一種布釉裝置的制造方法
【專利說明】
[0001]技術(shù)領(lǐng)域:
[0002]本實(shí)用新型涉及陶瓷生產(chǎn)技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0003]現(xiàn)有的布釉技術(shù)，包括鐘罩式布釉技術(shù)和直線式布釉技術(shù)，鐘罩式布釉技術(shù)容易施釉不均勻，直線式布釉技術(shù)容易堵塞釉嘴，而且，兩種技術(shù)都存在不能消除釉里面的氣泡。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足，提供了一種不會(huì)堵塞釉嘴、施釉均勻、能有效消除氣泡的布釉裝置。
[0005]本實(shí)用新型的布釉裝置是這樣實(shí)現(xiàn)的，包括釉池、設(shè)置在釉池內(nèi)其中一邊的筒狀網(wǎng)、將釉導(dǎo)入筒狀網(wǎng)內(nèi)的釉導(dǎo)入容器、設(shè)置在釉池內(nèi)另一邊的由動(dòng)力帶動(dòng)的載釉滾筒、靠在載釉滾筒外側(cè)的向下傾斜的導(dǎo)釉板。
[0006]這里，為了提升消泡效果，在靠近筒狀網(wǎng)的釉池上設(shè)置有超聲波振動(dòng)器。通過震動(dòng)，使釉里面的氣泡快速上浮。
[0007]為了保證導(dǎo)出的瀑布狀釉形態(tài)穩(wěn)定，橫向厚度均勻，導(dǎo)釉板的下端是向下彎折的弧形且導(dǎo)釉板表面光滑平整。
[0008]為了降低載釉滾筒將釉導(dǎo)入向下傾斜的導(dǎo)釉板時(shí)的釉的流速，以減少釉流動(dòng)時(shí)的擾動(dòng)，在導(dǎo)釉板的上端設(shè)置有弧形凸起的緩沖提。
[0009]為了控制釉池的液位，同時(shí)進(jìn)一步消除釉中的氣泡，在釉進(jìn)入載釉滾筒前的釉池內(nèi)設(shè)置有由數(shù)塊分隔板構(gòu)成的上下彎折的蛇形通道，蛇形通道的側(cè)面的釉池上設(shè)置有溢流口。釉經(jīng)過蛇形通道的上下流動(dòng)后，釉中的氣泡上浮并隨溢流口流走的釉流出釉池，通過蛇行通道后的釉進(jìn)入載釉滾筒處的釉池內(nèi)。溢流口的作用是方便控制載釉滾筒的導(dǎo)釉量。
[0010]為了穩(wěn)定控制釉流入筒狀網(wǎng)內(nèi)的流量，減少流入筒狀網(wǎng)時(shí)釉所含的氣泡，釉導(dǎo)入容器包括底端帶有出口及上端帶有溢流口的容腔、設(shè)置在容腔內(nèi)的溢流小容腔，溢流小容腔的底端設(shè)置有直穿出容腔外的釉導(dǎo)入口，溢流小容腔的頂端是水平邊緣。
[0011]本實(shí)用新型的布釉方法是這樣實(shí)現(xiàn)的，將釉導(dǎo)入釉池內(nèi)的筒狀網(wǎng)內(nèi)，使上層的帶有氣泡的釉透過筒狀網(wǎng)流進(jìn)釉池內(nèi)，然后，釉池內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)著的載釉滾筒將釉導(dǎo)入向下傾斜的導(dǎo)釉板，由導(dǎo)釉板的下端邊緣將瀑布狀的釉導(dǎo)入下面經(jīng)過的瓷磚面上。
[0012]本實(shí)用新型與已有技術(shù)相比，具有不會(huì)堵塞釉嘴、施釉均勻、能有效消除氣泡的優(yōu)點(diǎn)。
[0013]【附圖說明】:
[0014]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]【具體實(shí)施方式】:
[0016]現(xiàn)結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)描述:
[0017]如圖所示，本實(shí)用新型的布釉裝置是這樣實(shí)現(xiàn)的，包括釉池9、通過銅環(huán)12及網(wǎng)座13固定在釉池9內(nèi)其中一邊的筒狀網(wǎng)15、將釉導(dǎo)入筒狀網(wǎng)15內(nèi)的釉導(dǎo)入容器、設(shè)置在釉池9內(nèi)另一邊的由動(dòng)力帶動(dòng)的載釉滾筒7、靠在載釉滾筒7外側(cè)的且固定在支撐板10上的向下傾斜的導(dǎo)釉板5。
[0018]在靠近筒狀網(wǎng)15的釉池9上設(shè)置有超聲波振動(dòng)器14。
[0019]導(dǎo)釉板5的下端4是向下彎折的弧形且導(dǎo)釉板表面光滑平整。
[0020]在導(dǎo)釉板5的上端設(shè)置有弧形凸起的緩沖提6。
[0021]在釉進(jìn)入載釉滾筒7前的釉池9內(nèi)設(shè)置有由數(shù)塊分隔板構(gòu)成的上下彎折的蛇形通道11，蛇形通道11的側(cè)面的釉池9上設(shè)置有溢流口 8。
[0022]釉導(dǎo)入容器包括底端帶有出口伸入筒狀網(wǎng)15內(nèi)的且設(shè)置有閥門17的導(dǎo)流管16及上端帶有溢流口 19的容腔20、設(shè)置在容腔20內(nèi)的溢流小容腔21，溢流小容腔21的底端設(shè)置有直穿出容腔20外的釉導(dǎo)入口 18，溢流小容腔21的頂端是水平邊緣。
[0023]在導(dǎo)釉板5的下面設(shè)置有釉厚度檢測器3。這樣，通過微電腦控制裝置依據(jù)釉厚度檢測器3所檢測的瀑布狀釉的厚度以及所設(shè)定的瀑布狀釉的厚度來控制載釉滾筒7的轉(zhuǎn)速，以控制實(shí)際的瀑布狀釉的厚度與所設(shè)定的瀑布狀釉的厚度一致。
[0024]本實(shí)用新型的布釉方法是這樣實(shí)現(xiàn)的，將釉導(dǎo)入釉池9內(nèi)的筒狀網(wǎng)15內(nèi)，使上層的帶有氣泡的釉透過筒狀網(wǎng)15流進(jìn)釉池9內(nèi)，然后，釉池9內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)著的載釉滾筒7將釉導(dǎo)入向下傾斜的導(dǎo)釉板5，由導(dǎo)釉板5的下端邊緣將瀑布狀的釉2導(dǎo)入下面經(jīng)過的瓷磚面I上。
[0025]通過震動(dòng)，使筒狀網(wǎng)15內(nèi)釉里面的氣泡快速上浮，提升了消泡效果。
[0026]釉2是通過導(dǎo)釉板5的向下彎折的弧形的下端4導(dǎo)入瓷磚面I上，以保證導(dǎo)出的瀑布狀釉形態(tài)穩(wěn)定，橫向厚度均勻。
[0027]釉導(dǎo)入導(dǎo)釉板5后，經(jīng)過導(dǎo)釉板5的上端的弧形凸起的緩沖提6來降低載釉滾筒7將釉導(dǎo)入向下傾斜的導(dǎo)釉板5時(shí)的釉的流速。從而減少釉流動(dòng)時(shí)的擾動(dòng)。
[0028]釉經(jīng)過蛇形通道11的上下流動(dòng)后，才進(jìn)入載釉滾筒7的作用范圍，同時(shí)，釉中的氣泡上浮并隨溢流口 8流走的釉流出釉池9。這樣，在控制釉池的液位同時(shí)，進(jìn)一步消除釉中的氣泡。
[0029]釉導(dǎo)入釉池9內(nèi)的筒狀網(wǎng)15前，先導(dǎo)入溢流小容腔21，然后由溢流小容腔21頂端水平邊緣溢流到容腔20內(nèi)，再由容腔20底部的導(dǎo)流管16導(dǎo)入釉池9內(nèi)的筒狀網(wǎng)15內(nèi)。這樣，就能穩(wěn)定控制釉流入筒狀網(wǎng)內(nèi)的流量及壓力，減少流入筒狀網(wǎng)時(shí)釉所含的氣泡。
[0030]通過微電腦控制裝置依據(jù)釉厚度檢測器3所檢測的瀑布狀釉的厚度以及所設(shè)定的瀑布狀釉的厚度來控制載釉滾筒7的轉(zhuǎn)速，以控制實(shí)際的瀑布狀釉的厚度與所設(shè)定的瀑布狀釉的厚度一致。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種布釉裝置，其特征在于包括釉池、設(shè)置在釉池內(nèi)其中一邊的筒狀網(wǎng)、將釉導(dǎo)入筒狀網(wǎng)內(nèi)的釉導(dǎo)入容器、設(shè)置在釉池內(nèi)另一邊的由動(dòng)力帶動(dòng)的載釉滾筒、靠在載釉滾筒外側(cè)的向下傾斜的導(dǎo)釉板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布釉裝置，其特征在于在靠近筒狀網(wǎng)的釉池上設(shè)置有超聲波振動(dòng)器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的布釉裝置，其特征在于在釉進(jìn)入載釉滾筒前的釉池內(nèi)設(shè)置有由數(shù)塊分隔板構(gòu)成的上下彎折的蛇形通道，蛇形通道的側(cè)面的釉池上設(shè)置有溢流口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的布釉裝置，其特征導(dǎo)釉板的下端是向下彎折的弧形且導(dǎo)釉板表面光滑平整。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的布釉裝置，其特征在于在導(dǎo)釉板的上端設(shè)置有弧形凸起的緩沖提。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或5所述的布釉裝置，其特征在于釉導(dǎo)入容器包括底端帶有出口及上端帶有溢流口的容腔、設(shè)置在容腔內(nèi)的溢流小容腔，溢流小容腔的底端設(shè)置有直穿出容腔外的釉導(dǎo)入口，溢流小容腔的頂端是水平邊緣。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的布釉裝置，其特征在于釉導(dǎo)入容器包括底端帶有出口及上端帶有溢流口的容腔、設(shè)置在容腔內(nèi)的溢流小容腔，溢流小容腔的底端設(shè)置有直穿出容腔外的釉導(dǎo)入口，溢流小容腔的頂端是水平邊緣。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或5或7所述的布釉裝置，其特征在于在導(dǎo)釉板的下面設(shè)置有釉厚度檢測器。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的布釉裝置，其特征在于在導(dǎo)釉板的下面設(shè)置有釉厚度檢測器。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的布釉裝置，其特征在于在導(dǎo)釉板的下面設(shè)置有釉厚度檢測器。
【專利摘要】一種布釉裝置，其特征在于包括釉池、設(shè)置在釉池內(nèi)其中一邊的筒狀網(wǎng)、將釉導(dǎo)入筒狀網(wǎng)內(nèi)的釉導(dǎo)入容器、設(shè)置在釉池內(nèi)另一邊的由動(dòng)力帶動(dòng)的載釉滾筒、靠在載釉滾筒外側(cè)的向下傾斜的導(dǎo)釉板。本實(shí)用新型與已有技術(shù)相比，具有不會(huì)堵塞釉嘴、施釉均勻、能有效消除氣泡的優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】C04B41-86
【公開號】CN204325154
【申請?zhí)枴緾N201420862443
【發(fā)明人】廖紹基
【申請人】廖紹基
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2014年12月31日