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一種合成金剛石用觸媒粉末制備裝置的制作方法

文檔序號(hào):11607277閱讀:202來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及觸媒粉末生產(chǎn)領(lǐng)域,尤其涉及一種合成金剛石用觸媒粉末制備裝置。



背景技術(shù):

粉末觸媒材料是人工合成金剛石的關(guān)鍵材料,與片狀觸媒合金相比,粉狀觸媒合金具有以下優(yōu)點(diǎn):1)比表面積大,合成單產(chǎn)高。2)合金化學(xué)成分均勻。3)生產(chǎn)成本低。4)合成的金剛石晶型完整率高。5)合成的金剛石晶體內(nèi)較為純凈,包裹體總量不多,且分布較為細(xì)小分散,表現(xiàn)為無(wú)規(guī)則排列。因此,粉末觸媒以其顯著的優(yōu)勢(shì)成為高品級(jí)金剛石合成用觸媒的首選材料。

我國(guó)的觸媒合金粉末制造主要以霧化法為主,包括水霧化和氣霧化兩大類。用水霧化法制造的觸媒合金粉末產(chǎn)品,成本比氣霧化產(chǎn)品大幅度降低,但其氧含量要高出10倍左右,一般情況下,水霧化后不經(jīng)過(guò)再次還原處理,水霧化觸媒合金粉末氧含量在3000-5000ppm,氣霧化觸媒合金粉末氧含量在200-500ppm。從價(jià)格方面,同樣配方的觸媒粉,氣霧化制造的價(jià)格約100元/kg,水霧化的觸媒合金粉末約70元/kg??梢?jiàn),利用不同工藝制備的觸媒合金粉價(jià)格是有差異的,水霧化制備的粉末大多不規(guī)則、氧含量較高。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種克服、改善水霧化制粉,粉末大多呈不規(guī)則、氧含量高的缺點(diǎn)同時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)制粉全程自動(dòng)化控制的一種合成金剛石用觸媒粉末制備裝置。

本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種合成金剛石用觸媒粉末制備裝置,包括依次連接的金屬熔煉爐、中間包、霧化室、收分罐、泥漿泵、離心機(jī)、還原爐、粉體分選機(jī)和plc控制系統(tǒng),所述金屬熔煉爐頂部設(shè)有進(jìn)料口和進(jìn)氣管,所述進(jìn)氣管上設(shè)有進(jìn)氣閥和氣體流量檢測(cè)儀,所述進(jìn)氣閥和氣體流量檢測(cè)儀均與plc控制系統(tǒng)連接,所述金屬熔煉爐側(cè)壁底部設(shè)有出料口,所述出料口連接中間包;所述中間包底部為漏斗形,底部中間位置設(shè)有導(dǎo)流管,所述導(dǎo)流管伸入霧化室內(nèi);所述霧化室頂部設(shè)有進(jìn)水管,進(jìn)水管上設(shè)有流量檢測(cè)儀,流量檢測(cè)儀與plc控制系統(tǒng)連接,所述進(jìn)水管端部連接高壓噴盤(pán),所述高壓噴盤(pán)位于導(dǎo)流管兩側(cè),導(dǎo)流管位于高壓噴盤(pán)上方,所述霧化室底部連接收分罐,所述收分罐側(cè)壁連接泥漿泵而后依次連接離心機(jī)、還原爐和粉體分選機(jī),所述還原爐為鋼帶式精還原爐,還原爐側(cè)壁設(shè)有進(jìn)氣管,進(jìn)氣管上設(shè)有進(jìn)氣閥和氣體流量檢測(cè)儀,所述進(jìn)氣閥和氣體流量檢測(cè)儀均與plc控制系統(tǒng)連接。

作為優(yōu)選,所述金屬熔煉爐、中間包、霧化室和收分罐內(nèi)壁均涂覆防腐涂層,所述金屬熔煉爐側(cè)壁還設(shè)有溫度檢測(cè)儀,所述溫度檢測(cè)儀與plc控制系統(tǒng)連接。

作為優(yōu)選,所述離心機(jī)為三足過(guò)濾式離心機(jī)、臥式螺旋沉降離心機(jī)或臥式螺旋過(guò)濾離心機(jī)。

作為優(yōu)選,所述霧化室和收分罐之間還設(shè)有網(wǎng)篩,網(wǎng)篩上設(shè)有高頻振動(dòng)器,所述高頻振動(dòng)器與plc控制系統(tǒng)連接。

作為優(yōu)選,所述還原爐和粉體分選機(jī)之間還設(shè)有冷卻室,所述冷卻室側(cè)壁設(shè)有風(fēng)機(jī)。

本發(fā)明的有益效果:plc控制系統(tǒng)連接各個(gè)關(guān)鍵設(shè)備,自動(dòng)控制進(jìn)氣、進(jìn)水、同時(shí)監(jiān)控各設(shè)備的運(yùn)行情況;霧化室內(nèi)設(shè)有兩個(gè)高壓噴盤(pán),能夠更好的將金屬熔體粉碎成細(xì)小的熔滴,球形度更好;網(wǎng)篩上連接振動(dòng)器,可以有效防止粘連;通過(guò)泥漿泵將合金粉漿和霧化水抽到離心機(jī)中,除去大部分的水,而后經(jīng)過(guò)還原爐,在通氮?dú)夂蜌錃饣旌蠚怏w的保護(hù)下,利用氫氣燃燒產(chǎn)生的熱量以除去最后的部分水汽,隨后干燥的粉末經(jīng)過(guò)冷卻室進(jìn)行冷卻,這樣就可以有效的降低含氧量。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中1是金屬熔煉爐、1.1是進(jìn)料口、1.2是進(jìn)氣閥、1.3是氣體流量檢測(cè)儀、1.4是出料口、1.5是溫度監(jiān)測(cè)儀、2是中間包、2.1是導(dǎo)流管、3是霧化室、3.1是進(jìn)水管、3.2是流量檢測(cè)儀、3.3是高壓噴盤(pán)、4是收分罐、5是泥漿泵、6是離心機(jī)、7是還原爐、7.1是進(jìn)氣閥、7.2是氣體流量檢測(cè)儀、8是粉體分選機(jī)、9是plc控制系統(tǒng)、10是網(wǎng)篩、10.1是高頻振動(dòng)器、11是冷卻室、11.1是風(fēng)機(jī)。

具體實(shí)施例

一種合成金剛石用觸媒粉末制備裝置,包括依次連接的金屬熔煉爐1、中間包2、霧化室3、收分罐4、泥漿泵5、離心機(jī)6、還原爐7、粉體分選機(jī)8和plc控制系統(tǒng)9,金屬?gòu)慕饘偃蹮挔t1頂部的進(jìn)料口1.1進(jìn)入金屬熔煉爐1內(nèi),同時(shí)進(jìn)氣管連接惰性氣體總管,在金屬熔煉過(guò)程中充入惰性氣體保護(hù),在所述進(jìn)氣管上設(shè)有進(jìn)氣閥1.2和氣體流量檢測(cè)儀1.3,進(jìn)氣閥1.2和氣體流量檢測(cè)儀1.3均與plc控制系統(tǒng)9連接,金屬熔煉完成后由金屬熔煉爐1側(cè)壁底部的出料口1.4排出進(jìn)入中間包2;所述中間包2底部為漏斗形,底部中間位置設(shè)有導(dǎo)流管2.1,所述導(dǎo)流管2.1伸入霧化室3內(nèi);所述霧化室3頂部設(shè)有進(jìn)水管3.1,進(jìn)水管3.1上設(shè)有流量檢測(cè)儀3.2,流量檢測(cè)儀3.2與plc控制系統(tǒng)9連接,所述進(jìn)水管3.1端部連接高壓噴盤(pán)3.3,所述高壓噴盤(pán)3.3位于導(dǎo)流管2.1兩側(cè),導(dǎo)流管2.1位于高壓噴盤(pán)3.3上方,金屬溶液經(jīng)過(guò)導(dǎo)流管2.1后進(jìn)入霧化室3,同時(shí)進(jìn)水管3.1通過(guò)高壓噴盤(pán)3.3噴出水霧,對(duì)金屬溶液進(jìn)行霧化,霧化室3底部連接收分罐4,收分罐4側(cè)壁連接泥漿泵5而后依次連接離心機(jī)6、還原爐7和粉體分選機(jī)8,金屬溶液經(jīng)過(guò)霧化后形成合金粉漿和霧化水混合物,通過(guò)泥漿泵5將其抽至離心機(jī)6,混合物通過(guò)離心機(jī)6脫水后進(jìn)入還原爐7再次進(jìn)行脫水降低含氧量處理,此時(shí)還原爐7側(cè)壁上的進(jìn)氣管在還原爐內(nèi)充入惰性氣體進(jìn)行保護(hù),進(jìn)氣管上設(shè)有進(jìn)氣閥7.1和氣體流量檢測(cè)儀7.2,所述還原爐7為鋼帶式精還原爐,所述進(jìn)氣閥7.1和氣體流量檢測(cè)儀7.2均與plc控制系統(tǒng)9連接,經(jīng)過(guò)還原爐7后粉體進(jìn)入粉體分選機(jī)8進(jìn)行分選;所述金屬熔煉爐1、中間包2、霧化室3和收分罐4內(nèi)壁均涂覆防腐涂層,所述金屬熔煉1爐側(cè)壁還設(shè)有溫度檢測(cè)儀1.5,所述溫度檢測(cè)儀1.5與plc控制系統(tǒng)連接9;所述離心機(jī)6為三足過(guò)濾式離心機(jī)、臥式螺旋沉降離心機(jī)或臥式螺旋過(guò)濾離心機(jī);所述霧化室3和收分罐4之間還設(shè)有網(wǎng)篩10,網(wǎng)篩10上設(shè)有高頻振動(dòng)器10.1,所述高頻振動(dòng)器10.1與plc控制系統(tǒng)連接9;所述還原爐7和粉體分選機(jī)8之間還設(shè)有冷卻室11,所述冷卻室側(cè)壁設(shè)有風(fēng)機(jī)11.1。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
一種合成金剛石用觸媒粉末制備裝置,包括依次連接的金屬熔煉爐、中間包、霧化室、收分罐、泥漿泵、離心機(jī)、還原爐、粉體分選機(jī)和PLC控制系統(tǒng),本裝置能夠克服、改善水霧化制粉,粉末大多呈不規(guī)則、氧含量高的缺點(diǎn),同時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)制粉全程監(jiān)控功能。

技術(shù)研發(fā)人員:劉克寬;雷阿達(dá);吳小平
受保護(hù)的技術(shù)使用者:江蘇浙宏科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.26
技術(shù)公布日:2017.08.04
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