本發(fā)明涉及鋼結(jié)構(gòu)加工生產(chǎn)領(lǐng)域，尤其是一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)。

背景技術(shù)：

在鋼結(jié)構(gòu)加工生產(chǎn)過(guò)程中，需要在實(shí)驗(yàn)室對(duì)一切工件進(jìn)行磨削已備檢驗(yàn)，需要用到一種圓盤(pán)磨機(jī)，常用的圓盤(pán)磨機(jī)是實(shí)驗(yàn)室中用到的一種設(shè)備，可將工件表面打磨光滑，這種圓盤(pán)磨機(jī)內(nèi)設(shè)置有研磨機(jī)而未設(shè)置有容器，因而研磨室中研磨后的雜質(zhì)直接落在設(shè)備中，時(shí)間越久，容易造成設(shè)備的損壞，常用的圓盤(pán)磨機(jī)的整體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)也不合理，工作后產(chǎn)生的灰塵也直接落在裝置中，容易造成設(shè)備損壞，不僅造成工作效率低，也增加了維修成本。

本發(fā)明就是為了解決以上問(wèn)題而進(jìn)行的改進(jìn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明需要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，研磨間隙的寬度可以容易調(diào)節(jié)且精確，提高研磨裝置的效率，減少了雜質(zhì)對(duì)設(shè)備的損壞，提高使用壽命的一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)。

本發(fā)明為解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：

一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)，包括磨削殼體、研磨機(jī)、馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置和框架，所述研磨機(jī)安裝于磨削殼體上，磨削殼體通過(guò)法蘭安裝在框架上且支撐著馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置，

所述磨削殼體上設(shè)置有門(mén)和料斗，所述門(mén)安裝于磨削殼體和研磨機(jī)的銜接處，料斗位于門(mén)的側(cè)上方；

所述研磨機(jī)中容納有盤(pán)形盤(pán)形研磨室，盤(pán)形研磨室包含第一研磨盤(pán)和第二研磨盤(pán)，所述第一研磨盤(pán)和第二研磨盤(pán)上設(shè)置有徑向楔形齒，研磨機(jī)的下端設(shè)置有容器中研磨后的雜質(zhì)落入容器中)；

所述馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置包括傳動(dòng)馬達(dá)、軸以及與軸相耦合的齒輪，所述齒輪與軸承塊相連，該軸承塊與法蘭相連；

所述框架包括基板和側(cè)支架，其中基板和側(cè)支架通過(guò)中間板彼此連接在框架的底部，法蘭將中間板、側(cè)支架固定在框架上，所述框架的兩側(cè)設(shè)置有可調(diào)腳機(jī)架；

所述基板上設(shè)置有底座，所述底座位于基板和傳動(dòng)馬達(dá)之間，所述傳動(dòng)馬達(dá)和底座均被布置在基板上；

進(jìn)一步的，所述研磨機(jī)和容器與側(cè)支架相固定；

更進(jìn)一步的，所述盤(pán)形研磨室上還設(shè)置有磨削軸，所述磨削軸上設(shè)置有第一徑向密封件和第二徑向密封件和第二研磨盤(pán)在研磨過(guò)程中不可避免地產(chǎn)生的灰塵部分可以離開(kāi)磨削殼體并沿著磨削軸進(jìn)入機(jī)體內(nèi)，磨削軸上設(shè)置有第一徑向密封件和第二徑向密封件可阻止灰塵的進(jìn)入，減少設(shè)備的損壞)；

具體的，所述磨削軸上還設(shè)置有滾針軸承、滑動(dòng)套筒、滾珠軸承、夾持器和研磨殼體支撐部，所述磨削軸作為滾針軸承前后的保護(hù)裝置，第一徑向密封件由迷宮式密封件保護(hù)，滑動(dòng)套筒和o型環(huán)保護(hù)第二徑向密封件；

迷宮式密封件被安裝在夾持器和研磨殼體支撐部之間，所述迷宮式密封件包括固定端部34a和可動(dòng)端部34b；迷宮式密封件可通過(guò)通道被加壓入空氣以防止灰塵從夾持器與研磨殼體支撐部之間的磨削軸表面滲入；

所述滾珠軸承具有肩部外圈部37a，所述外圈部37a在軸承塊的肩部和滑動(dòng)套筒之間夾緊，滾珠軸承的肩部?jī)?nèi)圈部37b由一螺母裝置經(jīng)由間隔夾??；

其中，所述滾珠軸承、軸承塊和磨削軸形成無(wú)間隙的固定位移單元；

所述第二研磨盤(pán)相連被固定連接到夾持器上。

本發(fā)明的有益效果在于：整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，研磨間隙的寬度可以容易調(diào)節(jié)且精確，提高研磨裝置的效率；研磨機(jī)的下端設(shè)置有容器，盤(pán)形研磨室中研磨后的雜質(zhì)落入容器中，減少了雜質(zhì)對(duì)設(shè)備的損壞；盤(pán)形研磨室上還設(shè)置有磨削軸，所述磨削軸上設(shè)置有第一徑向密封件和第二徑向密封件，第一研磨盤(pán)和第二研磨盤(pán)在研磨過(guò)程中不可避免地產(chǎn)生的灰塵部分可以離開(kāi)磨削殼體并沿著磨削軸進(jìn)入機(jī)體內(nèi)，磨削軸上設(shè)置有第一徑向密封件和第二徑向密封件可阻止灰塵的進(jìn)入，減少設(shè)備的損壞。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明提出的一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)的右視圖。

圖2是本發(fā)明提出的一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)的左視圖。

圖3是本發(fā)明提出的一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)的剖面后視圖。

圖4是本發(fā)明提出的一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)中磨削軸的部分結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合圖示與具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。

參照?qǐng)D1、圖2、圖3、圖4所示，該一種用于實(shí)驗(yàn)室的圓盤(pán)磨機(jī)，包括磨削殼體1、研磨機(jī)2、馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置3和框架5，所述研磨機(jī)2安裝于磨削殼體1上，磨削殼體1通過(guò)法蘭51安裝在框架5上且支撐著馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置3，

所述磨削殼體1上設(shè)置有門(mén)8和料斗9，所述門(mén)8安裝于磨削殼體1和研磨機(jī)2的銜接處，料斗9位于門(mén)8的側(cè)上方；

所述研磨機(jī)2中容納有盤(pán)形盤(pán)形研磨室20，盤(pán)形研磨室20包含第一研磨盤(pán)21和第二研磨盤(pán)22，所述第一研磨盤(pán)21和第二研磨盤(pán)22上設(shè)置有徑向楔形齒23，研磨機(jī)2的下端設(shè)置有容器10盤(pán)形研磨室20中研磨后的雜質(zhì)落入容器10中；

所述馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置3包括傳動(dòng)馬達(dá)11、軸12以及與軸12相耦合的齒輪13，所述齒輪13與軸承塊38相連，該軸承塊38與法蘭51相連；

所述框架5包括基板50和側(cè)支架53，其中基板50和側(cè)支架53通過(guò)中間板54彼此連接在框架5的底部，法蘭51將中間板54、側(cè)支架53固定在框架5上，所述框架5的兩側(cè)設(shè)置有可調(diào)腳機(jī)架55；

所述基板50上設(shè)置有底座4，所述底座4位于基板50和傳動(dòng)馬達(dá)11之間，所述傳動(dòng)馬達(dá)11和底座4均被布置在基板50上；

進(jìn)一步的，所述研磨機(jī)2和容器10與側(cè)支架53相固定；

更進(jìn)一步的，所述盤(pán)形研磨室20上還設(shè)置有磨削軸30，所述磨削軸30上設(shè)置有第一徑向密封件31和第二徑向密封件32第一研磨盤(pán)21和第二研磨盤(pán)22在研磨過(guò)程中不可避免地產(chǎn)生的灰塵部分可以離開(kāi)磨削殼體1并沿著磨削軸30進(jìn)入機(jī)體內(nèi)，磨削軸30上設(shè)置有第一徑向密封件31和第二徑向密封件32可阻止灰塵的進(jìn)入，減少設(shè)備的損壞；

具體的，所述磨削軸30上還設(shè)置有滾針軸承33、滑動(dòng)套筒35、滾珠軸承37、夾持器25和研磨殼體支撐部26，所述磨削軸30作為滾針軸承33前后的保護(hù)裝置，第一徑向密封件31由迷宮式密封件34保護(hù)，滑動(dòng)套筒35和o型環(huán)36保護(hù)第二徑向密封件32；

迷宮式密封件34被安裝在夾持器25和研磨殼體支撐部26之間，所述迷宮式密封件34包括固定端部34a和可動(dòng)端部34b；迷宮式密封件34可通過(guò)通道27被加壓入空氣以防止灰塵從夾持器25與研磨殼體支撐部26之間的磨削軸30表面滲入；

所述滾珠軸承37具有肩部外圈部37a，所述外圈部37a在軸承塊38的肩部和滑動(dòng)套筒35之間夾緊，滾珠軸承37的肩部?jī)?nèi)圈部37b由一螺母裝置經(jīng)由間隔夾??；

其中，所述滾珠軸承37、軸承塊38和磨削軸30形成無(wú)間隙的固定位移單元；

所述第二研磨盤(pán)22相連被固定連接到夾持器25上；

整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，研磨間隙的寬度可以容易調(diào)節(jié)且精確，提高研磨裝置的效率；研磨機(jī)的下端設(shè)置有容器，盤(pán)形研磨室中研磨后的雜質(zhì)落入容器中，減少了雜質(zhì)對(duì)設(shè)備的損壞；盤(pán)形研磨室上還設(shè)置有磨削軸，所述磨削軸上設(shè)置有第一徑向密封件和第二徑向密封件，第一研磨盤(pán)和第二研磨盤(pán)在研磨過(guò)程中不可避免地產(chǎn)生的灰塵部分可以離開(kāi)磨削殼體并沿著磨削軸進(jìn)入機(jī)體內(nèi)，磨削軸上設(shè)置有第一徑向密封件和第二徑向密封件可阻止灰塵的進(jìn)入，減少設(shè)備的損壞。

以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下本發(fā)明還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)及其等同物界定。