酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及蝕刻技術領域，特別地，涉及一種酸性蝕刻液再生系統(tǒng)。
【背景技術】
[0002]全球印刷電路板產業(yè)產值占電子元件產業(yè)總產值的四分之一以上，是各個電子元件細分產業(yè)中比重最大的產業(yè)，產業(yè)規(guī)模達400億美元。同時，由于其在電子基礎產業(yè)中的獨特地位，成為了當代電子元件業(yè)中最活躍的產業(yè)。
[0003]蝕刻作為PCB制程中的重要工藝，酸性蝕刻液因為具有側蝕小、速率易于控制和易再生等特點，被廣泛應用。在蝕刻過程中，二價銅離子數量減少，一價銅離子數量增加，蝕刻液的蝕刻能力很快下降，為保持穩(wěn)定蝕刻能力，需加入氧化劑使一價銅離子盡快轉化為二價銅離子，即蝕刻液再生。其反應原理為:
[0004]蝕刻反應:Cu+CuCl2=2CuCl
[0005]再生反應:2CuC1+2HC1+H202=2CuC1 2+2H20
[0006]現(xiàn)有技術的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，設有藥液添加裝置，同時檢測裝置設于盛蝕刻液的裝置中，影響蝕刻液蝕刻；人工配藥后添加或者根據化學方程式中的比例關系配比添加，添加比例與蝕刻液的實際變化不符并且不能及時響應蝕刻液的變化；同時，蝕刻液溫度的不同，蝕刻液使用過程中各成分消耗比例也不同，需添加的各種液體成分比例也因此不同，但每次添加的各種液體比例是同樣的，蝕刻液的蝕刻速率和均勻度將受影響，造成蝕刻液和印刷電路板的浪費。

【發(fā)明內容】

[0007]為了解決上述酸性蝕刻液再生系統(tǒng)添加再生液體比例不適當、不能及時響應蝕刻液的變化和不能根據溫度變化調節(jié)藥液成分添加比例的技術問題，本發(fā)明提供一種可根據溫度變化調節(jié)藥液成分添加比例、及時響應蝕刻液變化和添加比例適當的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)。
[0008]本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)，包括蝕刻槽、與所述蝕刻槽連接的采樣檢測裝置、多個添加裝置和控制裝置，多個所述添加裝置與所述蝕刻槽連接，所述采樣檢測裝置和多個所述添加裝置分別與所述控制裝置電連接，所述采樣檢測裝置包括溫度模塊，所述溫度模塊與所述控制裝置電連接。
[0009]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述采樣檢測裝置還包括間隔設置的比重檢測器、電導率檢測器和電位檢測器，并均與所述控制裝置電連接。
[0010]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述比重檢測器、所述電導率檢測器和所述電位檢測器均包括檢測探頭和與所述檢測探頭連接的控制器，所述控制器與所述控制裝置電連接。
[0011]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述電導率檢測器和所述電位檢測器分別包括依次連接的檢測探頭、控制器和分析單元，所述分析單元與所述控制裝置電連接。
[0012]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述控制器為可編程邏輯控制器。
[0013]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，多個所述添加裝置包括間隔設置的水添加裝置、鹽酸添加裝置和氧化劑添加裝置。
[0014]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述氧化劑添加裝置中的氧化劑為過氧化氫。
[0015]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述控制裝置包括控制單元和人機交互界面，二者電連接。
[0016]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述控制單元為可編程邏輯控制器。
[0017]在本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一種較佳實施例中，所述人機交互界面為觸摸屏。
[0018]相較于現(xiàn)有技術，本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)具有以下有益效果:
[0019]一、通過采用增設采樣檢測裝置的設計，與蝕刻槽分離，更有利于在蝕刻槽中進行蝕刻，也對采樣檢測裝置的設立位置不產生限制性，有利于采樣檢測效果；
[0020]二、通過采用增設溫度模塊并與控制裝置電連接及控制裝置與多個添加裝置電連接的結合設計，利于控制裝置根據溫度模塊檢測的信息控制多個添加裝置的工作狀態(tài)，維持蝕刻液中的各成分處于合適比例，保證蝕刻液的蝕刻速率和均勻性；
[0021]三、通過采樣檢測裝置與控制裝置電連接的設計，控制裝置與多個添加裝置連接，實現(xiàn)檢測各個參數，并實時傳輸到控制裝置，利于控制裝置對多個添加裝置作出及時、準確控制，利于蝕刻液持續(xù)工作；
[0022]四、通過采用控制單元和人機交互界面結合的設計，既利于參數顯示和設置，又利于操作人員便捷操作。
【附圖說明】
[0023]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖，其中:
[0024]圖1是本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一較佳實施例的結構示意圖；
[0025]圖2是圖1所示的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的人機交互界面的一示意圖；
[0026]圖3是圖1所示的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的人機交互界面的另一示意圖；
[0027]圖4是本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的另一實施例的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0028]下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0029]實施例一:
[0030]請參閱圖1，是本發(fā)明提供的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的一較佳實施例的結構示意圖。所述酸性蝕刻液再生系統(tǒng)I包括蝕刻槽11、與所述蝕刻槽11連接的采樣檢測裝置13、三添加裝置151、153、155和控制裝置17。三所述添加裝置151、153、155均與所述蝕刻槽11連接，所述采樣檢測裝置13和三所述添加裝置151、153、155均與所述控制裝置17電連接。
[0031]所述蝕刻槽11用于盛裝酸性蝕刻液和處理電路板。
[0032]所述采樣檢測裝置13包括采樣盒130及間隔設置的溫度模塊131、比重檢測器133、電導率檢測器135和電位檢測器137。所述采樣盒130通過管道回路與所述蝕刻槽11連通，實現(xiàn)所述蝕刻槽11中的酸性蝕刻液與所述采樣盒13中的酸性蝕刻液保持平穩(wěn)流動，利于采樣檢測數據的準確性。所述溫度模塊131、所述比重檢測器133、所述電導率檢測器135和所述電位檢測器137均與所述控制裝置17電連接。
[0033]所述溫度模塊131用于實時檢測酸性蝕刻液的溫度并將數據傳送到所述控制裝置17，利于所述控制裝置17根據相關數據分析后控制多個所述添加裝置151、153、155的工作狀態(tài)。所述溫度模塊131 —端固設于所述采樣盒130內表面，另一端浸入酸性蝕刻液內。
[0034]所述比重檢測器133包括第一檢測探頭1331和第一控制器1333，二者相連接。所述第一檢測探頭1331設于所述采樣盒130中的酸性蝕刻液內，實時檢測酸性蝕刻液的液體量，利于根據不同液體總量選擇添加量，所述第一控制器1333與所述控制裝置17電連接，實現(xiàn)將所述第一檢測探頭1331收集的信息輸送到所述控制裝置17。所述第一控制器1333為可編程邏輯控制器。
[0035]所述電導率檢測器135包括第二檢測探頭1351和第二控制器1353，二者相連接。所述第二檢測探頭1351設于所述采樣盒130中的酸性蝕刻液內，實時檢測酸性蝕刻液中氫離子濃度，所述第二控制器1353與所述控制裝置17電連接，實現(xiàn)將所述第二檢測探頭1351收集的信息輸送到所述控制裝置17。所述第二控制器1353為可編程邏輯控制器。
[0036]所述電位檢測器137包括第三檢測探頭1371和第三控制器1373，二者相連接。所述第三檢測探頭1371設于所述采樣盒130中的酸性蝕刻液內，實時檢測酸性蝕刻液的氧化還原電位，所述第三控制器1373與所述控制裝置17電連接，實現(xiàn)將所述第三檢測探頭1371收集的信息輸送到所述控制裝置17。所述第三控制器1373為可編程邏輯控制器。
[0037]三所述添加裝置151、153、155分別為間隔設置的水添加裝置151、鹽酸添加裝置153和氧化劑添加裝置155。三所述添加裝置151、153、155均與所述控制裝置17電連接，同時均通過管道與所述蝕刻槽11連通，從而實現(xiàn)根據所述控制裝置17的指令控制三所述添加裝置151、153、155的工作狀態(tài)。
[0038]請再結合參閱圖2和圖3，其中，圖2是圖1所示的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的人機交互界面的一示意圖，圖3是圖1所示的酸性蝕刻液再生系統(tǒng)的人機交互界面的另一示意圖。所述控制裝置17包括控制單元171和人機交互界面173，二者電連接。所述控制單元171電連接所述溫度模塊131、所述第一控制器1333、所述第二控制器1353和所述第三控制器1373，并接收上述四者131、1333、1353、1373的相應信號，所述控制單元171電連接所述水添加裝置151、所述鹽酸添加裝置153和所述氧化劑添加裝置155，并發(fā)送指令控制上述三者151、153、155的工作狀態(tài)，所述控制單元171為可編程邏輯控制器。所述人機交互界面173用于操控所述控制單元171，主要包括設定數值、顯示數值和控制狀態(tài)，所述人機交互界面173為觸摸屏。
[0039]具體工作原理:
[0040]所述溫度模塊131將檢測到的酸性蝕刻液溫度值輸送到所述控制單元171，所述控制單元171將接收到的實時檢測