本技術(shù)涉及鍍錫，特別是涉及一種雙錫爐鍍錫裝置。

背景技術(shù)：

1、錫爐是一種用于熔化和鑄造錫的設(shè)備。工作時(shí)主要由加熱和傳熱兩個(gè)過程組成。首先，通過供電使錫爐內(nèi)的加熱元件(通常是電爐線圈或電磁加熱線圈)加熱。當(dāng)通電后，加熱元件開始發(fā)熱，并將熱量傳輸給錫爐腔內(nèi)的錫料。錫爐爐體一般由高溫耐磨材料制成，如耐火磚或陶瓷材料，以保證爐體能夠承受高溫并具有良好的絕熱性能。利用設(shè)有的隔熱層，來減少熱量散失，提高能效。當(dāng)爐室受到加熱元件的熱量傳輸后，爐室內(nèi)的錫料開始升溫并逐漸熔化。一般在錫爐的底部往往設(shè)有一個(gè)出料口，用于排出熔融的錫液。待錫料在爐內(nèi)熔化后，打開閥門在重力作用便可從出料口流出，從而實(shí)現(xiàn)熔融錫料的連續(xù)供應(yīng)，錫爐工作中錫條熔化后，錫液表面的氧化及其內(nèi)合金屬元素(主要是cu)作用生成一些殘?jiān)际遣豢杀苊獾模慈廴阱a液表面不斷氧化形成錫渣；其原因是：錫條里面的錫金屬是主要成分，如果錫的含量和純度不夠，那就意味著雜質(zhì)和其他元素將會(huì)增加，這也增加了錫渣的溢出機(jī)會(huì)。同時(shí)不管是無鉛錫條還是有鉛錫條都是由錫合金構(gòu)成的，錫在與空氣不停接觸過程中就會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生錫渣氧化物。錫條通過高溫從固態(tài)變成液態(tài)，這將大大加劇了錫的氧化速度，錫渣會(huì)越來越多。另外，不管是無鉛錫條還是有鉛錫條都有固定的熔點(diǎn)和作業(yè)溫度，如果爐溫控制不適當(dāng)也會(huì)加速氧化的過程，會(huì)溢出更多的錫渣。當(dāng)爐溫偏高或偏低時(shí)會(huì)不停地浮現(xiàn)出黑色的錫灰氧化物在錫爐的液面上。

2、焊帶熱浸涂法制備時(shí)，為確保焊帶品質(zhì)，所運(yùn)用的合金熔液是從錫爐中抽取出來的不含有錫渣(灰)的純凈焊料，現(xiàn)有的雙錫爐鍍錫裝置由于錫鉛合金，鉛的氧化物導(dǎo)致液面覆膜，液面長(zhǎng)期靜止會(huì)積累錫灰，從而影響焊帶品質(zhì)，大大降低了鍍錫工藝效果。

3、因此亟需提供一種雙錫爐鍍錫裝置來解決上述問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有的雙錫爐鍍錫裝置在工作時(shí)，在焊帶鍍錫工藝存在行業(yè)難題，錫爐表面氧化物堆積，影響焊帶品質(zhì)，增加員工手工刮錫頻率，目前正常開機(jī)刮錫頻次在5分鐘左右一次，嚴(yán)重浪費(fèi)人力。

2、為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種雙錫爐鍍錫裝置，包括大錫爐池，所述大錫爐池前后兩端底部均固定連接有兩個(gè)固定塊，所述大錫爐池內(nèi)部開設(shè)有池體內(nèi)部；

3、所述池體內(nèi)部滑動(dòng)連接有錫爐內(nèi)缸，所述錫爐內(nèi)缸前后兩端均設(shè)有兩個(gè)導(dǎo)向柱，所述錫爐內(nèi)缸內(nèi)部開設(shè)有缸體內(nèi)部；

4、所述池體內(nèi)部?jī)?nèi)壁底部一側(cè)開設(shè)有出口，所述池體內(nèi)部一側(cè)安裝有錫泵。

5、本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：多個(gè)所述導(dǎo)向柱外壁與池體內(nèi)部滑動(dòng)連接。

6、通過上述技術(shù)方案，大錫爐池中熔化的焊料由錫泵吸入錫爐內(nèi)缸中，由于泵速可以調(diào)整，可形成特定流將速新的錫液源源不斷地注入錫爐內(nèi)缸，隨著錫爐內(nèi)缸的注滿而產(chǎn)生溢流，錫液表面漂浮的錫灰和氧化物將被溢出錫爐內(nèi)缸而流入回收口，從而使得錫爐內(nèi)缸中的焊料表面鏡像，無雜質(zhì)，從而有助于提高銅線表面鍍涂錫層品質(zhì)的優(yōu)良率，也降低了員工剔除錫渣的操作頻率。

7、本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述大錫爐池底部設(shè)有一個(gè)與錫泵相連通的出口。

8、通過上述技術(shù)方案，通過在大錫爐池的底部設(shè)有一個(gè)與錫泵相連通的出口，出口處并設(shè)有過濾網(wǎng)，用于排出熔融的且純凈的錫液，錫料在大錫爐池內(nèi)受熱熔化后，通過錫泵將底部未被氧化的錫抽至錫爐內(nèi)缸中，并形成輕微的波浪，將液面流動(dòng)起來，迫使表面的錫渣向四周順流溢出，從而實(shí)現(xiàn)鍍錫工藝的連續(xù)供應(yīng)。

9、本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述大錫爐池和錫爐內(nèi)缸均設(shè)有控制裝置。

10、通過上述技術(shù)方案，同時(shí)該雙層錫爐配備了控制裝置，用于調(diào)節(jié)加熱元件的功率和工作溫度，通過調(diào)節(jié)供電電流和加熱時(shí)間，實(shí)現(xiàn)對(duì)錫爐溫度的精確控制，從而滿足了不同工藝要求，含錫量63％的錫條，溫度設(shè)為220℃-250℃為佳，含錫量60％的錫條，溫度設(shè)為250℃-280℃為佳，通過嚴(yán)格控制爐內(nèi)溫度，降低錫料的氧化進(jìn)程，提高了錫料的利用率，也減少除渣操作的頻率，從而降低了生產(chǎn)成本，提高了焊帶產(chǎn)品的制備品質(zhì)。

11、本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述錫爐內(nèi)缸尺寸需要定制，所述大錫爐池和錫爐內(nèi)缸呈矩形。

12、通過上述技術(shù)方案，通過錫爐內(nèi)缸的設(shè)置，便于自動(dòng)將漂浮在錫液表層的錫渣量進(jìn)行有效控制與去除，以避免銅體在浸涂錫層過程中吸附上錫渣而影響焊帶的品質(zhì)，同時(shí)，減少工作中的錫液的裸露工作面，從而降低了表層錫液與氧的接觸而發(fā)生氧化，從而提高了錫料的利用率，降低了生產(chǎn)成本，也避免了后道模孔堵塞而造成頻繁斷線，影響成品單線長(zhǎng)度。

13、本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述錫泵位于大錫爐池和錫爐內(nèi)缸之間。

14、通過上述技術(shù)方案，通過錫泵的設(shè)置，可將對(duì)大錫爐池的錫料經(jīng)過濾后源源不斷輸入錫爐內(nèi)缸，從而可以對(duì)錫爐內(nèi)缸中的錫料進(jìn)行錫溫調(diào)節(jié)控制，減少因錫液溫度偏低造成不停地浮現(xiàn)出黑色的錫灰氧化物現(xiàn)象，同時(shí)錫液的質(zhì)量得到了有效保障，錫液中的其他合金成分混合更均勻充分，從而確保鍍液的成分和濃度符合要求，從而提高了焊帶銅體表面錫層的質(zhì)量，再者，錫液的流動(dòng)循環(huán)，提高錫爐內(nèi)缸內(nèi)的錫料中的金屬分子的活躍度，便于其在銅線表面快速生成一層連續(xù)性的鍍錫層，從而便于提高制備速度，減少銅基材和錫液接觸的時(shí)間，降低基體銅原子向熔液擴(kuò)散的概率，提高了光伏焊帶的使用壽命。

15、本實(shí)用新型的有益效果如下：

16、1.本實(shí)用新型通過設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單的大錫爐池、錫爐內(nèi)缸和錫泵，可在原有的錫爐內(nèi)側(cè)增加雙錫爐，采用錫液泵，將錫爐內(nèi)錫液抽至內(nèi)爐，內(nèi)爐錫液溢出帶動(dòng)表面氧化物流出，最終錫爐液面一直保持光亮，無錫渣錫灰，徹底不要員工去手工刮錫，大大提高了雙錫爐鍍錫裝置的工作性能；

17、2.本實(shí)用新型通過設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單的錫爐內(nèi)缸和錫泵，將內(nèi)置錫爐的尺寸進(jìn)行定制，并且在其內(nèi)部增加錫泵，使得錫液能夠循環(huán)，從而在內(nèi)部錫液反復(fù)流動(dòng)下，避免員工手工刮錫，大大提高了工作效率。

技術(shù)特征：

1.一種雙錫爐鍍錫裝置，包括大錫爐池(1)，其特征在于：所述大錫爐池(1)前后兩端底部均固定連接有兩個(gè)固定塊(2)，所述大錫爐池(1)內(nèi)部開設(shè)有池體內(nèi)部(3)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙錫爐鍍錫裝置，其特征在于：多個(gè)所述導(dǎo)向柱(5)外壁與池體內(nèi)部(3)滑動(dòng)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙錫爐鍍錫裝置，其特征在于：所述大錫爐池(1)底部設(shè)有一個(gè)與錫泵(8)相連通的出口(7)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙錫爐鍍錫裝置，其特征在于：所述大錫爐池(1)和錫爐內(nèi)缸(4)均設(shè)有控制裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙錫爐鍍錫裝置，其特征在于：所述錫爐內(nèi)缸(4)尺寸需要定制。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙錫爐鍍錫裝置，其特征在于：所述大錫爐池(1)和錫爐內(nèi)缸(4)呈矩形。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙錫爐鍍錫裝置，其特征在于：所述錫泵(8)位于大錫爐池(1)和錫爐內(nèi)缸(4)之間。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種雙錫爐鍍錫裝置，屬于鍍錫技術(shù)領(lǐng)域，雙錫爐鍍錫裝置，包括大錫爐池，所述大錫爐池前后兩端底部均固定連接有兩個(gè)固定塊，所述大錫爐池內(nèi)部開設(shè)有池體內(nèi)部，所述池體內(nèi)部滑動(dòng)連接有錫爐內(nèi)缸，所述錫爐內(nèi)缸前后兩端均設(shè)有兩個(gè)導(dǎo)向柱，所述錫爐內(nèi)缸內(nèi)部開設(shè)有缸體內(nèi)部，所述池體內(nèi)部?jī)?nèi)壁底部一側(cè)開設(shè)有出口，所述池體內(nèi)部一側(cè)安裝有錫泵。本技術(shù)通過設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單的大錫爐池、錫爐內(nèi)缸和錫泵，可在原有的錫爐內(nèi)側(cè)增加雙錫爐，采用錫液泵，將錫爐內(nèi)錫液抽至內(nèi)爐，內(nèi)爐錫液溢出帶動(dòng)表面氧化物流出，最終錫爐液面一直保持光亮，無錫渣錫灰，徹底不要員工去手工刮錫，大大提高了雙錫爐鍍錫裝置的工作性能。

技術(shù)研發(fā)人員：李志強(qiáng),尹其林,李昊
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南通德晉昌光電科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240410
技術(shù)公布日：2024/12/30