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真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:9717806閱讀:450來源:國知局
真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及真空熔煉領域,特別涉及一種真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)。
【背景技術】
[0002]目前,公知的釹鐵硼永磁材料生產關鍵工序是煉鋼,煉鋼是將配好的原材料按要求熔煉、澆鑄及冷卻,然后將冷卻好的鑄片裝入轉料盒轉入下道工序裝罐進行氫破?,F(xiàn)有的操作是將配好的原材料熔煉,達到澆鑄溫度后進行澆鑄,通過冷卻輥澆鑄成鑄片,并在冷卻盤內進行冷卻兩小時左右,然后將爐門打開,通過人工用鏟子將冷卻盤中的鑄片裝到轉料盒內,然后將轉料盒轉入下道氫破工序。
[0003]如上所述,在抽真空及預熱時,原料表皮及爐內粉塵會落入冷卻盤內對鑄片造成污染;在冷卻時,由于風機作用,爐內熔煉產生的粉塵及爐壁上粘的粉塵會進入冷卻盤對鑄片造成污染;在出料時,打開爐門從冷卻盤中將鑄片裝入轉料盒的過程中,鑄片暴露在空氣中,空氣中的水分及粉塵等雜物會造成鑄片氧化及污染,從而產生粉料夾渣、氧化并造成最終產品氧化、夾渣、砂眼等質量缺陷。
[0004]公開于該【背景技術】部分的信息僅僅旨在增加對本發(fā)明的總體背景的理解,而不應當被視為承認或以任何形式暗示該信息構成已為本領域一般技術人員所公知的現(xiàn)有技術。

【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種結構簡單合理的真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng),該真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)將原先爐內冷卻盤拆掉,從爐體底部開孔與冷卻罐體密封相連通,消除了熔煉時原料表面產生的煙塵及抽真空時爐內粉塵對鑄片的污染,最主要消除了因人工出料造成的鑄片氧化及粉塵、雜物對鑄片的污染,提高了粉料質量,減少了產品氧化、夾渣、砂眼等質量缺陷。同時提高了熔煉生產效率,鑄片在罐內冷卻也使鑄片組織均細化,性能也得到改善提高。
[0006]為實現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明提供了一種真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng),包括:中頻爐,用于熔煉原材料;破碎盤,用于承接所述中頻爐熔煉后的原材料;爐體,所述中頻爐、破碎盤設置在該爐體內,該爐體的底部開孔;冷卻罐,其罐口與所述爐體的底部開孔相連接,從而使得爐體內的破碎盤與冷卻罐保持密封相連;以及開閉蓋手臂,其設置在所述爐體與冷卻罐的連接通道上,用于控制冷卻罐的開閉。
[0007]優(yōu)選地,上述技術方案中,爐體通過爐體密封連接部件與冷卻罐的罐口相連接。
[0008]優(yōu)選地,上述技術方案中,真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)將冷卻盤拆掉。
[0009]優(yōu)選地,上述技術方案中,爐體的底部右側開孔。
[0010]與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明具有如下有益效果:該真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)將原先爐內冷卻盤拆掉,從爐體底部開孔與冷卻罐體密封相連通,消除了熔煉時原料表面產生的煙塵及抽真空時爐內粉塵對鑄片的污染,最主要消除了因人工出料造成的鑄片氧化及粉塵、雜物對鑄片的污染,提高了粉料質量,減少了產品氧化、夾渣、砂眼等質量缺陷。同時提高了熔煉生產效率,鑄片在罐內冷卻也使鑄片組織均細化,性能也得到改善提尚ο
【附圖說明】
[0011]圖1是本發(fā)明的真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖,對本發(fā)明的【具體實施方式】進行詳細描述,但應當理解本發(fā)明的保護范圍并不受【具體實施方式】的限制。
[0013]除非另有其它明確表示,否則在整個說明書和權利要求書中,術語“包括”或其變換如“包含”或“包括有”等等將被理解為包括所陳述的元件或組成部分,而并未排除其它元件或其它組成部分。
[0014]如圖1所示,根據(jù)本發(fā)明【具體實施方式】的真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)的具體結構包括:爐體1、中頻爐2、破碎盤3、開閉蓋手臂4和冷卻罐6。其中,中頻爐2、破碎盤3設置在爐體1內,原材料經中頻爐2熔煉達到澆鑄要求時,直接澆鑄在破碎盤3內。該真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)將原先爐內冷卻盤拆掉,爐體1的底部開孔,與冷卻罐6的罐口相連接,從而使得爐體1內的破碎盤3與冷卻罐保持密封相連,開閉蓋手臂4設置在爐體1與冷卻罐6的連接通道上,用于控制冷卻罐6的開閉。經抽真空,通過開閉蓋手臂4將冷卻罐6打開,使爐體與冷卻罐相連,原材料經中頻爐2熔煉達到澆鑄要求時,直接澆鑄在破碎盤3內經破碎成大小均勻的鱗片進入冷卻罐6,澆鑄完成后,經開閉蓋手臂4將罐蓋蓋好,吊出冷卻罐接通冷卻水進行冷卻。熔煉時爐體1內部處于真空狀態(tài),澆鑄時鑄片通過破碎盤進入冷卻罐,整個過程處于密閉狀態(tài),消除了熔煉時原料表面產生的煙塵及抽真空時爐內粉塵對鑄片的污染,最主要消除了因人工出料造成的鑄片氧化及粉塵、雜物對鑄片的污染,提高了粉料質量,減少了產品氧化、夾渣、砂眼等質量缺陷。同時提高了熔煉生產效率,鑄片在罐內冷卻也使鑄片組織均細化,性能也得到改善提高。
[0015]具體來講,中頻爐2、破碎盤3設置在爐體1內,中頻爐2用于熔煉原材料。破碎盤3用于承接中頻爐2熔煉后的原材料,原材料經中頻爐2熔煉達到澆鑄要求時,直接澆鑄在破碎盤3內。
[0016]爐體1的底部開孔,并與冷卻罐6的罐口相連接,從而使得爐體1內的破碎盤3與冷卻罐保持密封相連,開閉蓋手臂4設置在爐體1與冷卻罐6的連接通道上,用于控制冷卻罐6的開閉。優(yōu)選的,爐體1通過爐體密封連接部件5與冷卻罐6的罐口相連接。
[0017]經抽真空,通過開閉蓋手臂4將冷卻罐6打開,使爐體與冷卻罐相連,原材料經中頻爐2熔煉達到澆鑄要求時,直接澆鑄在破碎盤3內經破碎成大小均勻的鱗片進入冷卻罐6,澆鑄完成后,經開閉蓋手臂4將罐蓋蓋好,吊出冷卻罐接通冷卻水進行冷卻。熔煉時爐體1內部處于真空狀態(tài),澆鑄時鑄片通過破碎盤進入冷卻罐,整個過程處于密閉狀態(tài),消除了熔煉時原料表面產生的煙塵及抽真空時爐內粉塵對鑄片的污染,最主要消除了因人工出料造成的鑄片氧化及粉塵、雜物對鑄片的污染,提高了粉料質量,減少了產品氧化、夾渣、砂眼等質量缺陷。同時提高了熔煉生產效率,鑄片在罐內冷卻也使鑄片組織均細化,性能也得到改善提尚ο
[0018]綜上,該真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)將原先爐內冷卻盤拆掉,從爐體底部開孔與冷卻罐體密封相連通,消除了熔煉時原料表面產生的煙塵及抽真空時爐內粉塵對鑄片的污染,最主要消除了因人工出料造成的鑄片氧化及粉塵、雜物對鑄片的污染,提高了粉料質量,減少了產品氧化、夾渣、砂眼等質量缺陷。同時提高了熔煉生產效率,鑄片在罐內冷卻也使鑄片組織均細化,性能也得到改善提高。
[0019]前述對本發(fā)明的具體示例性實施方案的描述是為了說明和例證的目的。這些描述并非想將本發(fā)明限定為所公開的精確形式,并且很顯然,根據(jù)上述教導,可以進行很多改變和變化。對示例性實施例進行選擇和描述的目的在于解釋本發(fā)明的特定原理及其實際應用,從而使得本領域的技術人員能夠實現(xiàn)并利用本發(fā)明的各種不同的示例性實施方案以及各種不同的選擇和改變。本發(fā)明的范圍意在由權利要求書及其等同形式所限定。
【主權項】
1.一種真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng),其特征在于,包括: 中頻爐,用于熔煉原材料; 破碎盤,用于承接所述中頻爐熔煉后的原材料; 爐體,所述中頻爐、破碎盤設置在該爐體內,該爐體的底部開孔; 冷卻罐,其罐口與所述爐體的底部開孔相連接,從而使得爐體內的破碎盤與冷卻罐保持密封相連;以及 開閉蓋手臂,其設置在所述爐體與冷卻罐的連接通道上,用于控制冷卻罐的開閉。2.根據(jù)權利要求1所述的真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng),其特征在于,所述爐體通過爐體密封連接部件與冷卻罐的罐口相連接。3.根據(jù)權利要求1所述的真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng),其特征在于,所述真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)將冷卻盤拆掉。4.根據(jù)權利要求1所述的真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng),其特征在于,所述爐體的底部右側開孔。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種真空熔煉鑄片的全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)。該全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)包括:中頻爐,用于熔煉原材料;破碎盤,用于承接所述中頻爐熔煉后的原材料;爐體,所述中頻爐、破碎盤設置在該爐體內,該爐體的底部開孔;冷卻罐,其罐口與所述爐體的底部開孔相連接,從而使得爐體內的破碎盤與冷卻罐保持密封相連;以及開閉蓋手臂,其設置在所述爐體與冷卻罐的連接通道上,用于控制冷卻罐的開閉。該全密閉澆鑄及冷卻系統(tǒng)消除了熔煉時原料表面產生的煙塵及抽真空時爐內粉塵對鑄片的污染,提高了粉料質量,減少了產品氧化、夾渣、砂眼等質量缺陷。
【IPC分類】B22D11/14, F27D9/00
【公開號】CN105478698
【申請?zhí)枴緾N201510870651
【發(fā)明人】韓海軍, 崔金玉
【申請人】中磁科技股份有限公司
【公開日】2016年4月13日
【申請日】2015年12月1日
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