一種陰極鍍膜工裝的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種鍍膜工裝，特別涉及一種陰極的鍍膜工裝。
【背景技術】
[0002]大功率微波器件是現代武器裝備中雷達、電子戰(zhàn)、通信及制導系統(tǒng)的核心器件，陰極是這些核心器件的“心臟”，也是影響器件壽命的關鍵部件。設計陰極時，需要充分考慮到的因素有:耐離子轟擊、耐高壓、耐中毒、耐振動、耐沖擊、抗打火、發(fā)射能力以及壽命長等，基于這些要求，通常會選用覆膜浸漬型鋇鎢陰極，在陰極的表面覆一層貴金屬膜，可以降低陰極的逸出功，提高陰極的發(fā)射能力，在同等工作電流條件下，降低了陰極工作溫度，并延長了陰極工作壽命。同時在覆膜前，采用離子刻蝕技術對陰極表面進行處理，使陰極露出新鮮的表面，大大提高了陰極的覆膜質量。因此，此類陰極具有更大的發(fā)射電流密度、工作穩(wěn)定、抗中毒能力強等優(yōu)點。鍍膜時，需根據陰極尺寸，將陰極安裝到合適的鍍膜工裝上，通常，一種陰極要對應一個鍍膜工裝，并且在累計一定周期的鍍膜刻蝕加工中，工裝會有磨損，而導致尺寸偏離原有尺寸，所以需定期更換，但是現有的鍍膜工裝沒有通用性，加工成本太大，不利于企業(yè)降低成本。

【發(fā)明內容】

[0003]為了克服現有鍍膜工裝沒有通用性，加工成本太大，不利于企業(yè)降低成本的不足，本實用新型提供一種鍍膜工裝，具有很大的通用性，大大降低更換工裝和加工工裝的成本，間接的為企業(yè)帶來經濟效益。
[0004]為實現上述目的，本發(fā)明是通過以下技術手段來實現的:
[0005]—種陰極鍍膜工裝，其特征在于:包括基座和底盤，所述基座為帶有底盤安裝孔的筒形結構，所述底盤為倒凸臺形結構，所述底盤安裝在所述底盤安裝孔中，底盤上開設有多個與鍍膜陰極尺寸對應的通孔。
[0006]進一步地:
[0007]所述基座的內徑與所述底盤的外徑相配合，所述基座的底盤安裝孔直徑與底盤凸臺外徑的相配合。
[0008]所述基座的底厚、底盤的上底厚、底盤底厚為2±0.5mm。
[0009]所述基座和底盤的材料為高溫材料鉬或者鎢。
[0010]本發(fā)明的有益效果是:既能保障陰極鍍膜的質量，又因為具有很大的通用性，大大降低更換工裝和加工工裝的成本，間接的為企業(yè)帶來經濟效益。
【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型中的鍍膜工裝結構示意圖，其中，a為主視圖，b為俯視圖，圖2是基座結構示意圖，圖3是底盤結構示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面將結合說明書附圖，對本發(fā)明作進一步的說明。
[0013]如附圖1-3所示，一種陰極鍍膜工裝，其特征在于:包括基座1和底盤2，所述基座1為帶有底盤安裝孔的筒形結構，所述底盤2為倒凸臺形結構，所述底盤2安裝在所述底盤安裝孔中，底盤2上開設有多個與鍍膜陰極尺寸對應的通孔D3，用于安裝被鍍膜陰極。
[0014]底盤是安裝在基座的下底部，基座外圍尺寸是基于具體的鍍膜機設備尺寸而定的。
[0015]進一步地:
[0016]所述基座1的內徑D1與所述底盤2的外徑D3相配合，所述基座1的底盤安裝孔直徑D2與底盤凸臺外徑D4的相配合。
[0017]所述基座的底厚H1、底盤的上底厚H3、底盤底厚H2為2±0.5mm。
[0018]所述基座1和底盤2的材料為高溫材料鉬或者鎢。但基于加工性能及成本，傾向于選擇鉬。
[0019]以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征及優(yōu)點。本行業(yè)的技術人員應該了解，本設計不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本設計的原理，在不脫離本設計精神和范圍的前提下，本設計還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本設計范圍內。本設計要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。
【主權項】
1.一種陰極鍍膜工裝，其特征在于:包括基座和底盤，所述基座為帶有底盤安裝孔的筒形結構，所述底盤為倒凸臺形結構，所述底盤安裝在所述底盤安裝孔中，所述底盤上開設有多個與鍍膜陰極尺寸對應的通孔。2.如權利要求1所述的一種陰極鍍膜工裝，其特征在于:所述基座的內徑與所述底盤的外徑相配合，所述基座的底盤安裝孔直經與底盤凸臺外徑的相配合。3.如權利要求1所述的一種陰極鍍膜工裝，其特征在于:所述基座的底厚、底盤的上底厚、底盤底厚為2土0.5mmο4.如權利要求1所述的一種陰極鍍膜工裝，其特征在于:所述基座和底盤的材料為高溫材料鑰或者鶴。
【專利摘要】一種陰極鍍膜工裝，其特征在于：包括基座和底盤，所述基座為帶有底盤安裝孔的筒形結構，所述底盤為倒凸臺形結構，所述底盤安裝在所述底盤安裝孔中，底盤上開設有多個與鍍膜陰極尺寸對應的通孔。本實用新型既能保障陰極鍍膜的質量，又因為具有很大的通用性，大大降低更換工裝和加工工裝的成本，間接的為企業(yè)帶來經濟效益。
【IPC分類】C23C14/50
【公開號】CN204999968
【申請?zhí)枴緾N201520550734
【發(fā)明人】鄧清東, 宋田英, 賀兆昌, 張麗
【申請人】安徽華東光電技術研究所
【公開日】2016年1月27日
【申請日】2015年7月28日