本實用新型屬于半導體設備技術領域，特別是涉及一種研磨腔體及靶材打磨清洗機。

背景技術：

蒸鍍工藝是現(xiàn)有半導體工藝中最常用的工藝之一，用于蒸鍍工藝的蒸鍍設備需要定期保養(yǎng)維護，在蒸鍍設備定期保養(yǎng)維護的過程中，需要對蒸鍍設備中的金屬靶材進行清洗處理，現(xiàn)有對所述金屬靶材進行清洗的方法為使用電動磨具人為手工對所述金屬靶材進行打磨清洗。

但上述清洗方式存在如下缺陷：1、手工打磨清洗會產(chǎn)生粉塵，不能在無塵室內(nèi)操作；2、手工打磨清洗時所述金屬靶材可能會接觸到操作者的雙手，從而引入有機物而污染靶材；3、手工打磨清洗時打磨清洗的效果因人而異，參數(shù)不能量化，保養(yǎng)質(zhì)量無法保證；4、手工打磨清洗增加了人力消耗。

技術實現(xiàn)要素：

鑒于以上所述現(xiàn)有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種研磨腔體及靶材打磨清洗機，用于解決現(xiàn)有技術中使用電動磨具人為手工對所述金屬靶材進行打磨清洗而存在的粉塵釋放、靶材容易受污染、打磨清洗質(zhì)量不穩(wěn)定及增加人力消耗等問題。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關目的，本實用新型提供一種研磨腔體，所述研磨腔體包括：腔體主體，所述腔體主體內(nèi)形成有空腔，所述空腔內(nèi)填充有與靶材材質(zhì)相同的研磨顆粒。

作為本實用新型的研磨腔體的一種優(yōu)選方案，所述研磨腔體還包括蓋體，所述蓋體扣置于所述腔體主體的頂部，以將所述空腔密封。

本實用新型提供一種靶材打磨清洗機，所述靶材打磨清洗機包括：如上述任一方案中所述的研磨腔體、連接器及驅(qū)動裝置；

所述連接器一端與所述研磨腔體的底部相連接，另一端與所述驅(qū)動裝置相連接；

所述驅(qū)動裝置適于驅(qū)動所述連接器以帶動所述研磨腔體旋轉(zhuǎn)以帶動所述研磨腔體旋轉(zhuǎn)。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括轉(zhuǎn)速傳感器，所述轉(zhuǎn)速傳感器固定于所述連接器上，以監(jiān)測所述驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)速。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括保護箱，所述保護箱位于所述研磨腔體、所述連接器及所述驅(qū)動裝置的外圍。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括隔音結構，所述隔音結構貼置于所述保護箱的內(nèi)壁上。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述隔音結構為隔音棉。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括支架，所述支架的底部固定于所述保護箱的底部，所述研磨腔體位于所述支架頂部。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括飛散物感應傳感器，所述飛散物感應傳感器位于所述保護箱內(nèi)，適于檢測所述保護箱內(nèi)是否有飛散物。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括斷電控制裝置，所述斷電控制裝置與所述飛散物感應傳感器相連接，適于在所述飛散物感應傳感器感應到飛散物時控制所述靶材打磨清洗機斷電。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括顯示及控制面板，所述顯示及控制面板適于設置所述驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)速，并顯示所述驅(qū)動裝置當前的轉(zhuǎn)速。

作為本實用新型的靶材打磨清洗機的一種優(yōu)選方案，所述靶材打磨清洗機還包括排氣管路，所述排氣管路與所述保護箱內(nèi)部相連通。

如上所述，本實用新型提供一種研磨腔體及靶材打磨清洗機具有如下有益效果：

1.本實用新型的研磨腔體通過在空腔內(nèi)填充與靶材材質(zhì)相同的研磨顆粒，在外界驅(qū)動力的作用下可以在設備維護保養(yǎng)時對金屬靶材進行打磨清洗工作，打磨清洗的質(zhì)量較高；金屬靶材不與外界直接接觸，避免外部污染物進入，不會對金屬靶材造成污染，降低保養(yǎng)風險；所述研磨腔體還可以將研磨清洗過程中產(chǎn)生的粉塵控制在所述研磨腔體內(nèi)，使得研磨清洗可以在無塵室中進行；

2.本實用新型的靶材打磨清洗機可以在設備維護保養(yǎng)時對金屬靶材進行打磨清洗工作，打磨清洗的質(zhì)量較高；金屬靶材不與外界直接接觸，避免外部污染物進入，不會對金屬靶材造成污染，降低保養(yǎng)風險；可以將研磨清洗過程中產(chǎn)生的粉塵控制在所述研磨腔體內(nèi)，使得研磨清洗可以在無塵室中進行；打磨清洗過程中無需人員看守，從而釋放了人力，降低了人力消耗。

附圖說明

圖1顯示為本實用新型實施例一中提供的研磨腔體的結構示意圖。

圖2顯示為本實用新型實施例二中提供的靶材打磨清洗機的結構示意圖。

元件標號說明

1 研磨腔體

11 腔體主體

12 空腔

13 蓋體

2 研磨顆粒

3 連接器

4 驅(qū)動裝置

5 轉(zhuǎn)速傳感器

6 保護箱

7 支架

8 飛散物感應傳感器

9 顯示及控制面板

具體實施方式

以下通過特定的具體實例說明本實用新型的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點與功效。本實用新型還可以通過另外不同的具體實施方式加以實施或應用，本說明書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點與應用，在沒有背離本實用新型的精神下進行各種修飾或改變。

請參閱圖1～圖2。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本實用新型的基本構想，遂圖式中僅顯示與本實用新型中有關的組件而非按照實際實施時的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復雜。

實施例一

請參閱圖1，本實用新型提供一種研磨腔體1，適于對靶材進行研磨清洗，具體的，適于對蒸鍍機的金屬靶材進行研磨清洗，所述研磨腔體1包括：腔體主體11，所述腔體主體11內(nèi)形成有空腔12，所述空腔12內(nèi)填充有與靶材材質(zhì)相同的研磨顆粒2。通過在所述空腔12內(nèi)填充與靶材材質(zhì)相同的所述研磨顆粒2，在需要對靶材進行研磨清洗時，將靶材置于所述空腔12內(nèi)，在外界驅(qū)動力的作用下所述研磨腔體1高速旋轉(zhuǎn)，并帶動所述研磨顆粒2高速旋轉(zhuǎn)，可以在設備維護保養(yǎng)時對金屬靶材進行打磨清洗工作，在打磨清洗的過程中并具有一定的拋光能力，打磨清洗的質(zhì)量較高；同時，金屬靶材不與外界直接接觸，避免外部污染物進入，且所述研磨顆粒2的材質(zhì)與所述靶材的材質(zhì)相同，在研磨清洗的過程中不會對金屬靶材造成污染，降低保養(yǎng)風險；所述研磨腔體1還可以將研磨清洗過程中產(chǎn)生的粉塵控制在所述研磨腔體內(nèi)，使得研磨清洗可以在無塵室中進行。

作為示例，所述研磨腔體1為金屬研磨腔體，即所述腔體主體11及所述蓋體13均為金屬材質(zhì)。在一示例中，所述腔體主體11及所述蓋體13的材質(zhì)可以為但不僅限于304不銹鋼。

作為示例，所述空腔12內(nèi)填充的所述研磨顆粒2的量根據(jù)實際需要選定，所述研磨顆粒2的粒徑可以根據(jù)實際需要進行選擇，此處不做限定。

作為示例，所述研磨腔體1還包括蓋體13，所述蓋體13扣置于所述腔體主體11的頂部，以將所述空腔12密封。由于在使用所述研磨腔體1對靶材進行研磨清洗時，所述研磨腔體1會高速旋轉(zhuǎn)，在所述腔體主體11的頂部設置所述蓋體13，在所述研磨腔體1高速旋轉(zhuǎn)時可以防止所述研磨顆粒2被甩出對設備、人員及環(huán)境帶來安全隱患。

實施例二

請參閱圖2，本實施例提供一種靶材打磨清洗機，所述靶材打磨清洗機包括：實施例一中所述的研磨腔體1、連接器3及驅(qū)動裝置4；所述研磨腔體1的具體結構請參閱實施例一，此處不再累述；所述連接器3一端與所述研磨腔體1的底部相連接，另一端與所述驅(qū)動裝置4相連接；所述驅(qū)動裝置4適于驅(qū)動所述連接器3以帶動所述研磨腔體1旋轉(zhuǎn)以帶動所述研磨腔體1旋轉(zhuǎn)。

作為示例，所述連接器3可以為但不僅限于連接軸。

作為示例，所述驅(qū)動裝置4可以為但不僅限于驅(qū)動電極。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括轉(zhuǎn)速傳感器5，所述轉(zhuǎn)速傳感器5固定于所述連接器3上，以監(jiān)測所述驅(qū)動裝置4的轉(zhuǎn)速，即監(jiān)測所述驅(qū)動裝置4驅(qū)動所述研磨腔體1旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括保護箱6，所述保護箱6位于所述研磨腔體1、所述連接器3及所述驅(qū)動裝置4的外圍。在所述研磨腔體1、所述連接器3及所述驅(qū)動裝置4的外圍設置所述保護箱6可以進一步防止飛散物對人員及環(huán)境帶來的安全隱患，進一步保證所述靶材打磨清洗機的安全性。

作為示例，所述保護箱6為金屬保護箱，所述保護箱6的厚度可以根據(jù)實際需要進行設定，優(yōu)選地，本實施例中，所述保護箱6可以為但不僅限于厚度為3mm的304不銹鋼。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括隔音結構(未示出)，所述隔音結構貼置于所述保護箱6的內(nèi)壁上。在所述保護箱6的內(nèi)壁上貼置所述隔音結構，可以控制打磨清洗過程中產(chǎn)生的噪音對外界的影響。優(yōu)選地，本實施例中，所述隔音結構可以為但不僅限于隔音棉。所述隔音棉的厚度可以根據(jù)實際需要設定，在一示例中，所述隔音棉的厚度可以為4厘米。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括支架7，所述支架7位于所述保護箱6內(nèi)，且所述支架7的底部固定于所述保護箱6的底部，所述研磨腔體1固定于所述支架7的頂部，所述支架7起到對所述研磨腔體1進行固定支撐的作用。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括飛散物感應傳感器8，所述飛散物感應傳感器8位于所述保護箱6內(nèi)，適于檢測所述保護箱6內(nèi)是否有飛散物。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括斷電控制裝置(未示出)，所述斷電控制裝置與所述飛散物感應傳感器8相連接，適于在所述飛散物感應傳感器8感應到所述保護箱6內(nèi)有飛散物時控制所述靶材打磨清洗機斷電。由于所述保護箱6內(nèi)布設有所述靶材打磨清洗機的所需的線路，若有飛散物從所述研磨腔體1內(nèi)泄露到所述保護箱6內(nèi)會對位于所述保護箱6內(nèi)的線路造成損害，因此，通過在所述保護箱6內(nèi)設置所述飛散物感應傳感器8，將所述飛散物感應傳感器8與所述斷電控制裝置相連接，并在所述飛散物感應傳感器8感應到所述保護箱6內(nèi)有飛散物時控制所述靶材打磨清洗機斷電，可以在有飛散物泄露到所述保護箱6內(nèi)時第一時間做出反應，及時保護所述打磨清洗機的線路不被損壞。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括顯示及控制面板9，所述顯示及控制面板9位于所述保護箱6的表面，適于設置所述驅(qū)動裝置4的轉(zhuǎn)速，并顯示所述驅(qū)動裝置4當前的轉(zhuǎn)速。

作為示例，所述靶材打磨清洗機還包括排氣管路(未示出)，所述排氣管路與所述保護箱6的內(nèi)部相連通。

本實用新型的靶材打磨清洗機可以在設備維護保養(yǎng)時對金屬靶材進行打磨清洗工作，在打磨清洗的同時并具有一定的拋光能力，打磨清洗的質(zhì)量較高；金屬靶材不與外界直接接觸，避免外部污染物進入，不會對金屬靶材造成污染，降低保養(yǎng)風險；可以將研磨清洗過程中產(chǎn)生的粉塵控制在所述研磨腔體內(nèi)，使得研磨清洗可以在無塵室中進行；打磨清洗過程中無需人員看守，從而釋放了人力，降低了人力消耗。

如上所述，本實用新型提供一種研磨腔體及靶材打磨清洗機，所述研磨腔體包括：腔體主體，所述腔體主體內(nèi)形成有空腔，所述空腔內(nèi)填充有與靶材材質(zhì)相同的研磨顆粒。本實用新型的研磨腔體通過在空腔內(nèi)填充與靶材材質(zhì)相同的研磨顆粒，在外界驅(qū)動力的作用下可以在設備維護保養(yǎng)時對金屬靶材進行打磨清洗工作，打磨清洗的質(zhì)量較高；金屬靶材不與外界直接接觸，避免外部污染物進入，不會對金屬靶材造成污染，降低保養(yǎng)風險；所述研磨腔體還可以將研磨清洗過程中產(chǎn)生的粉塵控制在所述研磨腔體內(nèi)，使得研磨清洗可以在無塵室中進行。

上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術領域中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本實用新型的權利要求所涵蓋。