本發(fā)明涉及磁控濺射，特別是涉及一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜方法及鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、磁控濺射是物理氣相沉積（physical?vapor?deposition，pvd）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì)?70?年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

2、現(xiàn)有的真空濺射的工作面積小且在工件上濺射的范圍較為固定，難以適應(yīng)防水鞋面的需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為克服現(xiàn)有技術(shù)存在的技術(shù)缺陷，本發(fā)明提供一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜方法及鍍膜設(shè)備，鍍膜面積大。

2、本發(fā)明采用的技術(shù)解決方案是：

3、一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，包括真空室、擺料系統(tǒng)、真空裝置、氬氣導(dǎo)入裝置、離子源和靶材，所述真空室由上蓋和箱體圍成，所述氬氣導(dǎo)入裝置和真空裝置均連通真空室，所述擺料系統(tǒng)安裝在上蓋上，所述離子源安裝在箱體上，所述靶材安裝在箱體上，所述擺料系統(tǒng)與靶材相對(duì)，所述擺料系統(tǒng)包括擺料回轉(zhuǎn)桿、回轉(zhuǎn)裝置和慣性偏轉(zhuǎn)架，所述擺料回轉(zhuǎn)桿可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在上蓋上，所述慣性偏轉(zhuǎn)架可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿上，所述回轉(zhuǎn)裝置安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿底部，所述回轉(zhuǎn)裝置相對(duì)于慣性偏轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)，所述慣性偏轉(zhuǎn)架軸向固定在擺料回轉(zhuǎn)桿上。

4、優(yōu)選的，所述擺料回轉(zhuǎn)桿通過軸承可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在上蓋上，所述擺料回轉(zhuǎn)桿上設(shè)有鏈輪，所述擺料回轉(zhuǎn)桿的鏈輪傳動(dòng)連接有電機(jī)，所述電機(jī)安裝在上蓋上。

5、優(yōu)選的，所述擺料回轉(zhuǎn)桿上設(shè)有固定槽。

6、優(yōu)選的，所述回轉(zhuǎn)裝置為回轉(zhuǎn)盤，所述回轉(zhuǎn)盤底部設(shè)有放射狀的摩擦紋路。

7、優(yōu)選的，所述慣性偏轉(zhuǎn)架包括回轉(zhuǎn)擺臂和導(dǎo)向臂，所述回轉(zhuǎn)擺臂可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在擺料回轉(zhuǎn)架上，所述導(dǎo)向臂安裝在回轉(zhuǎn)擺臂上，所述導(dǎo)向臂為圓弧形，所述導(dǎo)向臂的末端設(shè)有倒角。

8、優(yōu)選的，所述離子源的指向與靶材指向平行。

9、優(yōu)選的，所述箱體的底部設(shè)有帶有剎車的滾輪。

10、優(yōu)選的，所述箱體上設(shè)有若干觀察窗。

11、一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜方法，包括如下步驟：

12、s1：真空裝置抽真空；

13、s2：氬氣導(dǎo)入裝置充入氬氣；

14、s3：將鞋面布料安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿和回轉(zhuǎn)裝置上；

15、s4：離子源產(chǎn)生輝光放電，以使離子化的氬氣沖擊并清洗鞋面布料；

16、s5：靶材在充入氬氣后產(chǎn)生輝光放電，使被離子化的氬氣加速?zèng)_擊于所述靶材的表面，以使靶材表面的原子飛出，并在鞋面布料上堆積成鍍膜；

17、s6：擺料回轉(zhuǎn)桿反復(fù)回轉(zhuǎn)，使得鞋面布料沿慣性偏轉(zhuǎn)架偏轉(zhuǎn)，增大鍍膜面積。

18、本發(fā)明的有益效果是：

19、真空室由上蓋和箱體圍成，進(jìn)而圍成真空室，所述氬氣導(dǎo)入裝置和真空裝置均連通真空室，用以供應(yīng)氬氣，在氬氣導(dǎo)入裝置導(dǎo)入氬氣前，真空裝置先將真空室抽真空，氬氣導(dǎo)入裝置和真空裝置均為現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述，所述擺料系統(tǒng)安裝在上蓋上，擺料系統(tǒng)上安裝有鞋面布料，所述離子源安裝在箱體上，用以產(chǎn)生離子化的氬氣，所述靶材安裝在箱體上，靶材底部設(shè)有磁場(chǎng)源，磁場(chǎng)源為真空磁控濺射領(lǐng)域常見市售的磁場(chǎng)源，所述擺料系統(tǒng)與靶材相對(duì)，靶材為鎳塊，鎳塊設(shè)置于真空室內(nèi)，當(dāng)充入氬氣后產(chǎn)生輝光放電，使被離子化的氬氣在磁場(chǎng)作用下加速?zèng)_擊于靶材的表面，以使靶材表面的原子飛出，并在鞋面布料表面堆積成鍍膜，本實(shí)施例中靶材為鎳靶材，賦予了鞋面布料耐磨性和防水性。

20、為了使得鞋面布料更大范圍的接近靶材而設(shè)置擺料系統(tǒng)，所述擺料系統(tǒng)包括擺料回轉(zhuǎn)桿、回轉(zhuǎn)裝置和慣性偏轉(zhuǎn)架，所述擺料回轉(zhuǎn)桿可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在上蓋上，所述慣性偏轉(zhuǎn)架可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿上，所述回轉(zhuǎn)裝置安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿底部，擺料回轉(zhuǎn)桿往復(fù)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)慣性偏轉(zhuǎn)架由于慣性作用暫時(shí)不會(huì)跟著擺料回轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)然，由于鞋面布料與慣性偏轉(zhuǎn)架之間存在摩擦力，而這個(gè)摩擦力帶動(dòng)慣性偏轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)需要時(shí)間，驅(qū)動(dòng)慣性偏轉(zhuǎn)架跟隨擺料回轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)動(dòng)會(huì)發(fā)生在擺料回轉(zhuǎn)桿旋轉(zhuǎn)一段時(shí)間之后，因此導(dǎo)致所述回轉(zhuǎn)裝置相對(duì)于慣性偏轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)，在回轉(zhuǎn)裝置和擺料回轉(zhuǎn)桿上套設(shè)鞋面布料，鞋面布料在慣性偏轉(zhuǎn)架帶動(dòng)下在回轉(zhuǎn)裝置下偏轉(zhuǎn)，也就是說，鞋面布料在回轉(zhuǎn)裝置下側(cè)暴露出的區(qū)域會(huì)發(fā)生變化，進(jìn)而使得鞋面布料濺射的區(qū)域大大增加，進(jìn)而使得更多的鞋面布料得到鍍膜，所述慣性偏轉(zhuǎn)架通過軸承軸向固定在擺料回轉(zhuǎn)桿上。

技術(shù)特征：

1.一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括真空室、擺料系統(tǒng)、真空裝置、氬氣導(dǎo)入裝置、離子源和靶材，所述真空室由上蓋和箱體圍成，所述氬氣導(dǎo)入裝置和真空裝置均連通真空室，所述擺料系統(tǒng)安裝在上蓋上，所述離子源安裝在箱體上，所述靶材安裝在箱體上，所述擺料系統(tǒng)與靶材相對(duì)，所述擺料系統(tǒng)包括擺料回轉(zhuǎn)桿、回轉(zhuǎn)裝置和慣性偏轉(zhuǎn)架，所述擺料回轉(zhuǎn)桿可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在上蓋上，所述慣性偏轉(zhuǎn)架可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿上，所述回轉(zhuǎn)裝置安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿底部，所述回轉(zhuǎn)裝置相對(duì)于慣性偏轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)，所述慣性偏轉(zhuǎn)架軸向固定在擺料回轉(zhuǎn)桿上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述擺料回轉(zhuǎn)桿通過軸承可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在上蓋上，所述擺料回轉(zhuǎn)桿上設(shè)有鏈輪，所述擺料回轉(zhuǎn)桿的鏈輪傳動(dòng)連接有電機(jī)，所述電機(jī)安裝在上蓋上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述擺料回轉(zhuǎn)桿上設(shè)有固定槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述回轉(zhuǎn)裝置為回轉(zhuǎn)盤，所述回轉(zhuǎn)盤底部設(shè)有放射狀的摩擦紋路。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述慣性偏轉(zhuǎn)架包括回轉(zhuǎn)擺臂和導(dǎo)向臂，所述回轉(zhuǎn)擺臂可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在擺料回轉(zhuǎn)架上，所述導(dǎo)向臂安裝在回轉(zhuǎn)擺臂上，所述導(dǎo)向臂為圓弧形，所述導(dǎo)向臂的末端設(shè)有倒角。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述離子源的指向與靶材指向平行。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述箱體的底部設(shè)有帶有剎車的滾輪。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述箱體上設(shè)有若干觀察窗。

9.一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜方法，其特征在于，包括如下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種防水鞋面用磁控濺射鍍膜方法及鍍膜設(shè)備，涉及磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域，包括真空室、擺料系統(tǒng)、真空裝置、氬氣導(dǎo)入裝置、離子源和靶材，所述真空室由上蓋和箱體圍成，所述氬氣導(dǎo)入裝置和真空裝置均連通真空室，所述擺料系統(tǒng)安裝在上蓋上，所述離子源安裝在上蓋上，所述靶材安裝在箱體上，所述擺料系統(tǒng)與靶材相對(duì)，所述擺料系統(tǒng)包括擺料回轉(zhuǎn)桿、回轉(zhuǎn)裝置和慣性偏轉(zhuǎn)架，所述擺料回轉(zhuǎn)桿可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在上蓋上，所述慣性偏轉(zhuǎn)架可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿上，所述回轉(zhuǎn)裝置安裝在擺料回轉(zhuǎn)桿底部，所述回轉(zhuǎn)裝置相對(duì)于慣性偏轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)，所述慣性偏轉(zhuǎn)架軸向固定在擺料回轉(zhuǎn)桿上，鍍膜面積大。

技術(shù)研發(fā)人員：莊毓璇,莊東蕓
受保護(hù)的技術(shù)使用者：晉江市創(chuàng)佳紡織科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6