一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置，包括有磁控腔室、磁控裝置和基板，所述的磁控腔室為真空腔室，所述的磁控腔室由一側(cè)開(kāi)口的矩形槽鋼構(gòu)成，所述的磁控裝置設(shè)置于磁控腔室內(nèi)部，所述的磁控腔室的開(kāi)口面上設(shè)置有靶材附著板，所述的靶材附著板上附著有靶材，所述的靶材裸露于磁控腔室之外，且正對(duì)基板，所述的磁控腔室上與開(kāi)口面相對(duì)的側(cè)面上靠上部和下部位置均設(shè)置有一個(gè)密封法蘭，所述的密封法蘭上設(shè)置有穿入磁控腔室內(nèi)部并與磁控裝置連接的調(diào)節(jié)桿，所述的調(diào)節(jié)桿上設(shè)置有螺紋。
【專利說(shuō)明】
一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種磁控濺射裝置，尤其涉及一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有的磁控濺射技術(shù)中，磁控裝置一般為固定裝置，其與靶材之間的間距為固定間距，從而傳統(tǒng)的磁控濺射裝置具有固定的磁場(chǎng)強(qiáng)度，從而導(dǎo)致其使用范圍比較局限，對(duì)不同產(chǎn)品需求進(jìn)行磁控濺射時(shí)需要更換設(shè)備或內(nèi)部磁控裝置進(jìn)行更換，整個(gè)過(guò)程相當(dāng)麻煩，而且磁控濺射均需要進(jìn)行真空處理，所有的器件之間的密封要求較為嚴(yán)格，所以在拆裝更換磁控裝置時(shí)容易造成密封不嚴(yán)產(chǎn)生工藝氣體泄漏的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，而提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可調(diào)節(jié)磁場(chǎng)強(qiáng)度的磁控濺射裝置。
[0004]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置，包括有磁控腔室、磁控裝置和基板，所述的磁控腔室為真空腔室，所述的磁控腔室由一側(cè)開(kāi)口的矩形槽鋼構(gòu)成，所述的磁控裝置設(shè)置于磁控腔室內(nèi)部，所述的磁控腔室的開(kāi)口面上設(shè)置有靶材附著板，所述的靶材附著板上附著有靶材，所述的靶材裸露于磁控腔室之外，且正對(duì)基板，所述的磁控腔室上與開(kāi)口面相對(duì)的側(cè)面上靠上部和下部位置均設(shè)置有一個(gè)密封法蘭，所述的密封法蘭上設(shè)置有穿入磁控腔室內(nèi)部并與磁控裝置連接的調(diào)節(jié)桿，所述的調(diào)節(jié)桿上設(shè)置有螺紋。
[0005]所述的靶材附著板為內(nèi)部中空板，且在其靠上部設(shè)置有一個(gè)進(jìn)水口，并在其靠下部位置設(shè)置有一個(gè)出水口，所述的靶材通過(guò)非磁體物質(zhì)粘結(jié)在靶材附著板上。
[0006]所述的調(diào)節(jié)桿穿過(guò)密封法蘭伸入內(nèi)部，且在密封法蘭外部設(shè)置有一個(gè)限位片，限位片上設(shè)置有兩個(gè)呈水平設(shè)置的矩形調(diào)節(jié)孔，所述的調(diào)節(jié)桿穿過(guò)限位片上設(shè)置的矩形調(diào)節(jié)孔，所述的限位桿上還設(shè)置有一個(gè)調(diào)節(jié)螺栓。
[0007]本實(shí)用新型所產(chǎn)生的有益效果是:本方案中將磁控裝置采用一個(gè)調(diào)節(jié)桿進(jìn)行限位連接，調(diào)節(jié)桿穿過(guò)設(shè)置于磁控腔室側(cè)面上的密封法蘭穿出，因此可人工在外部對(duì)磁控裝置進(jìn)行位置移動(dòng);在密封法蘭外部設(shè)置的限位片可對(duì)調(diào)節(jié)桿進(jìn)行限位固定，避免在工作過(guò)程中限位桿產(chǎn)生移動(dòng)改變磁控腔室內(nèi)部的磁場(chǎng)強(qiáng)度，在限位片上設(shè)置的兩個(gè)矩形調(diào)節(jié)孔可使限位桿具有一定的左右水平移動(dòng)自由度;設(shè)置于限位桿上的調(diào)節(jié)螺栓可通過(guò)人工在外部擰動(dòng)，對(duì)磁控腔室內(nèi)部的磁控裝置進(jìn)行前后平移，通過(guò)對(duì)磁控裝置的前后平移來(lái)改變磁控裝置與靶材之間的距離，從而改變靶材處于磁場(chǎng)之中的磁場(chǎng)強(qiáng)度。本方案可根據(jù)不同的產(chǎn)品生產(chǎn)需求在不拆解、不更換的情況下實(shí)現(xiàn)對(duì)靶材處于磁場(chǎng)中磁場(chǎng)強(qiáng)度的改變，整體方案操作方便、減少了人工投入、在不拆解的情況下完成調(diào)節(jié)也保證了整個(gè)設(shè)備的密封度。另一方面靶材附著板采用中空板材，并在其靠上位置設(shè)置一個(gè)進(jìn)水孔、在其靠底部位置設(shè)置一個(gè)出水孔，進(jìn)水孔進(jìn)入冷水將靶材上的熱量吸收，并從出水孔流出，通過(guò)為在圖中標(biāo)出的軟連接管通出磁控腔室外部，實(shí)現(xiàn)冷水循環(huán)降溫，改變了傳統(tǒng)技術(shù)中在磁控腔室內(nèi)部充水降溫的方法，此降溫方法更加科學(xué)有效。
[0008]總的本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、調(diào)節(jié)方便的優(yōu)點(diǎn)。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為本實(shí)用新型的密封法蘭、限位片和調(diào)節(jié)螺栓之間的連接結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中:1、磁控腔室2、磁控裝置 3、基板 4、靶材附著板 5、靶材 6、密封法蘭 7、調(diào)節(jié)桿 8、進(jìn)水口 9、出水口 10、限位片 11、矩形調(diào)節(jié)孔 12、調(diào)節(jié)螺栓。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面根據(jù)附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步說(shuō)明。
[0013]實(shí)施例1
[0014]如圖1 一2所示，一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置，包括有磁控腔室1、磁控裝置2和基板3，所述的磁控腔室I為真空腔室，所述的磁控腔室I由一側(cè)開(kāi)口的矩形槽鋼構(gòu)成，所述的磁控裝置2設(shè)置于磁控腔室I內(nèi)部，所述的磁控腔室I的開(kāi)口面上設(shè)置有靶材附著板4，所述的靶材附著板4上附著有靶材5，所述的靶材5裸露于磁控腔室I之外，且正對(duì)基板3，所述的磁控腔室I上與開(kāi)口面相對(duì)的側(cè)面上靠上部和下部位置均設(shè)置有一個(gè)密封法蘭6，所述的密封法蘭6上設(shè)置有穿入磁控腔室I內(nèi)部并與磁控裝置2連接的調(diào)節(jié)桿7，所述的調(diào)節(jié)桿7上設(shè)置有螺紋。
[0015]所述的靶材附著板4為內(nèi)部中空板，且在其靠上部設(shè)置有一個(gè)進(jìn)水口8，并在其靠下部位置設(shè)置有一個(gè)出水口 9，所述的靶材5通過(guò)非磁體物質(zhì)粘結(jié)在靶材附著板4上。
[0016]所述的調(diào)節(jié)桿7穿過(guò)密封法蘭6伸入內(nèi)部，且在密封法蘭6外部設(shè)置有一個(gè)限位片10，限位片10上設(shè)置有兩個(gè)呈水平設(shè)置的矩形調(diào)節(jié)孔11，所述的調(diào)節(jié)桿7穿過(guò)限位片10上設(shè)置的矩形調(diào)節(jié)孔11，所述的限位桿7上還設(shè)置有一個(gè)調(diào)節(jié)螺栓12。
[0017]本實(shí)用新型在使用時(shí):基板通過(guò)轉(zhuǎn)送裝置從靶材正對(duì)面平行通過(guò)，根據(jù)不同的工藝要求通過(guò)旋進(jìn)或旋出調(diào)節(jié)螺母使調(diào)節(jié)桿帶動(dòng)磁控裝置相對(duì)靶材附著板做前后平移運(yùn)動(dòng)，從而改變磁控裝置與靶材之間的距離，從而改變靶材處在磁場(chǎng)中的磁場(chǎng)強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)對(duì)磁場(chǎng)強(qiáng)度的控制。靶材附著板進(jìn)水口處連接在圖示中未標(biāo)出的進(jìn)水管，靶材附著板出水口處連接在圖示中為標(biāo)出的出水管，實(shí)現(xiàn)冷水循環(huán)，實(shí)現(xiàn)對(duì)靶材附著板和靶材的降溫作用。
[0018]本方案采用調(diào)節(jié)桿對(duì)磁控裝置進(jìn)行距離控制，操作十分方便，且能夠保證在不拆解設(shè)備的情況下對(duì)靶材處于磁場(chǎng)中的磁場(chǎng)強(qiáng)度進(jìn)行改變。總的本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、調(diào)節(jié)方便的優(yōu)點(diǎn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置，包括有磁控腔室、磁控裝置和基板，所述的磁控腔室為真空腔室，所述的磁控腔室由一側(cè)開(kāi)口的矩形槽鋼構(gòu)成，所述的磁控裝置設(shè)置于磁控腔室內(nèi)部，所述的磁控腔室的開(kāi)口面上設(shè)置有靶材附著板，所述的靶材附著板上附著有靶材，所述的靶材裸露于磁控腔室之外，且正對(duì)基板，其特征在于:所述的磁控腔室上與開(kāi)口面相對(duì)的側(cè)面上靠上部和下部位置均設(shè)置有一個(gè)密封法蘭，所述的密封法蘭上設(shè)置有穿入磁控腔室內(nèi)部并與磁控裝置連接的調(diào)節(jié)桿，所述的調(diào)節(jié)桿上設(shè)置有螺紋。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置，其特征在于:所述的靶材附著板為內(nèi)部中空板，且在其靠上部設(shè)置有一個(gè)進(jìn)水口，并在其靠下部位置設(shè)置有一個(gè)出水口，所述的靶材通過(guò)非磁體物質(zhì)粘結(jié)在靶材附著板上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào)節(jié)式磁控濺射裝置，其特征在于:所述的調(diào)節(jié)桿穿過(guò)密封法蘭伸入內(nèi)部，且在密封法蘭外部設(shè)置有一個(gè)限位片，限位片上設(shè)置有兩個(gè)呈水平設(shè)置的矩形調(diào)節(jié)孔，所述的調(diào)節(jié)桿穿過(guò)限位片上設(shè)置的矩形調(diào)節(jié)孔，所述的限位桿上還設(shè)置有一個(gè)調(diào)節(jié)螺栓。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK205473964SQ201620048738
【公開(kāi)日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年1月19日
【發(fā)明人】胡凡, 范永生, 呂海飛
【申請(qǐng)人】河南康耀電子股份有限公司