這些機構(gòu)能夠改變光的光學性能，例如波前、光雜波成份、強度和/或波發(fā)射波長。同樣，介質(zhì)的反射率和/或透射性能可以被改變。
使介質(zhì)“不可讀取”應(yīng)該理解為沒有必要使整個介質(zhì)不可讀取。例如，可能只需要將引導(dǎo)記錄或內(nèi)容目錄的相對一小部分不可讀取，使得整個介質(zhì)變成不可用或不可讀取，或者使得一些預(yù)先設(shè)定的介質(zhì)部分變成不可用或不可讀取。使介質(zhì)不可讀取可能還意味著不利地影響讀出裝置的反饋和跟蹤過程。例如，讀出激光焦距調(diào)節(jié)可能沒有足夠的能力對介質(zhì)修改過的表面分布做出快速反應(yīng)，結(jié)果導(dǎo)致沒有能力維持正確的跟蹤。這一點已經(jīng)被其本身證實為“跳躍”過光盤的一段音樂，或者被發(fā)現(xiàn)為消極地影響輸出的保真度。
結(jié)構(gòu)上可能為傳統(tǒng)式的光掃描系統(tǒng)1通常包括一個盤驅(qū)動器10和一個光掃描頭30。盤驅(qū)動器10通常適合于相對于光掃描頭30來移動光學上可讀取的盤20如一個CD-ROM。在圖1所示的實施例中，光掃描頭30被放置在光盤20下面用于掃描盤的下表面，雖然在其它的實施例中掃描頭可能被放置可以掃描盤的上表面。優(yōu)選地，掃描頭30由一個活動的滑架或臂(未顯示)來固定，以便于掃描頭30可能相對于盤的中心被移動。例如，掃描頭可能能夠相對于盤20的中心被徑向平移或者圍繞著盤的中心被周向平移。在可選擇的實施例中，光掃描頭可以相對于光學上可讀取盤的中心被固定住。當盤20移過掃描頭30時，所述頭讀取被布置在盤20上的光學上可讀取的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23(見圖2)。仍然參考圖1，盤驅(qū)動器10包括一個電機12、一個傳動軸14和一個盤支架或夾盤16。傳動軸14工作上將電機12連接到夾盤16上。因此，當被給電時，電機12通過傳動軸14旋轉(zhuǎn)夾盤16。夾盤16包括合適的固定裝置(未顯示)以便當夾盤16被電機12旋轉(zhuǎn)時其用來穩(wěn)定地將盤20固定在其上。電機12適合于以一個預(yù)先設(shè)定的可變速度旋轉(zhuǎn)夾盤16和固定其上的盤20。電機12可以操作來以一個可變的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)盤20以便使盤代表對以恒定線性速度移動的掃描頭30的一個讀取表面。例如，當掃描頭30被徑向平移接近到夾盤16上盤20的中心時，電機12以一個增加的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)盤20。因此，經(jīng)過掃描頭30的盤20的部分以一個恒定的線性速度在移動。要注意到在傳統(tǒng)的光盤中，數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)通常被放置在從盤的邊緣朝向中心做螺旋運動的一個單磁道上，這要求盤以一個可變的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)以便于磁道相對于掃描頭以一個恒定的線性速度移動。通過實例，盤驅(qū)動器10可以以一個適當增加的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)DVD以提供一個經(jīng)過掃描頭30的約為3.5米/秒的線性速度。
現(xiàn)在參考圖2，掃描頭30通常包括一個光源32和一個光探測器34。光源32產(chǎn)生并導(dǎo)引電磁輻射(此處也被稱為光輻射)的一個入射或詢問束100正對著光盤20。光盤20包括一個具有在其上或其中所形成的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23的反射層22。被導(dǎo)引正對著光盤20的電磁輻射詢問束100被反射層22反射作為一個反射束102。然后反射束102被光掃描頭30上的光探測器34所探測。當盤驅(qū)動器10相對于掃描頭30旋轉(zhuǎn)盤20時，詢問束100經(jīng)過盤反射層22上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23。在詢問束100移過數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23的同時，數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)調(diào)制反射束102。對反射束102的調(diào)制被記錄在掃描頭30的光探測器34上并被轉(zhuǎn)換成電信號。
更具體而言，并且通過實例，光源32可能包括一個激光二極管36或者其它這樣用于產(chǎn)生光輻射的詢問束100的適當裝置。如圖2所示，由激光二極管36所產(chǎn)生的束100可能被導(dǎo)引通過一個四分之一波片并且通過偏振分束器38。作為另一選擇地，波片及分束器的位置可以被顛倒，這樣光束首先通過分束器然后通過波片。同樣，由激光二極管36所產(chǎn)生的束在遇到波片40之前可以被準直儀(未顯示)準直。在詢問束100經(jīng)過分束器38之后，束遇到一個將此詢問束100聚焦到一個預(yù)先設(shè)定的焦點的合適透鏡42。由光源30所發(fā)射的詢問束100可以具有約為650納米的波長，雖然它可以具有其它的波長。詢問束100可能被聚焦到一個約為0.63微米大小的點上。束100的景深約為0.9微米，雖然這個景深可以按需要被調(diào)節(jié)。詢問束100被一個適當?shù)恼{(diào)制器(如一個聲光的或電光的調(diào)制器，未顯示)所調(diào)制來影響在約為100-200納秒之間的每比特駐留時間。激光二極管36則適合于向光盤20輸送約1mW的功率。每比特由詢問束100所存儲的能量約為200pJ并且束對焦點的流量約為50mJ/cm2。在可供選擇的實施例中，光源可以具有任何其它適合的配置來產(chǎn)生電磁輻射詢問束，這種詢問束具有從光盤中讀取數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的適當特征。
仍然參考圖2，光盤20的反射層22被放置在上部保護層24和下部層26之間。雖然還可以使用其它適合的材料，但反射層22可能由金屬如鋁所組成，其通過適當?shù)难b置被構(gòu)成以提供對詢問束100的一個反射表面28。如前所述，層22的反射表面28被編碼有作為數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)而存儲的信息。當詢問束100入射到數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23的表面特征時數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23適合于改變反射束102。例如，數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23可能包括在光盤20的反射表面28內(nèi)所形成的平臺25和凹坑27的圖案。平臺25是在光盤反射表面28上的凸起部分。凹坑27是在光盤反射表面28上的凹陷部分(相對于平臺25)。例如，單獨的凹坑27可能具有約為0.4微米的寬度及在約0.4-1.9微米之間的長度，雖然凹坑也可以具有任何其它適合的長度和寬度。在可供選擇的實施例中，在光盤反射層內(nèi)所形成的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)可能具有任何其它適合的特征，當詢問束遇到這些特征時這些特征改變反射束的性質(zhì)。舉個實例，這樣的特征可以是在光盤的反射表面內(nèi)的一序列劃痕和反射表面或通孔。
如圖2所示，由光源32所產(chǎn)生的詢問束100由透鏡42所聚焦，以便于焦點被定位在光盤20反射表面28內(nèi)凹坑27的“底”表面上。當詢問束100入射到凹坑27的表面上時，詢問束被凹坑表面反射成一個反射束102。反射束102通過透鏡42(其目前作為反射束的準直儀)且然后被分束器38偏轉(zhuǎn)以透過掃描頭30上的光探測器34。當詢問束100改為被導(dǎo)引到反射表面28的平臺25上時，較少量的束100被反射回被光探測器34所探測。這是因為平臺25的表面較詢問束100的景深位于一個不同的深度。
作為選擇地，由光源所產(chǎn)生的詢問束100可能被在平臺25而不是在凹坑27表面上的透鏡所聚集。
在任一情況下，可以理解為在兩個狀態(tài)(對應(yīng)于詢問束100是否入射到凹坑27上或平臺25上)之間的反射率變化提供一個將二進制數(shù)據(jù)(1和0)編碼到盤表面的機理。
本發(fā)明所優(yōu)選的實施例將在此后加以說明，其假設(shè)詢問束100被聚集到光盤20反射表面28內(nèi)的凹坑27的表面上，雖然本發(fā)明的學說同等地適用于詢問束100改為被聚集到平臺25表面上的情況。
仍然參考圖2，光盤20被構(gòu)造成包括隨著時間蒸發(fā)的反應(yīng)性化合物層或涂層20A。在優(yōu)選的實施例中，涂層20A包括一種染料如內(nèi)酯染料，這種染料在650納米(讀出激光的目前優(yōu)選的波長)附近具有具備非常強的光吸收率性能的陽離子。可以采用聚合體材料或一些其它材料來提供一個酸性環(huán)境以引起內(nèi)酯染料的受控開環(huán)，并且這些材料可以交叉鏈接或者被修改以形成一個相對惰性或不活動的涂層。只要內(nèi)酯部分(lactone moiety)持原樣，則內(nèi)酯染料通常是無色的。但是，通過改變環(huán)境，例如降低pH并/或通過改變微極性，內(nèi)酯環(huán)被劈開并且獲得染料的高度著色的內(nèi)酯形式。
現(xiàn)在還參考圖3，顏色形成涂層20A包括至少三種成分(1)一種染料如內(nèi)酯類型染料；(2)酸性位(acidic sites)；以及(3)一種溶劑，如胺或酰胺基溶劑。酸性位可以由聚合體、粘土或由任何其它的酸性基質(zhì)來提供。當這些成分被結(jié)合時，胺或酰胺基溶劑被用來使內(nèi)酯染料穩(wěn)定成無色形式。當胺或酰胺基溶劑蒸發(fā)時，內(nèi)酯群與酸性位發(fā)生反應(yīng)并且經(jīng)受開環(huán)以產(chǎn)生一個在目前讀取DVD和CD盤所用的波長處(即在650納米附近)具有強吸收能力的高度著色物質(zhì)。
更詳細地說，在圖3所示的反應(yīng)圖解中所示的無色內(nèi)酯被酸質(zhì)子化。每個氮被顯示帶有其自由的電子對。被質(zhì)子化的內(nèi)酯經(jīng)受開環(huán)以產(chǎn)生著色的化合物，在這個情況中，為藍色，其處于一個類奎寧(quininoid)形式。在具有乙基組的兩個氮上的電子對被直接涉及到質(zhì)子化的內(nèi)酯的開環(huán)，從而產(chǎn)生奎寧酮形式的著色化合物。
這個顏色變化系統(tǒng)的機能是基于一個四成分的平衡。該平衡是處于無色內(nèi)酯形式、著色奎寧酮形式和與顏色變化系統(tǒng)的永久性及揮發(fā)性成份相關(guān)的酸性及堿性位數(shù)量之間的平衡。
概括來說，顏色變化速度取決于溶劑的類型及其沸點。通過選擇一個適合的溶劑，可以在幾分鐘到幾小時甚至到更長的時間(天)的范圍內(nèi)發(fā)生完全的顏色形成。此外，通過改變內(nèi)酯部分與酸性位之間的比率在吸收率的范圍內(nèi)可以修改在讀出波長處的最終最大吸收率。
在本發(fā)明的其它實施例中，聚合體提供了一個堿性環(huán)境而蒸發(fā)溶液劑具有一個酸性特性。在這個情況下，當系統(tǒng)因蒸發(fā)導(dǎo)致從酸性過渡到堿性時，發(fā)生顏色的變化。
通過防止溶劑被蒸發(fā)這樣存儲盤的方法，盤“未染色”的狀態(tài)可以被維持，這點將在下面進一步加以說明。
進一步根據(jù)這些學說的一個實施例，在4-乙烯基苯酚聚合體(4-vinylphenol polymer)(av.8,000MW)中的氨基2苯并呋喃酮(amino-phthalide)染料在甲醛的存在下是交叉鏈接的。圖4顯示這個系統(tǒng)被涂到玻璃板上并被暴露在正常室溫下21個小時時的光吸收率。垂直線代表在650納米處的吸收率。在其它的實施例中這種交叉鏈接可以在遞增步驟中被加以控制，因為發(fā)現(xiàn)交叉鏈接的水平影響內(nèi)酯的開環(huán)。為了避免使用自由甲醛，可能進一步希望采用具有甲醛功能性、已經(jīng)化學鏈接到聚合體上的苯酚甲醛樹脂系統(tǒng)。也可能人工合成具有適合于聚合體成分溶解度性能的類似物。
在任何這些實施例中，涂層20A可以通過旋涂程序被施加。作為一個實例，對于在4-乙烯基苯酚聚合體(4-vinylphenol polymer)實施例中的氨基2苯并呋喃酮(amino-phthalide)染料，經(jīng)發(fā)現(xiàn)厚度等于或小于約1微米的層為最佳，并且發(fā)現(xiàn)當在650納米時的吸收率等于或大于約0.5時，DVD的可讀取性被禁止。實例1一種溶劑由1克聚(4-乙烯基苯酚)(poly(4-vinylphenol))(MW＝8,000)、10毫升乙醇、2毫升N，N-二甲基甲酰胺(N，N-dirnethylformamide)、200毫克3-[2，2-雙(4-二乙基氨基苯基)乙烯基)-6-二甲基氨基2-苯并呋喃酮(3-[2，2-bis(4-diethylarninophenyl)vinyl]-6-dimethylaminophthalide)而配制。載玻片、DVD和CD盤被涂上這種制劑以產(chǎn)生500至700納米厚的層。這種涂層在攝氏60-70度被干燥幾分鐘，這導(dǎo)致一個高度著有藍色的染料的產(chǎn)生。通過將載玻片或盤暴露于一個胺或酰胺基溶劑(例如，甲酰胺(fonnamides)、乙酰胺(acetamides)、吡咯烷酮(pyrrolidinones)的可控環(huán)境下，這個藍色染料被轉(zhuǎn)變回其無色狀態(tài)。當這些載玻片或盤連同吸附劑介質(zhì)如含有幾滴相應(yīng)溶劑的濾紙一起保持密封在聚酯或聚丙烯袋內(nèi)時，無色狀態(tài)得以保持。剛一從袋中取出，則再次發(fā)生顏色的形成。取決于所用溶劑的沸點，顏色的形成可以被定時。例如，利用本實例中所描述的制劑，并且通過采用1-甲基-2-吡咯烷酮(1-methy1-2-pyrrolidinone)作為溶劑，在室溫下經(jīng)過約6個小時后，獲得在650納米處0.7的最大吸收率。實例2經(jīng)發(fā)現(xiàn)改變聚合體與內(nèi)酯的比率可以控制在650納米處的最大可獲得的吸收率。重要的是不僅僅只增加內(nèi)酯群的濃度，而是還要調(diào)節(jié)內(nèi)酯部分可利用的酸性位數(shù)量。當載玻片和盤被涂上1.5克聚(4-乙烯基苯酚)(poly(4-vinylphenol))(MW＝8,000)、10毫升乙醇、2毫升N，N-二甲基甲酰胺(N，N-dimethylformamide)和300毫克3-[2，2-雙(4-二乙基氨基苯基)乙烯基)-6-二甲基氨基2-苯并呋喃酮(3-[2，2-bis(4-diethylarninophenyl)vinyl]-6-dimethylaminophthalide)的制劑時，在室溫下經(jīng)過約6個小時后可獲得在650納米處0.7的最大吸收率。實例3如果高沸點的胺或酰胺基溶劑被采用；例如b.p.＞100℃，則溶劑可以直接被添加到制劑中并且可以免去將涂層暴露在受控的溶劑環(huán)境下。例如，當載玻片或盤被涂上1克聚(4-乙烯基苯酚)(poly(4-vinylphenol))(MW＝8,000)、10毫升乙醇、2毫升1-甲基-2-吡咯烷酮(1-methyl-2-pyrrolidinone)和200毫克3-[2，2-雙(4-二乙基氨基苯基)乙烯基)-6-二甲基氨基2-苯并呋喃酮(3-[2，2-bis(4-diethylarninophenyl)vinyl]-6-dimethylaminophthalide)的制劑時，然后在50℃下被干燥5分鐘，則可以獲得略微未干的無色層。顏色變藍的變化以如這個實施例的實例1所述的同樣比率發(fā)生并且達到相同等級的吸收率。
這些學說的另一方面是一個控制顏色改變發(fā)生、進而控制光介質(zhì)可讀取狀態(tài)的持續(xù)時間的機理。
參考圖15，一個曲線被加以描述，該曲線繪制了介質(zhì)可讀取性時間(以小時)與被放置在顏色形成層302上的頂部阻擋層304(見圖14)厚度之間的關(guān)系。當揮發(fā)性物質(zhì)(例如蒸發(fā)溶劑)通過阻擋層302的轉(zhuǎn)移被減慢時，可以看到為了增加介質(zhì)維持在可讀取狀態(tài)的時間量，頂部阻擋層的厚度增加。阻擋層的厚度也可以被用來控制如下所述采用升華的這些實施例的可讀取性時間。
作為對介質(zhì)維持在可播放狀態(tài)這一時間的進一步控制，并且還參考圖13，顏色形成層302可以由一個被選擇用來在所要求的波長，例如在約650納米處進行吸收的發(fā)色團來偏置。通過使層302來展現(xiàn)介質(zhì)小于變成不可讀取之前被允許的最大吸收量(可讀取性閾值)的一些吸收量，介質(zhì)用于減少層302到可讀取性閾值的透射所需要的時間被降低，所述的透射是由于蒸發(fā)機理所導(dǎo)致。使用偏置發(fā)色團也可以有利于保證顏色改變層302的透射將不是漸進地接近可讀取性閾值，但不實際上與它相交叉。應(yīng)該注意到因激光器輸出、探測器靈敏度及其它因素的差異，可讀取性閾值可以從讀出器到讀出器而變化。使用偏置發(fā)色團可以因此有利于保證所有的介質(zhì)在大約相同量的時間內(nèi)在所有的讀出器中將變成不可讀取。
用于與采用650納米讀出波長的讀出器共同使用的盤20的一個合適的偏置發(fā)色團是被公知為3-二乙基氨基-7-二乙基亞氨基吩惡嗪酮鎓高氯酸鹽(3-Diethylyamino-7-diethyliminophenoxazoniumperchlorate)或惡嗪(Oxazine)725的一種染料，其在646納米處在乙醇中具有最大的吸收率。
作為本發(fā)明的另外一個方面，合成物和多選手(多波長)涂料可以被作為一個附加的特征。這樣的多波長涂料在兩個或多個與可能的讀出光波長、例如對于CD為630納米和780納米、對于DVD為630納米和650納米相重合的波長處提供吸收率最大值，并且在440納米處也容納未來的更高密度讀出波長。所述多波長涂料也可以被用來吸收一個特定波長和一個波長范圍，如635納米和750納米至800納米的范圍。
作為本發(fā)明的另外一個方面，盤20表面層的構(gòu)造可以被用來阻撓化學地或其它除去讀出波長吸收層、減弱其對盤20的附著、或者對其進行竄改的企圖。本發(fā)明這個方面的一個目的是使除去顏色形成聚合體造成非平(帶有構(gòu)造的)的盤讀出表面，使之永久性地不可讀取。除了依賴于盤讀出裝置的校正極限，或用于補償?shù)母櫃C構(gòu)的能力，或者上述兩者的組合以外，這個機理優(yōu)選地依賴于光學噪聲的引入。
本發(fā)明的這個方面可以利用幾個方法來加以實施。一個方法是通過如圖5所示在路徑A上對原始盤材料形成圖案而在盤的讀出側(cè)上產(chǎn)生一個表面構(gòu)造。這可以通過(僅作為實例)對原始盤材料進行壓紋、雕刻或刻痕來實現(xiàn)。產(chǎn)生帶有構(gòu)造的表面的另一種方法是進行不均勻的沉積，如在路徑B上所示通過在原始表面上噴射一種化學上防腐的、強附著性的并且光透明的材料使盤不可讀取(見圖14)。下一步是將一種或多種附加涂層20B施加到帶有構(gòu)造(非平的)的表面上，其中的涂層之一可能是顏色形成涂層且另一種涂層可能是保護涂層(見圖14)。所希望的是涂到層下面帶有構(gòu)造(非平的)表面上的涂層的折射率要匹配或基本匹配，以便于產(chǎn)生一個光滑的可播放的表面。施加到帶有構(gòu)造的表面上的任一或全部層20B可能具有使構(gòu)造光滑的功能性(例如，填充下面構(gòu)造的“谷”直到播放性可以接受的程度)。顏色形成涂層可以填充或部分填充下面的表面缺陷及/或構(gòu)造，然后保護涂層將剩余的地方填充。
參考圖14，在一個目前優(yōu)選的實施例中，處理是從如一個來自傳統(tǒng)盤生產(chǎn)線(14A)的盤20開始。在步驟14B中，讀出表面通過沉積一種光學上清潔、化學上防腐的材料而形成構(gòu)造。這便構(gòu)成了構(gòu)造或結(jié)構(gòu)300。在所優(yōu)選的實施例中，這個步驟將光學粘接劑(NorlandNOA73)噴射到盤的表面上，并且隨后紫外線(UV)將粘接劑固化。最終的結(jié)果是形成具有直徑約為200微米且高度約為250納米的三維特征或結(jié)構(gòu)300。在這個步驟結(jié)束后盤20便不可讀取。在步驟14C中，顏色形成涂層302被施加以便提供有限播放功能并且將表面構(gòu)造變得平滑。優(yōu)選地，通過旋涂包括如上所述的內(nèi)酯染料/溶劑系統(tǒng)的一層，涂層302被施加。如所示，顏色形成涂層302的厚度可能小于結(jié)構(gòu)300的高度(例如，小于約250納米)，雖然在其它實施例中顏色形成層302的厚度可能等于或超過結(jié)構(gòu)300的高度。例如，顏色形成涂層302的厚度可以約為800納米。顏色形成涂層302可能包括參考圖13所討論的偏置發(fā)色團。仍然在本發(fā)明范圍之內(nèi)的是在顏色形成層302內(nèi)(及/或在另一層內(nèi))包括一個或更多taggant如預(yù)先選擇的磷，當其由激勵光照射時發(fā)射預(yù)先設(shè)定波長。所述的taggant允許盤20或至少顏色形成涂層302其后被用來區(qū)分原產(chǎn)地，或區(qū)分制造批號等。優(yōu)選地，所選擇的taggant在任何顯著的程度上不與正常的讀取過程相干擾。如參考圖15所討論的那樣，在步驟14D中阻擋層304被施加以保護顏色形成涂層302并來控制從顏色形成涂層的材料流失速度。優(yōu)選地，阻擋層304也通過旋涂被施加，并且包括可由紫外線固化的聚合體，該聚合體包括一種吸收入射紫外線光的UV-A化合物。阻擋層304的厚度可以是在約7微米到約25微米的范圍內(nèi)，雖然可以采用更薄或更厚的膜厚度。阻擋層304被施加后要用紫外線對其固化。
優(yōu)選地，直到盤20由于顏色形成涂層302變成不透明，基本上為不透明而不可讀取時，或者直到它只簡單地阻擋足夠量的光線以使盤20不再可讀取時，讀取性才惡化。
在這一點上，應(yīng)該注意到在本實施例中或在本發(fā)明的任何其它采用所述顏色形成涂層的實施例中，沒有必要讓涂層變成光不透明，因為盤20可能就在達到光不透明的狀態(tài)或條件之前就變成不可讀取或不可播放。
進一步根據(jù)這些學說，溶解或者除去部分或全部顏色形成涂層302便暴露出帶有構(gòu)造的表面的三維結(jié)構(gòu)300，其結(jié)果是盤20保持或變成不可讀取。
本發(fā)明的另一方面是如圖5所示沿著路徑C產(chǎn)生一個單合成物涂層。在這個方面中，盤表面的部分讀出表面被涂有這種顏色形成(CF)材料并且剩余的表面區(qū)域被涂有化學上防腐的透明材料(TM)。將化合物涂層的顏色形成部分溶解使盤表面帶有構(gòu)造并且因此使盤永久性地不可讀取。
如上所陳述，由目前的盤讀出器對光盤20的成功讀出極大地取決于眾多參數(shù)，這些參數(shù)表示讀出激光束在其從激光器到盤的反射數(shù)據(jù)層并返回到讀出器的光檢取系統(tǒng)的路徑中的特征。讀出束的電磁波結(jié)構(gòu)由構(gòu)成讀出束的波組分的強度、相位、偏振和波矢進行描述。束的波結(jié)構(gòu)決定束的幾何和傳播參數(shù)，如束的大小、入射角和會聚角。
如果讀出束的完整性被光學上不均質(zhì)的或不均勻的盤材料所損害，則根據(jù)這些學說的一個方面，盤20的播放性可以由于數(shù)據(jù)讀出(誤差校正)、自動調(diào)焦和自動跟蹤這三個束功能的任何一個功能的故障而被阻止。
根據(jù)這些學說的這個方面，光盤20的有限播放機構(gòu)是基于盤讀出側(cè)的反應(yīng)性表面層的轉(zhuǎn)變，這種轉(zhuǎn)變引起層表面參數(shù)如平直度和粗糙度的變化。這種轉(zhuǎn)變可以由物理和/或化學的過程來引起。物理過程包括涂層物質(zhì)的蒸發(fā)或升華，以及材料損失，造成最初存在于層中的成分濃度梯度的變化。所述成分可以通過例如擴散或解吸方式被流失到周圍介質(zhì)中?；瘜W過程包括由光、由流失最初存在于層中的一個成分或由從周圍介質(zhì)中吸收一個成分而導(dǎo)致的化學反應(yīng)。
表面層的這種轉(zhuǎn)變的一個具體情況導(dǎo)致盤20的彎曲或翹曲(表面的平直度被有利地影響)，這使盤20不可讀取。這可以例如通過將盤20涂上兩種不同的層而被實施，其中至少一層是反應(yīng)性的，不同層具有不匹配的膨脹率或彈性常數(shù)。在這種情況下的轉(zhuǎn)變導(dǎo)致盤的翹曲(例如一種“雙金屬板”效應(yīng))。表面層轉(zhuǎn)變的另一個具體情況導(dǎo)致表面地形構(gòu)造(表面溝紋，表面的光學粗糙度受到影響)，這使盤20不可讀取。這可以例如通過將盤20涂上一種反應(yīng)性層而被實施，其中轉(zhuǎn)變誘使彈性應(yīng)力超過層材料的抗張強度。這導(dǎo)致涂層的多處斷裂和碎裂，并且因此導(dǎo)致表面顯著的光學粗糙度，這使得盤20至少由于讀取光增加的散射而不可讀取，而沒有重大地改變涂層的透射。
這些學說的另一個實施例涉及由一種溶劑蒸發(fā)導(dǎo)致的表面地形構(gòu)造，這種蒸發(fā)不均勻地改變了層材料的表面張力，引起增加的表面粗糙度(Marangoni效應(yīng))及增加的光學散射。
在這些實施例中，在至少一層中的機械應(yīng)力的增加或變化導(dǎo)致盤20變得光學上不可讀取。
適合于這種應(yīng)用的一個反應(yīng)性化合物的實例是一個經(jīng)受順式-逆式(cis-trans)異構(gòu)化的化學部分，如變質(zhì)處理后的氮-苯(azo-benzene)，當它被暴露于如在讀取束中所形成的空間上不均勻光(輻射亮度)時，經(jīng)受順式-逆式(cis-trans)異構(gòu)化。這種化合物從逆式到順式配置的轉(zhuǎn)變是靠體積變化而實現(xiàn)的，這種體積變化導(dǎo)致在分層涂層的幾何結(jié)構(gòu)中產(chǎn)生彈性應(yīng)力。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，用于使光盤20不可讀取的方法包括下述步驟a)提供具有至少一層的光盤20，所述層在激勵存在時如存在可能由揮發(fā)性組分化合物的蒸發(fā)或升華引起的揮發(fā)性組分化合物向周圍介質(zhì)的轉(zhuǎn)移時經(jīng)受表面變形；以及b)選擇性地從層中將揮發(fā)性組分化合物向周圍介質(zhì)中遷移以引起層表面的變形。在播放過程中，或更籠統(tǒng)地說在可以成功地讀取出盤20期間，由此導(dǎo)致的表面變形引起束象差，這可以防止在讀取期間將束聚焦在數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)23特征上所要求位置處。這造成在讀出過程期間通常失敗地讀出盤20上數(shù)據(jù)。
圖6是一個光學上可讀取介質(zhì)的一部分的放大橫斷面圖，此光學上可讀取介質(zhì)具有由平面分布修改而成的表面外形，并且還根據(jù)本發(fā)明的學說它可以被用來不利地影響讀出裝置的跟蹤工作。在這個實施例中，通過采用光敏聚合體或通過一種蒸發(fā)技術(shù)或一種升華技術(shù)，或通過提供與空氣中的物質(zhì)如氧氣、水蒸氣或二氧化碳相結(jié)合的表面層，平面的表面外形被修改成非平面的(或平坦的)表面外形(未按規(guī)定比例顯示)。在這些情況下，沒有必要如通過借助于顏色變化來增加輻射吸收性能來修改表面層對于讀取束的透明性。相反，變化的表面外形以及其與所期望的平面的表面層外形的偏差已經(jīng)足以不利地影響讀出設(shè)備的工作，如跟蹤工作。
圖7、8和9顯示出盤20的兩維外形測量報告，該報告是利用WYKO光學干涉測量剖面儀而產(chǎn)生的。由剖面儀產(chǎn)生的測量報告顯示一個試樣的外形表面起伏。每個報告的左手側(cè)畫面顯示出試樣表面區(qū)域的頂視地圖。在這個地圖中地形高度由一個灰度圖像來代表，其中較深區(qū)域代表谷且較亮區(qū)域代表峰。所掃描區(qū)域的實際側(cè)向尺寸沿著地圖的軸被顯示。該地圖還包括指示起伏斷面線條的十字絲。在每個報告的右手側(cè)，“X-分布”和“Y-分布”圖形分別通過水平的和垂直的十字絲顯示出斷面的側(cè)視圖。這些側(cè)視圖分布提供有關(guān)表面起伏高度外形的定量信息以及表面特征的側(cè)向尺寸。
圖7-9是針對加工一個盤的三個不同階段而獲得的。如圖7所示的初始階段是一個原始盤，在這種情況下是一個來自復(fù)制線的DVD。如圖8所示的中間階段是一個帶有被施加粗糙、高度化學防腐涂層201，如在圖14B所示的三維表面分布300的一個盤或DVD。在這個階段盤20不可讀取。來自這個階段的報告提供一個使盤20不可讀取的外形的具體實例。如圖9所示的最終階段是一個帶有被施加到粗糙涂層201上面的涂層200的盤20。這個涂層200可以包括如圖14C和14D所示的顏色形成層302以及阻擋層304。在這一點上，盤20的表面再次足夠光滑能夠使盤20返回到可以讀取的條件，并且如圖7所示光滑度比得上初始階段，這可以從相應(yīng)的報告中看出。
如通過除去上頂部、使保護涂層200變光滑來竄改讀出禁止機構(gòu)的企圖會因此導(dǎo)致下面粗糙涂層201的暴露，從而使盤20不可讀取。
要注意到如前所述光滑的保護涂層200可能包括顏色形成層302。在這個情況下，除去顏色形成層302直接導(dǎo)致下面帶有構(gòu)造的(非平的)層201表面的暴露，從而使光盤20不可讀取。
進一步根據(jù)這些學說，并且參考圖10和11，折射率匹配表面層的升華被用來將下面帶有構(gòu)造的或粗糙的(非平的)表面層暴露，使光盤20不可讀取。在圖10的步驟B中，通過如在圖5中的路徑A所示在原始盤材料上形成圖案，一個表面構(gòu)造被產(chǎn)生在盤20的讀取側(cè)上。這可以通過(僅作為實例)對原始盤材料進行壓紋、雕刻或噴射成型以其具有一個化學上或機械上侵蝕的構(gòu)造或簡單通過對原始盤材料進行刻痕來實現(xiàn)。
如上參考圖14所述，產(chǎn)生一個帶有構(gòu)造的表面的另一種方法是如圖5的路徑C所示，通過在原始表面上不均勻地沉積或通過在其上噴射(優(yōu)選地)一種化學防腐的、強力附著的且光透明的材料，使盤不可讀取。在這種情況下，并且例如，通過在盤表面放置小滴所需材料并且允許所述小滴變干或固化，表面可能變得不平坦。
下一個步驟C施加至少一種升華涂層200以及任選地另一種允許升華涂層200的揮發(fā)性化合物通過的涂層200A。任選的涂層200A可能因而起到保護涂層和控制升華速度以及由此控制盤20可播放使用壽命的作用。施加層200的結(jié)果是一個光滑的可播放的表面被提供給光盤20，因為下面的非平表面已經(jīng)被升華涂層200所變平。施加(任選的)保護阻擋層200A概括地在步驟D中被顯示，這也表示將盤20包裝在一個氣密性的容納有足夠量升華物質(zhì)的包裝中以保證一個兩路轉(zhuǎn)移。在步驟E中假設(shè)包裝被打開，由此開始了播放周期，并且步驟F顯示當已經(jīng)進行到升華層200基本上完全被除去時刻之后升華過程的結(jié)果。這暴露出盤20下面粗糙的或帶有構(gòu)造的表面，使盤20不可讀取。應(yīng)該注意到可以獲得足夠程度的表面粗糙度以防止在整個升華(光滑化)層已經(jīng)被流失到周圍介質(zhì)中很久之前的播放性，其取決于盤20非平表面上所提供的特征的高度和/或深度。
為了證明一種無色的透明固體可能以一個利于使光盤(例如一個DVD)不可讀取的速度來升華，金剛烷(Mp＝261-271℃)被壓進一個具有表面面積為0.785cm2的圓形金屬容器。這樣升華將只是從金剛烷的表面進行。通過在各種時間里對容器進行稱量并從原始重量中減去所獲得的重量，由于在室溫下的升華導(dǎo)致的重量損失被加以確定。這個數(shù)據(jù)以及數(shù)據(jù)圖形在圖11中被顯示。
可以看出升華速度隨著時間相當呈線性，并且在這個情況下具有0.516mg/hr/cm2的值。采用這個升華速度，可以顯示出一層金剛烷將以每小時0.48微米的速度損失厚度。換句話說，如上所述，涂在一個光盤20的帶有構(gòu)造(不平坦的)表面上面的五微米厚的一層金剛烷在約10個小時里將使帶有構(gòu)造的表面升華并暴露，隨后使光盤20不可讀取。
為了防止通過蒸發(fā)或升華使材料太早流失進入到光盤包裝材料的自由空間中，以剝離片形式的阻擋層(它可能是不透明的或基本上是這樣不透明的)可以被粘貼到盤20的讀出表面。所述阻擋層是難以滲透到被放置在盤20讀取表面上的揮發(fā)性成分的一種阻擋層(例如，如在升華實施例中的上述金剛烷或在蒸發(fā)實施例中的上述溶劑)。揮發(fā)性成分可以是用在本發(fā)明防竄改實施例中或在可讀取的使用壽命限制實施例中的那些揮發(fā)性成分。在任何情況下，以剝離片形式的阻擋層用于禁止如通過蒸發(fā)或升華的轉(zhuǎn)移，直到在使用盤20之前被除去(圖10，步驟D)。打開盤包裝之后除去剝離片(阻擋層)用于保證盤20變成可讀取并且對有限播放機構(gòu)進行初始化。
圖16舉例說明一個密封的容器或包裝500，如一個箔或塑料袋，其適合于實踐本發(fā)明的一個方面。這個包裝500容納一個或多個盤20以及顏色阻擋劑(CBA)的一個源502或載體。載體502保留CBA并且逐漸將它以氣態(tài)釋放進包裝500里。CBA通過擴散和轉(zhuǎn)移被輸送到盤20，在此它與盤20相互作用以維持盤處于一種機器可讀取狀態(tài)。這個過程繼續(xù)直到在CBA氣體和盤20之間的平衡被達到，從這個時刻開始盤保持在一種機器可讀取狀態(tài)直至包裝500被打開。
CBA可能是一種固體、液體或氣體。實例或釋放機理包括穿透膜片的蒸發(fā)、升華及擴散。CBA的載體502可以作為一種具有開發(fā)的表面(例如纖維質(zhì)的或多孔的)的一片或swab材料或一種如聚合體的CBA吸收材料而被實施。CBA釋放動力學可以通過載體502的各種參數(shù)如相對于盤在包裝500中的大小及位置以及/或通過孔隙率或滲透率而被調(diào)節(jié)。對于蒸發(fā)的實施例，CBA可能是構(gòu)成顏色形成層302(圖14)的一部分的相同溶劑，或者對于升華的實施例，CBA可以是相同的升華化合物。
打開包裝500導(dǎo)致CBA從包裝中快速流失，以及CBA載體502的損耗。CBA氣體與盤20之間的平衡于是被永久地移向減少CBA的濃度，其對應(yīng)于有限播放時間的開始。同樣地，有限播放機構(gòu)的觸發(fā)與包裝500的打開同時發(fā)生。
在任何一個前述的實施例中，在本發(fā)明范圍內(nèi)的是提供另外的保護透明涂層(例如，阻擋層304)來改善光盤20的堅固性。對于這些與周圍介質(zhì)相互作用的實施例(例如，那些使空氣中的水汽升華、蒸發(fā)的那些實施例或吸收這些水汽的實施例)，保護層被構(gòu)造成不防止這一行為。如前面參考圖15所述，如通過將通過阻擋層304的轉(zhuǎn)移限制到若干預(yù)先設(shè)定的最大速度，保護阻擋層可能被應(yīng)用來調(diào)節(jié)光盤20保持可讀取期間的持續(xù)時間。例如，保護層可能由通過旋涂程序而施加隨后被紫外線固化而硬化的紫外線(UV)固化聚合體而組成。保護層聚合體材料優(yōu)選地包括一種硅酮基材料。它可能也包括環(huán)氧樹脂基成分。通過一種噴射技術(shù)及通過自旋(spining on)，或者通過將盤20放置到充滿所需組分的氣氛內(nèi)，并且讓所需組分凝結(jié)到盤20的讀出表面上，保護涂層及下面的折射率匹配的非平表面的光滑層以及/或顏色改變蒸發(fā)層可以被施加到光盤上。
在本發(fā)明的各種實施例中，組成讀取禁止層的材料可以包括一種內(nèi)酯染料，如結(jié)晶紫內(nèi)酯、聚-p-(羥基苯乙烯)(ploy-p-(hydroxystyrene))、乙醇、N-甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidinone)和氨水以及甲醛，或者所述層可以包括乙酸丁酸纖維素、乙酸乙酯、硅膠及苯甲基醇(benzyl alcohol)，或者所述層可以包括一種揮發(fā)性胺鹽、一種非揮發(fā)性酸成分以及一種內(nèi)酯染料或一種pH值指示劑染料，或所述層可包括一包含pH指示劑染料的水阻(water damp)聚合體膜，其中在存儲期間所述層被暴露于其水溶液為酸性或堿性之一的一種氣體氣氛下，并且其中當從存儲中移開時一種揮發(fā)性氣體從水阻膜中蒸發(fā)，并且pH值的變化引起pH值指示劑染料的顏色變化。
應(yīng)該理解為本發(fā)明學說的眾多實施例在此已經(jīng)被加以說明，并且還應(yīng)該理解為本發(fā)明的學說并不意味著以限制性的思維僅包括這些說明的實施例來被閱讀。
例如，在本發(fā)明的另一個實施例中，人們不需要在盤20的讀取表面上提供一種基本上均勻的能夠蒸發(fā)或升華的材料涂層或?qū)?。根?jù)這個實施例，并且參考圖12，盤20的表面上已經(jīng)被施加了一個透明層200B，這個透明層包含揮發(fā)性材料的局部區(qū)域200C。區(qū)域200C可以以任何適合的方法，如通過在噴射或旋涂揮發(fā)性材料的小顆粒之前將其混合或添加到透明層200B的液相中。保護涂層200D可以被施加到層200B上。在本發(fā)明的這個實施例中，層200B的材料被假設(shè)為基本上折射率與區(qū)域200C的揮發(fā)性材料相匹配，并且讀取過程以正常的方式在繼續(xù)。但是，區(qū)域200C的材料通過保護涂層200D(如果存在的話)被部分或全部蒸發(fā)或升華后，由此引起的空隙不再或基本上不再與透明層200B的周圍陣列折射率相匹配。在這種情況下，由于空隙存在導(dǎo)致光散射增加，并且盤20的可讀取性被惡化且損害，這正是所需要的結(jié)果，并且不需要顯著地改變層的透射。優(yōu)選地，讀出束特征被干擾，并且光學噪聲被增加。
聚合體分散液晶(PDLC)可能被應(yīng)用在另一個實施例中，其中所述PDLC被極化(poled)并且被假設(shè)處于一個雙穩(wěn)態(tài)。在這種情況下，由于讀出激光束引起的熱效應(yīng)被用來破壞PDLC定向狀態(tài)的穩(wěn)定性，導(dǎo)致盤20變得不可讀取。仍然在這些學說范圍內(nèi)的是將液晶材料用升華或蒸發(fā)劑來代替。
此外，在上面所公開的多個波長實施例中，在這些學說范圍內(nèi)的是合并多個用于偏置每個所關(guān)注波長的顏色形成涂層的發(fā)色團。另外在這點上，偏置發(fā)色團可能被放置在顏色形成層302中，和/或阻擋層304中以及/或第三層中。同樣，對于多個波長實施例，一個單顏色形成涂層302可以被采用，或者多個顏色形成涂層302可以被施加，一個涂層用于每個所關(guān)注的波長。注意多個顏色形成涂層不需要一個在另一上面疊放，而是代之可以被放置在盤20讀取表面上的同一平面里的不同位置處。
還可以進一步理解為用于設(shè)置光盤20有限播放周期的持續(xù)時間的方法是本發(fā)明的一個方面。參考圖13和15，該方法包括下述步驟構(gòu)造盤20以包括至少一個包含揮發(fā)性化合物的有限播放區(qū)域(302，200)，該有限播放區(qū)域由通過上述區(qū)域與周圍介質(zhì)之間的一個濃度梯度所驅(qū)動的揮發(fā)性化合物的轉(zhuǎn)移而工作；以及通過設(shè)置覆蓋在所述區(qū)域的轉(zhuǎn)移阻擋層(304，200A)的厚度來調(diào)節(jié)有限播放周期的持續(xù)時間。調(diào)節(jié)步驟可以包括在有限播放區(qū)域結(jié)合顏色形成層302添加一個偏置發(fā)色團這樣另外一個步驟。
因此應(yīng)該很顯然的是本發(fā)明目前所優(yōu)選的實施例的各種選擇方案和修改可能由本領(lǐng)域的技術(shù)人員來建議而不偏離本發(fā)明的學說。因而，在此的學說旨在包含所有處于權(quán)利要求范圍內(nèi)的這樣的選擇方案、修改及變化。
權(quán)利要求
1.一種用于使一個光學上可讀取的介質(zhì)不可讀取的方法，其包括下述步驟為所述介質(zhì)提供一個非平的并且禁止所述介質(zhì)光讀出的讀出表面層；將一個涂層施加到非平表面層以便使非平表面變得平滑并且允許對介質(zhì)的光讀出；以及在讀出周期的初始化之后，減少所述涂層的厚度以便暴露出非平讀出表面層，從而禁止介質(zhì)的光讀出。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂層基本上與讀取表面層折射率相匹配。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中減少所述厚度的步驟包括一個使涂層的至少一種成分材料蒸發(fā)的步驟。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中減少所述厚度的步驟包括一個使涂層的至少一種成分材料升華的步驟。
5.一種用來阻礙對光學上可讀取介質(zhì)的讀出限制機構(gòu)進行竄改的方法，其包括下述步驟為介質(zhì)提供包括有讀出限制機構(gòu)的至少一層；提供包括位于所述至少一層下面一層的帶有構(gòu)造的表面，其中所述的帶有構(gòu)造的表面禁止介質(zhì)的光讀出；以及在所述帶有構(gòu)造的表面上施加一種涂層以便使帶有構(gòu)造的表面光滑并且允許對介質(zhì)的光讀出，其中涂層的除去暴露出帶有構(gòu)造的表面，從而禁止介質(zhì)的光讀出。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其中讀取限制機構(gòu)包括從光透明狀態(tài)變化到禁止成功讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的狀態(tài)的一層。
7.如權(quán)利要求5所述的方法，其中讀取限制機構(gòu)包括所述的涂層。
8.如權(quán)利要求5所述的方法，其中讀取限制機構(gòu)包括所述的涂層，并且從光透明狀態(tài)變化到禁止成功地讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的狀態(tài)。
9.如權(quán)利要求5所述的方法，其中讀取限制機構(gòu)包括從允許成功讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的第一狀態(tài)變化到禁止成功讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的第二狀態(tài)的一層。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由光吸收的增加所引起。
11.如權(quán)利要求9所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由機械應(yīng)力的增加所引起。
12.如權(quán)利要求9所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由散射引起的波前象差或光噪聲的增加所引起。
13.如權(quán)利要求9所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由一種揮發(fā)性化合物的蒸發(fā)所引起。
14.如權(quán)利要求9所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由一種揮發(fā)性化合物的升華所引起。
15.如權(quán)利要求5所述的方法，其中所述涂層基本上與帶有構(gòu)造的表面層折射率相匹配。
16.一種使一個光學上可讀取介質(zhì)不可讀取的方法，其包括下述步驟為介質(zhì)提供一個具有可禁止成功讀取光學上可讀取介質(zhì)的帶有構(gòu)造的表面的第一層；將所述帶有構(gòu)造的表面涂上由揮發(fā)性成分組成的一個第二層；除去至少一些所述的揮發(fā)性成分以引起至少光吸收或散射或表面粗糙性之一的增加；其中除去所述第二層的企圖造成帶有構(gòu)造的表面的暴露，從而禁止了成功讀出光學上可讀取的介質(zhì)。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其中除去至少一些揮發(fā)性化合物的步驟通過阻擋層而發(fā)生。
18.如權(quán)利要求16所述的方法，其中除去至少一些揮發(fā)性化合物的步驟發(fā)生在除去一個阻擋層的步驟之后。
19.如權(quán)利要求16所述的方法，其中除去至少一些揮發(fā)性化合物的步驟發(fā)生在從容納有揮發(fā)性化合物的包裝中除去所述介質(zhì)的步驟之后。
20.一種用于使光學上可讀取的介質(zhì)不可讀取的方法，其包括下述步驟為介質(zhì)提供一個具有可禁止成功讀取光學上可讀取介質(zhì)的帶有構(gòu)造的表面的第一層；將所述帶有構(gòu)造的表面涂上由揮發(fā)性成分組成的一個第二層；在介質(zhì)播放允許期間除去至少一些揮發(fā)性成分以減少至少第二層的厚度；以及當?shù)诙拥暮穸缺粶p少到帶有構(gòu)造的表面的暴露出現(xiàn)的那一點上，終止介質(zhì)播放允許周期，從而禁止成功讀取光學上可讀取的介質(zhì)。
21.如權(quán)利要求20所述的方法，其中除去至少一些揮發(fā)性成分的步驟通過一個阻擋層而發(fā)生，并且在此所述阻擋層具有預(yù)先設(shè)定的厚度用來控制揮發(fā)性成分通過阻擋層的轉(zhuǎn)移速度。
22.如權(quán)利要求20所述的方法，其中除去至少一些揮發(fā)性化合物的步驟發(fā)生在除去一個阻擋層的步驟之后。
23.如權(quán)利要求20所述的方法，其中除去至少一些揮發(fā)性化合物的步驟出現(xiàn)在從容納有揮發(fā)性化合物的包裝中除去所述介質(zhì)的步驟之后。
24.一種用于使一個光學上可讀取的介質(zhì)不可讀取的方法，其包括下述步驟為介質(zhì)提供一個透明讀出表面層，該層包含由一種揮發(fā)性化合物組成的局部區(qū)域；以及在一個讀取周期的初始化之后，轉(zhuǎn)移至少一些揮發(fā)性化合物進入到讀取表面層用于在所述透明讀取表面層內(nèi)產(chǎn)生空隙，所述空隙增加了光散射并且干擾介質(zhì)的光讀取。
25.如權(quán)利要求24所述的方法，其中讀取表面層的材料基本上與揮發(fā)性化合物折射率相匹配。
26.如權(quán)利要求24所述的方法，其中轉(zhuǎn)移的步驟包括一個蒸發(fā)步驟。
27.如權(quán)利要求24所述的方法，其中轉(zhuǎn)移的步驟包括一個升華步驟。
28.一種光學上可讀取的介質(zhì)，其包括一個將由一個讀取裝置光學上可讀取的信息進行編碼的區(qū)域；一個非平的并且可禁止讀出裝置讀取所述信息的覆蓋讀出表面層；以及一個在所述非平表面層上的涂層，用于使非平表面變光滑并且允許讀出裝置來讀取所述信息；其中所述涂層響應(yīng)于一個讀取周期的初始化，以減少厚度以便于暴露至少非平讀出表面層的一部分，從而禁止讀出裝置讀取信息。
29.如權(quán)利要求28所述的介質(zhì)，其中所述的涂層基本上與讀出表面層折射率相匹配。
30.如權(quán)利要求28所述的介質(zhì)，其中所述涂層由揮發(fā)性化合物組成并且通過所述揮發(fā)性化合物的蒸發(fā)和升華其厚度被減少。
31.一種光學上可讀取的介質(zhì)，其包括一個將由讀取裝置光學上可讀取的信息進行編碼的區(qū)域；一個具有覆蓋在所述區(qū)域上的帶有構(gòu)造的表面的透明層，所述帶有構(gòu)造的表面禁止讀取裝置對介質(zhì)的光讀出；以及一個覆蓋在所述帶有構(gòu)造的表面上的讀出限制層，所述讀出限制層使所述帶有構(gòu)造的表面光滑并且允許在讀出周期的持續(xù)時間里由讀出裝置對介質(zhì)的光讀出，其中讀出限制涂層的除去暴露了所述的帶有構(gòu)造的表面，從而禁止由讀出裝置對介質(zhì)的光讀出。
32.如權(quán)利要求31所述的介質(zhì)，其中所述讀出限制層包括從光透明狀態(tài)變化到禁止成功讀出介質(zhì)表面區(qū)域的狀態(tài)的材料。
33.如權(quán)利要求31所述的介質(zhì)，其中所述讀出限制層包括從允許成功讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的第一狀態(tài)變化到禁止成功讀出位于介質(zhì)上的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的第二狀態(tài)的材料。
34.如權(quán)利要求33所述的介質(zhì)，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由光吸收的增加所引起。
35.如權(quán)利要求33所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由機械應(yīng)力的增加所引起。
36.如權(quán)利要求33所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由光散射的增加所引起。
37.如權(quán)利要求33所述的方法，其中到所述第二狀態(tài)的所述變化由一種揮發(fā)性化合物的蒸發(fā)或升華所引起。
38.如權(quán)利要求31所述的方法，其中所述讀取限制層基本上與所述透明層折射率相匹配
39.如權(quán)利要求31所述的介質(zhì)，其中至少一層由一種揮發(fā)性物質(zhì)所組成，并且還包括一個阻擋層用于將所述至少一個層同周圍介質(zhì)相隔離。
40.如權(quán)利要求31所述的介質(zhì)，其中至少一層由一種揮發(fā)性物質(zhì)組成，并且還包括一個剝落阻擋層用來將所述至少一層與周圍介質(zhì)相隔離，至少持續(xù)到需要在讀出裝置中使用該介質(zhì)。
41.一種光學上可讀取的介質(zhì)，其包括一個將由讀取裝置光學上可讀取的信息進行編碼的區(qū)域；以及一個容納有由揮發(fā)性化合物組成的局部區(qū)域的透明讀出表面層，所述局部區(qū)域響應(yīng)于一個讀出周期的初始化，用于除去至少一些揮發(fā)性化合物以在所述透明讀出表面層內(nèi)產(chǎn)生空隙，所述空隙增加光散射，從而禁止介質(zhì)的光讀出。
42.如權(quán)利要求41所述的介質(zhì)，其中組成所述讀出表面層的材料基本上與揮發(fā)性化合物折射率相匹配。
43.如權(quán)利要求41所述的介質(zhì)，其中所述的揮發(fā)性化合物通過至少蒸發(fā)或升華之一而被除去。
44.一種光學上可讀取的盤，其包括一個讀出表面，通過該讀出表面一個讀出裝置能夠讀出信息；被放置在所述讀出表面上的多個三維特征，所述特征禁止由讀取裝置對所述介質(zhì)進行光讀出。一個放置在所述讀取表面上并且至少部分覆蓋所述特征的顏色形成層；以及一個放置在所述顏色形成層上面的外層，其中所述特征完全被所述顏色形成層和所述外層所覆蓋，并且其中所述顏色形成層和所述外層的存在允許由讀取裝置對所述盤進行光讀出。
45.如權(quán)利要求44所述的光學上可讀取的盤，其中所述顏色形成層包括一種揮發(fā)性化合物，這種揮發(fā)性化合物通過一個由所述顏色形成層和一個周圍介質(zhì)之間的濃度梯度所驅(qū)動的轉(zhuǎn)移機理進入到所述周圍介質(zhì)。
46.如權(quán)利要求45所述的光學上可讀取的盤，其中所述外層的厚度至少部分地根據(jù)所需的時間量被選擇，所述時間是所述轉(zhuǎn)移機理的初始化之后所述盤將被維持在一個可讀取的狀態(tài)的時間。
47.如權(quán)利要求44所述的光學上可讀取的盤，其中所述盤包括一個光學上可探測的taggant化合物。
48.如權(quán)利要求44所述的光學上可讀取的盤，其中所述顏色形成層展現(xiàn)對應(yīng)于一個讀出波長的最大吸收。
49.如權(quán)利要求44所述的光學上可讀取的盤，其中所述顏色形成層展現(xiàn)對應(yīng)于多個讀出波長的多個最大吸收。
50.如權(quán)利要求44所述的光學上可讀取的盤，其中除去所有或部分所述顏色形成層的厚度暴露出一些所述三維特征以便隨后禁止由讀取裝置對盤的光讀出。
51.如權(quán)利要求45所述的光學上可讀取的盤，其中所述盤被密封在一個裝有所述揮發(fā)性化合物的源的容器內(nèi)。
52.如權(quán)利要求45所述的光學上可讀取的盤，其中所述盤還包括一個剝落阻擋層以防止所述揮發(fā)性化合物通過所述外層的轉(zhuǎn)移。
53.如權(quán)利要求44所述的光學上可讀取的盤，其中所述顏色形成層包括至少一個發(fā)色團，該發(fā)色團偏置所述顏色形成層以便于減少所述顏色形成層從所述盤可讀取的狀態(tài)過渡到所述盤不可讀取的狀態(tài)所需要的時間。
54.一種制造有限播放光學上可讀取的盤的方法，其包括下述步驟為盤提供一個讀出表面，通過該讀出表面讀出裝置能夠讀取信息；在所述讀出表面形成多個三維特征，所述特征禁止由讀取裝置對所述盤的光讀出；形成一個放置在所述讀取表面并且至少部分覆蓋所述特征的顏色形成層；形成一個放置在所述顏色形成層上面的外層，其中所述特征完全被所述顏色形成層和所述外層所覆蓋，并且所述顏色形成層和所述外層的存在允許由讀出裝置對所述的盤光讀出。
55.一種用于設(shè)置一個光學上可讀取盤的有限播放周期持續(xù)時間的方法，其包括下述步驟構(gòu)造盤以包括至少一個包含揮發(fā)性化合物的有限播放區(qū)域，該有限播放區(qū)域由通過上述區(qū)域與周圍介質(zhì)之間的濃度梯度所驅(qū)動的揮發(fā)性化合物的轉(zhuǎn)移而工作；以及通過設(shè)置覆蓋在所述區(qū)域的轉(zhuǎn)移阻擋層的厚度來調(diào)節(jié)有限播放周期的持續(xù)時間。
56.如權(quán)利要求55所述的方法，其中所述的調(diào)節(jié)步驟還包括在有限播放區(qū)域結(jié)合顏色形成層302添加一個偏置發(fā)色團這樣另外一個步驟。
全文摘要
用于使一個光學上可讀取的介質(zhì)不可讀取且防竄改的方法和裝置被提供。一種用于使光學上可讀取的介質(zhì)不可讀取的方法被公開，這個介質(zhì)是作為一個根據(jù)本發(fā)明的方法工作的介質(zhì)。這種方法具有這樣的步驟(a)為所述介質(zhì)提供一個非平的(即，以某些方式如通過對一個非平面層或區(qū)域進行壓紋、刻痕、沉積如小滴而帶有構(gòu)造)并且禁止所述介質(zhì)的光讀出的讀出表面層；(b)將涂層施加到非平表面層以便使非平表面變得平滑并且允許對介質(zhì)的光讀出；并且在讀出周期的初始化之后，(c)除去所述涂層以便暴露出非平讀出表面層，從而禁止介質(zhì)的光讀出。優(yōu)選地，涂層基本上與讀出表面層折射率相匹配。在一個實施例中除去的步驟包括使涂層的至少一個成分材料蒸發(fā)這樣一個步驟，而在另一個實施例中除去的步驟包括使涂層的至少一個成分材料升華這樣一個步驟。還公開了一種用來阻礙對光學上可讀取介質(zhì)的讀出限制機構(gòu)進行竄改的方法，這種介質(zhì)是按照能夠根據(jù)本方法工作而構(gòu)造的。在這個實施例中，所述方法包括如下步驟(a)為介質(zhì)提供包括有讀出限制機構(gòu)的至少一層；(b)提供構(gòu)成位于所述至少一層下面一層的部分的帶有構(gòu)造的表面，其中所述的帶有構(gòu)造的表面禁止介質(zhì)的光讀出；以及(c)在所述帶有構(gòu)造的表面上施加一個涂層以便使帶有構(gòu)造的表面光滑并且允許對介質(zhì)的光讀出，其中涂層的除去暴露出帶有構(gòu)造的表面，從而禁止介質(zhì)的光讀出。所述盤被包裝在一個具有試劑源的密封容器中，這種試劑源禁止揮發(fā)物種從顏色形成層或從升華層的轉(zhuǎn)移，其中有限播放周期的開始與容器的打開同時發(fā)生。
文檔編號C08G63/08GK1411596SQ00817259
公開日2003年4月16日 申請日期2000年10月18日 優(yōu)先權(quán)日1999年10月19日
發(fā)明者N·M·拉邁迪, C·M·策普, M·克里格-科瓦爾德, A·斯穆克 申請人:光譜盤公司