本發(fā)明涉及玻璃蓋板外形加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種圖案蓋板的制作方法。

背景技術(shù)：

隨著人們生活水平的不斷提高，手機、平板電腦、攝像頭、筆記本電腦等電子產(chǎn)品已經(jīng)逐漸普及。一般電子產(chǎn)品大多采用玻璃蓋板，且為了避免外觀上的單調(diào)，常常在玻璃蓋板上布置一些圖案。目前，較常見的是玻璃蓋板上設(shè)計有花紋，一般玻璃蓋板上布置花紋為平面效果，大多采用貼膜等類似手段得到，然而貼膜的產(chǎn)品一般不耐高溫，溫度高一點膜可能進空氣導(dǎo)致凸起等現(xiàn)象?，F(xiàn)有獲得花紋的另一種方式是采用曝光OC，但該方式得到的產(chǎn)品，一般OC圖層很薄(大概2-3個um)，因此圖案凹凸不明顯，立體感較差。

綜上所述，如何解決玻璃蓋板上的圖案的立體感較差的問題，已成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)難題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種圖案玻璃蓋板的制作方法，以增強玻璃蓋板上的圖案的立體感。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了圖案玻璃蓋板的制作方法，所述圖案玻璃蓋板上的圖案通過化學(xué)蝕刻的方式得到，具體步驟包括：

遮光處理，對獲取的玻璃蓋板對應(yīng)非蝕刻的一面整體涂制遮光層；

涂膠，在所述玻璃蓋板上下表面整體涂制光刻膠層；

曝光顯影，將與所述圖案對應(yīng)的鉻板放在所述玻璃蓋板上進行曝光顯影處理，在所述玻璃蓋板上得到被去除光刻膠層的蝕刻區(qū)和未被去除光刻膠層的非蝕刻區(qū)；

固化處理，對經(jīng)曝光顯影后的玻璃蓋板上的光刻膠層進行固化處理；

化學(xué)蝕刻，對經(jīng)固化處理后的玻璃蓋板進行化學(xué)蝕刻，所述化學(xué)蝕刻的深度通過管控蝕刻速率和蝕刻時間來控制，且所述化學(xué)蝕刻使用的玻璃蝕刻液只對蝕刻區(qū)進行蝕刻，非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護不被蝕刻；

脫膜，利用脫膜劑去除所述玻璃蓋板上非蝕刻區(qū)的光刻膠層。

優(yōu)選地，在完成所述化學(xué)蝕刻后，還包括切割工序，所述切割工序為將所述玻璃蓋板對應(yīng)所述蝕刻區(qū)的分布情況，切割成多個。

優(yōu)選地，所述切割工序采用激光進行切割或玻璃刀輪進行切割。

優(yōu)選地，在完成所述脫膜工序后，還包括鍍膜工序，所述鍍膜工序為在所述玻璃蓋板上涂鍍一層或多層金屬薄膜。

優(yōu)選地，在完成所述鍍膜工序后，還包括絲印工序，所述絲印工序為在所述玻璃蓋板的表面絲印保護膠。

優(yōu)選地，在所述遮光處理之前，還包括制作定位標記，所述定位標記包括供曝光機定位用的曝光定位標記和供切割設(shè)備定位用的切割定位標記。

優(yōu)選地，在所述涂膠之前還包括對所述玻璃蓋板的清洗工序。

優(yōu)選地，涂制所述遮光層采用油墨絲印的方式涂制所述遮光層。

相比于背景技術(shù)中所介紹的內(nèi)容，上述圖案玻璃蓋板的制作方法，采用化學(xué)蝕刻的方式得到對應(yīng)的圖案，利用玻璃蝕刻液對玻璃蓋板的蝕刻區(qū)進行蝕刻，非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護不被蝕刻，通過管控蝕刻速率和蝕刻時間來控制化學(xué)蝕刻的深度。上述方法加工的圖案的花紋為實體結(jié)構(gòu)，圖案的立體感更強，且該方法可根據(jù)設(shè)計需求，自定義玻璃蓋板上的圖案的花紋深淺，使得圖案的凹凸更加明顯。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的應(yīng)用于指紋識別功能的玻璃盲孔的制作方法的流程圖。

上圖1中，遮光處理100、涂膠200、曝光顯影300、固化處理400、化學(xué)蝕刻500、脫膜600。

具體實施方式

本發(fā)明的核心是提供一種圖案玻璃蓋板的制作方法，以增強玻璃蓋板上的圖案的立體感。

為了使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明提供的技術(shù)方案，下面將結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進一步的詳細說明。

如圖1所示，本發(fā)明實施例提供的圖案玻璃蓋板的制作方法，所述圖案玻璃蓋板上的圖案通過化學(xué)蝕刻的方式得到，具體步驟包括：

遮光處理100，對獲取的玻璃蓋板對應(yīng)非蝕刻的一面整體涂制遮光層；

涂膠200，在玻璃蓋板上下表面整體涂制光刻膠層；

曝光顯影300，將與圖案對應(yīng)的鉻板放在玻璃蓋板上進行曝光顯影處理，在玻璃蓋板上得到被去除光刻膠層的蝕刻區(qū)和未被去除光刻膠層的非蝕刻區(qū)；

固化處理400，對經(jīng)曝光顯影300后的玻璃蓋板上的光刻膠層進行固化處理；

化學(xué)蝕刻500，對經(jīng)固化處理400后的玻璃蓋板進行化學(xué)蝕刻，化學(xué)蝕刻的深度通過管控蝕刻速率和蝕刻時間來控制，且化學(xué)蝕刻使用的玻璃蝕刻液只對蝕刻區(qū)進行蝕刻，非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護不被蝕刻；

脫膜600，利用脫膜劑去除玻璃蓋板上非蝕刻區(qū)的光刻膠層。

相比于背景技術(shù)中所介紹的內(nèi)容，上述圖案玻璃蓋板的制作方法，采用化學(xué)蝕刻的方式得到對應(yīng)的圖案，利用玻璃蝕刻液對玻璃蓋板的蝕刻區(qū)進行蝕刻，非蝕刻區(qū)受光刻膠層的保護不被蝕刻，通過管控蝕刻速率和蝕刻時間來控制化學(xué)蝕刻的深度。上述方法加工的圖案的花紋為實體結(jié)構(gòu)，圖案的立體感更強，且該方法可根據(jù)設(shè)計需求，自定義玻璃蓋板上的圖案的花紋深淺，使得圖案的凹凸更加明顯。

需要說明的是，由于玻璃蓋板一般為透明透光體，上述遮光處理中，當需要對玻璃蓋板的上表面進行蝕刻圖案時，對玻璃蓋板的下表面整體涂制遮光層；當需要對玻璃蓋板的下表面進行蝕刻圖案時，對玻璃蓋板的上表面整體涂制遮光層，使得在對玻璃蓋板上表面或下表面任一面曝光時，另一面不受影響。且通過在非蝕刻的一面涂制遮光層，蝕刻的一面不涂制遮光層，使得蝕刻時，被蝕刻的一面不受遮光層的影響，蝕刻效果不受影響。

進一步需要說明的是，上述化學(xué)蝕刻的深度，可以通過蝕刻速率一定，通過蝕刻時間的長短來控制化學(xué)蝕刻的深度，例如需要蝕刻一個10um深的圖案，蝕刻速率是2um/min，這時所需要的蝕刻時間是蝕刻深度除以蝕刻速率，也就是5min左右。當然還可以通過蝕刻時間一定，通過蝕刻速率的快慢來控制化學(xué)蝕刻的深度。一般不同的玻璃蝕刻液對應(yīng)的蝕刻速率不同。

另外需要說明的是，一般光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠兩類，正性光刻膠被光照射的部分可以被顯影液去除掉，而未曝光的部分則不會被顯影液去除；負性光刻膠則相反，被光照射的部分不會被顯影液去除，而其余不被光所照射的區(qū)域?qū)伙@影液去除掉。因此可以理解的是，本發(fā)明實施例提供的上述鉻板，當光刻膠層為正性光刻膠涂制時，上述鉻板對應(yīng)上述圖案的部分透光，其余部分遮光；當光刻膠層為負性光刻膠涂制時，上述鉻板對應(yīng)上述圖案的部分遮光，其余部分透光。另外，本發(fā)明實施例提供的遮光層，當上述光刻膠層為正性光刻膠涂制時，上述遮光層為黑色遮光體，避免曝光時，玻璃蓋板的不需要蝕刻的一面的光刻膠被光照射；當上述光刻膠層為負性光刻膠涂制時，上述遮光層為透光體，使得曝光時玻璃蓋板的不需要蝕刻的一面的光刻膠被光照射到，進而顯影過程中光刻膠層不會被去除。

進一步地技術(shù)方案中，本發(fā)明提供的實施例中，在完成化學(xué)蝕刻500后，還包括切割工序，該切割工序為將所述玻璃蓋板對應(yīng)所述蝕刻區(qū)的分布情況，切割成多個。通過蝕刻之前對玻璃蓋板切割成多個，降低了單片玻璃蓋板的大小，因此降低了蝕刻容器的體積要求。

具體地，上述切割工序采用激光進行切割或玻璃刀輪進行切割。當然可以理解的是，還可以使用本領(lǐng)域技術(shù)人員常用的其他切割玻璃蓋板的方式進行切割，只不過本發(fā)明實施例優(yōu)選采用激光進行切割或玻璃刀輪進行切割而已。

進一步地，在完成脫膜工序后，還包括鍍膜工序，該鍍膜工序為在玻璃蓋板上涂鍍一層或多層金屬薄膜。通過鍍膜使得，玻璃蓋板的光學(xué)性能得到改善。比如在玻璃蓋板表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜，使產(chǎn)品呈豐富的色彩，對于可見光有適當?shù)耐干渎?，對紅外線有較高的反射率，對紫外線有較高吸收率。

更進一步地，在完成上述鍍膜工序后，還包括絲印工序，該絲印工序為在玻璃蓋板的表面絲印油墨，油墨的顏色可以有多種，白色，黑色，金色，銀色等等，通過對鍍膜后的玻璃蓋板絲印油墨，增加了產(chǎn)品的色彩和立體感。

進一步地，在上述技術(shù)方案中，在遮光處理100之前，還包括制作定位標記，定位標記包括供曝光機定位用的曝光定位標記和供切割設(shè)備定位用的切割定位標記。當然還可以是本領(lǐng)域技術(shù)人員常需要用到的其他定位標記。具體的，本方案中的定位標記(也常稱為MARK標)一般是采用黃光工藝在玻璃蓋板表面制作一層高精度的油墨標記，當然，本領(lǐng)域還可以利用其它現(xiàn)有方法制作定位標記，本方案不再贅述。其中，定位標記的形狀可以為矩形、折線型、十字交叉形或其他形狀等，在曝光機或切割設(shè)備工作時，其定位部件會自動捕捉并參考玻璃板材上的定位標記進行定位，從而可以使曝光顯影以及切割的尺寸更加精確。

進一步地，在上述涂膠200之前，還可以包括對玻璃蓋板的清洗工序，清洗的主要目的是清除玻璃蓋板表層的雜物及污漬，使得涂制的光刻膠層更加勻稱，曝光顯影后的效果更好。

更進一步地，上述涂制遮光層采用的是油墨絲印的方式涂制遮光層。該遮光層可以選為不可曝光的油墨，但需要說明的是，使用不可曝光的油墨時，對應(yīng)涂制光刻膠層時，使用的光刻膠為正性光刻膠；當然還可以使用可曝光的油墨，且涂制光刻膠層為負性光刻膠。當然涂布方法也可是本領(lǐng)域技術(shù)人員常用的其他涂制方法，比如使用輥涂方法將油墨涂制成遮光層等等。

可以理解的是，上述方法制作的圖案玻璃蓋板，可以應(yīng)用到許多帶有玻璃板材的電子產(chǎn)品，比如手機的前后蓋板、攝像頭蓋板、筆記本觸摸板等等。

以上對本發(fā)明所提供的圖案玻璃蓋板的制作方法進行了詳細介紹。需要說明的是，本說明書中的各個實施例均采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似的部分互相參見即可。

還需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括上述要素的物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。