具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鍍膜系統(tǒng)，特別是涉及一種具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用日漸廣泛，舉凡在可攜式3C電子產(chǎn)品外殼上鍍覆防電磁波干擾(Electro-magnetic interference, EMI)鍍膜的3C產(chǎn)業(yè)，甚或是在透明鏡片上鍍覆有光學(xué)鍍膜(optical film)的光學(xué)鏡片產(chǎn)業(yè)等，皆需使用到真空濺鍍設(shè)備；其中，又以連續(xù)式多腔體(mult1-chamber)的鍍膜系統(tǒng)因為擁有速度快、產(chǎn)量高、鍍覆質(zhì)量優(yōu)良，及能大幅地降低生產(chǎn)成本等優(yōu)點，因此已廣泛地應(yīng)用于大量鍍膜的制程中。一般連續(xù)式多腔體的鍍膜系統(tǒng)依序包含至少三個區(qū)域:一進(jìn)料腔體區(qū)、一鍍膜腔體區(qū)，及一出料腔體區(qū)；其中，一待鍍物是被置于一傳送單元上的一承載盤上，以于上述腔體區(qū)內(nèi)或跨腔體區(qū)間傳輸，并由該出料腔體區(qū)輸出一在該待鍍物的一表面鍍覆有一鍍膜的成品。
[0003]參閱圖1，中國臺灣第M258101核準(zhǔn)公告號實用新型專利案公開一種自動化潛入式內(nèi)部回流裝置1，是應(yīng)用于一連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14，其包含一前升降裝置11、一后升降裝置12，及一設(shè)置于該連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14下的回傳機構(gòu)模塊13。該前升降裝置11與該后升降裝置12分別設(shè)于該連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14的一輸入端141與一輸出端142 ;其中，該前升降裝置11、該連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14、該后升降裝置12，與該回傳機構(gòu)模塊13共同定義出一封閉回路。
[0004]當(dāng)一承載有一待鍍物(圖未示)的承載盤10于該連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14內(nèi)執(zhí)行完一鍍膜制程后，是自該連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14的輸出端142移至該后升降裝置12上，并在該待鍍物被移除后由該后升降裝置12通過一壓缸來帶動該承載盤10向下位移，經(jīng)由該回傳機構(gòu)模塊13帶動該承載盤10朝該前升降裝置11移動，被定位于該前升降裝置11上的該承載盤10上重新放置有一新的待鍍物后，該前升降裝置11則通過一壓缸來使該承載盤10向上位移，使該承載盤10重新導(dǎo)入該連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14的輸入端141。
[0005]然而，放置有該待鍍物的承載盤10于該連續(xù)式多腔體鍍膜系統(tǒng)14內(nèi)執(zhí)行該鍍膜制程中，將因其內(nèi)部的一電漿環(huán)境而累積大量的高溫?zé)崮?。因此，一旦該承載盤10反復(fù)地行經(jīng)此封閉回路，并于該高溫電漿環(huán)境中重復(fù)地累積大量的高溫?zé)崮?，則容易導(dǎo)致該承載盤10及其待鍍物的溫度過高，因而損壞鍍膜質(zhì)量。
[0006]經(jīng)上述說明可知，改良鍍膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)以解決鍍膜系統(tǒng)中的散熱問題，是此技術(shù)領(lǐng)域的相關(guān)技術(shù)人員所待突破的難題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于提供一種具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)。
[0008]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)包含:一載盤、一鍍膜站、一回流裝置，及一冷卻裝置。該載盤包括一盤本體與一相變化物質(zhì)，該盤本體內(nèi)部形成有一填置該相變化物質(zhì)的密閉空間。該鍍膜站包括一入口端與一出口端，該載盤能自該入口端進(jìn)入該鍍膜站中以進(jìn)行一鍍膜制程，并由該出口端移出該鍍膜站。該回流裝置包括一設(shè)置在該鍍膜站外的傳送單元，該傳送單元使該載盤沿一自該鍍膜站的出口端朝該鍍膜站的該入口端的傳送路徑移動。該冷卻裝置設(shè)置于該傳送單元的該傳送路徑上。在本發(fā)明中，該相變化物質(zhì)能自該盤本體吸收一在該鍍膜制程中所累積的熱能，以作為至少部分的該相變化物質(zhì)自一固態(tài)恪融成一液態(tài)時所需的潛熱(latent heat)，且該相變化物質(zhì)的熔點為介于18°C至95°C間；該冷卻裝置能自該相變化物質(zhì)吸收該熱能，以令至少部分的該相變化物質(zhì)自該液態(tài)凝固成該固態(tài)。
[0009]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該相變化物質(zhì)是選自一有機類材料與一無機類材料其中一者，該有機類材料是一烴類，且該烴類是選自C16至C 5(|的一烷類。
[0010]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該盤本體的密閉空間需大于或等于該相變化物質(zhì)于該液態(tài)時所占有的體積。
[0011]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該傳送單元具有一支架及一安裝于該支架的傳送組件，該傳送組件具有一對間隔設(shè)置的輸送模塊及一驅(qū)動所述輸送模塊的伺服馬達(dá)，該傳送單元利用該對輸送模塊承托并移動該載盤，該冷卻裝置位于該對輸送模塊間。
[0012]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該對輸送模塊為循環(huán)式輸送帶。
[0013]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該回流裝置還包括一感測單元，該感測單元設(shè)置于該傳送單元的支架，當(dāng)該載盤被傳送至位于該冷卻裝置上方并鄰近該感測單元時，該感測單元能產(chǎn)生一信號控制該伺服馬達(dá)停止轉(zhuǎn)動，并借該冷卻裝置對該載盤內(nèi)的相變化物質(zhì)進(jìn)行冷卻。
[0014]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該冷卻裝置安裝于該支架，并具有一散熱板及一驅(qū)動該散熱板上下位移的驅(qū)動件，該散熱板具有一入口、一出口，及一自該入口向該出口延伸并用以供一冷卻流體流動的冷卻通道，當(dāng)該載盤被傳送至位于該散熱板上方時，該驅(qū)動件驅(qū)動該散熱板朝上位移以接觸該載盤。
[0015]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該冷卻裝置安裝于該支架，并具有至少一風(fēng)扇。
[0016]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該冷卻裝置設(shè)置于該鍍膜站下方。
[0017]本發(fā)明的具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)，該回流裝置還包括分別鄰設(shè)于該傳送單元的一前端與一后端的一前升降單元與一后升降單元，該前升降單元鄰設(shè)于該鍍膜站的入口端，并將自該傳送單元移出的該載盤導(dǎo)入該鍍膜站的入口端，該后升降單元鄰設(shè)于該鍍膜站的出口端，并將自該鍍膜站的出口端移出的該載盤導(dǎo)入該傳送單元。
[0018]本發(fā)明的有益效果在于，借由該載盤的改良，利用該相變化物質(zhì)本身所需的熔解潛熱，以自該盤本體吸收該熱能，能帶走于該鍍膜過程中累積在載盤上的高溫?zé)崮芤蕴嵘兡べ|(zhì)量，另外利用該冷卻裝置自該相變化物質(zhì)吸收該熱能，以將解決鍍膜系統(tǒng)中的散熱冋題。
【附圖說明】
[0019]本發(fā)明的其他的特征及功效，將于參照圖式的實施方式中清楚地呈現(xiàn)，其中:
[0020]圖1是一正視示意圖，說明中國臺灣第M258101核準(zhǔn)公告號所公開的一種自動化潛入式內(nèi)部回流裝置；
[0021]圖2是一俯視示意圖，說明本發(fā)明具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)的一第一實施例；
[0022]圖3是一沿圖2的一折線II1-1II所取得的正視剖視圖，說明該第一實施例的一鍍膜站、一回流裝置、一冷卻裝置、一前升降單元，及一后升降單元；
[0023]圖4是一剖視不意圖，說明該第一實施例的一載盤；
[0024]圖5是一俯視示意圖，說明該第一實施例的一回流裝置與一冷卻裝置；
[0025]圖6是一正視示意圖，說明該第一實施例的該載盤與該冷卻裝置接觸時的一使用狀態(tài)；
[0026]圖7是一溫度對時間的關(guān)系圖，說明該第一實施例的該載盤于該冷卻裝置進(jìn)行一冷卻過程的溫度變化；
[0027]圖8是一凝固比率對時間的關(guān)系圖，說明該第一實施例的該載盤于該冷卻裝置進(jìn)行該冷卻過程的凝固比率變化；
[0028]圖9是一立體組合圖，說明本發(fā)明具有載盤冷卻功能的鍍膜系統(tǒng)的一第二實施例的一回流裝置與一冷卻裝置；
[0029]圖10是一溫度對時間的關(guān)系圖，說明該第二實施例的該載盤于該冷卻裝置進(jìn)行一冷卻過程的溫度變化