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一種銅材表面處理液的制作方法

文檔序號(hào):9321258閱讀:346來源:國知局
一種銅材表面處理液的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于使銅材料表面形成被膜的銅材料用表面處理液。
【背景技術(shù)】
[0002]工業(yè)制品中用到各種各樣的金屬材料,為賦予耐腐蝕性和密合性以及耐熱性、親水性、滑動(dòng)性等功能性,經(jīng)常采用各種表面處理。銅材料的特長之一是具有高導(dǎo)電性、散熱特性,其中一例為廣泛應(yīng)用于例如最近的印刷布線板、引線框、LSI等的電子部件中。構(gòu)件中大量存在銅材料和樹脂的接合部,對(duì)它們要求受熱狀態(tài)下的金屬-樹脂間的密合性。
[0003]現(xiàn)有對(duì)于銅材的表面處理,一些機(jī)械加工一般生產(chǎn)性差,容易導(dǎo)致高成本,而且加工時(shí)產(chǎn)生的微粒經(jīng)常會(huì)損害電子元件的精密性,一些化學(xué)方法通常導(dǎo)致穩(wěn)定性、強(qiáng)度等不夠好、含有毒物質(zhì),人們需要找到一種更好的方法來對(duì)銅表面進(jìn)行處理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種使銅材料表面形成被膜的銅材用表面處理液,使其和樹脂的粘接性、特別是高溫下的粘接性優(yōu)良、而且不含易導(dǎo)致環(huán)境污染的物質(zhì)。
[0005]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的:
一種銅材表面處理液,包含銅氧化蝕刻液、含Si化合物、HF和含Al元素的化合物,其中包含Si元素的化合物中的Si元素的總摩爾濃度A,與HF的摩爾濃度B之比K = A/B在0.10彡K彡0.15的范圍內(nèi)。
[0006]作為優(yōu)選,所述銅氧化蝕刻液包含選自HBr03和H2Mo04中的含氧酸及其鹽,和選自過氧化氫、過氧化二烷基、過氧化二碳酸酯中的有機(jī)過氧化物及其鹽。
[0007]作為優(yōu)選,所述表面處理液還含有50?30000ppm的乙稀基胺。
[0008]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的銅材用表面處理液,在保證環(huán)境友好性的前提下使得銅材與樹脂的粘接性,特別是高溫下的粘接性優(yōu)良,值得推廣。
【具體實(shí)施方式】
[0009]一種銅材表面處理液,包含包含銅氧化蝕刻液、含Si化合物、HF和含Al元素的化合物,其中包含Si元素的化合物中的Si元素的總摩爾濃度A,與HF的摩爾濃度B之比K=A/B為0.12,所述銅氧化蝕刻液包含選自HBr03和H2Mo04中的含氧酸及其鹽,和選自過氧化氫、過氧化二烷基、過氧化二碳酸酯中的有機(jī)過氧化物及其鹽。所述表面處理液還含有50?30000ppm的乙稀基胺。
[0010]以上所述,僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何不經(jīng)過創(chuàng)造性勞動(dòng)想到的變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書所限定的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種銅材表面處理液,其特征在于,包含銅氧化蝕刻液、含Si化合物、HF和含Al元素的化合物,其中包含Si元素的化合物中的Si元素的總摩爾濃度A,與HF的摩爾濃度B之比K = A/B在0.10彡K彡0.15的范圍內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅材表面處理液,其特征在于,所述銅氧化蝕刻液包含選自HBr03和H2Mo04中的含氧酸及其鹽,和選自過氧化氫、過氧化二燒基、過氧化二碳酸酯中的有機(jī)過氧化物及其鹽。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅材表面處理液,其特征在于,所述表面處理液還含有50?30000ppm的胺改性聚乙稀基苯酸。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種銅材表面處理液,其特征在于,包含銅氧化蝕刻液、含Si化合物、HF和含Al元素的化合物,其中包含Si元素的化合物中的Si元素的總摩爾濃度A,與HF的摩爾濃度B之比K=A/B在0.10≤K≤0.15的范圍內(nèi)。本發(fā)明的銅材用表面處理液,在保證環(huán)境友好性的前提下使得銅材與樹脂的粘接性,特別是高溫下的粘接性優(yōu)良,值得推廣。
【IPC分類】C23F1/18
【公開號(hào)】CN105039986
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510381873
【發(fā)明人】張興良
【申請(qǐng)人】江陰市盛園銅材有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請(qǐng)日】2015年7月3日
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