本實(shí)用新型涉及一種基板加工機(jī)構(gòu)，尤其涉及一種拋光機(jī)構(gòu)及拋光設(shè)備。

背景技術(shù)：

由于受現(xiàn)有拋光技術(shù)的限制，待加工玻璃蓋板的倒邊在拋光后的良率很低，待加工玻璃蓋板的直身位厚度不均勻，平整度不高，嚴(yán)重影響拋光良率，增加了生產(chǎn)的成本。在拋光生產(chǎn)作業(yè)中發(fā)現(xiàn)離中心位置距離越大的待加工玻璃蓋板厚度越不均勻，因此需要一種新型拋光機(jī)構(gòu)，以提高拋光良率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有拋光良率低的技術(shù)問題。本實(shí)用新型提供一種拋光機(jī)構(gòu)及拋光設(shè)備。

本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的技術(shù)方案是提供一種拋光機(jī)構(gòu)，用于對待加工玻璃蓋板拋光處理，其包括磨盤、軟質(zhì)載物層，所述軟質(zhì)載物層包括至少一工件放置區(qū)及保護(hù)件，待加工玻璃蓋板放置在所述工件放置區(qū)內(nèi)且其待加工面與磨盤相對設(shè)置，所述保護(hù)件與所述待加工玻璃蓋板的邊緣輪廓相匹配，所述軟質(zhì)載物層與所述磨盤相對旋轉(zhuǎn)，所述保護(hù)件的厚度與其相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離相匹配，即待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離越大，保護(hù)件厚度越大。

優(yōu)選地，所述保護(hù)件靠近待加工玻璃蓋板一側(cè)的邊緣輪廓匹配于所述待加工玻璃蓋板的邊緣輪廓，且所述保護(hù)件厚度大于待加工玻璃蓋板厚度。

優(yōu)選地，所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離、保護(hù)件厚度滿足以下公式：Q∝2πR₁μF，其中Q為待加工玻璃蓋板的磨削量，R₁為與所述保護(hù)件相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離，μ為摩擦因數(shù)，F(xiàn)為待加工玻璃蓋板邊緣所受壓力。

優(yōu)選地，所述保護(hù)件包括至少兩第一保護(hù)件及至少一第二保護(hù)件，至少一所述第二保護(hù)件設(shè)置在所述兩第一保護(hù)件之間，所述第一保護(hù)件相對設(shè)于所述待加工玻璃蓋板的四個角處，所述第二保護(hù)件相對設(shè)于所述待加工玻璃蓋板各邊處。

優(yōu)選地，所述第二保護(hù)件與所述第一保護(hù)件分離設(shè)置或所述第二保護(hù)件與所述第一保護(hù)件連接，用于調(diào)節(jié)玻璃蓋板邊緣的磨削量。

優(yōu)選地，所述保護(hù)件的厚度、所述待加工玻璃蓋板的厚度、所述軟質(zhì)載物層的半徑滿足以下公式：其中，H為保護(hù)件的厚度，R₁為與所述保護(hù)件相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離，R為軟質(zhì)載物層的半徑，k為常數(shù)為0.7-1.5之間，d為待加工玻璃蓋板的厚度，且所述第二保護(hù)件包括一頂面，所述頂面為斜面。

優(yōu)選地，所述保護(hù)件的邊緣到匹配的待加工玻璃蓋板邊緣距離為0.3-1.5mm，所述保護(hù)件厚度為0.25-1.5mm。

優(yōu)選地，所述拋光機(jī)構(gòu)包括多個吸附孔，所述工件放置區(qū)開設(shè)有凹槽，所述吸附孔連通所述凹槽的中心位置。

本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的技術(shù)方案還提供一種拋光設(shè)備，所述拋光設(shè)備包括上述的拋光機(jī)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述拋光設(shè)備還包括驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接帶動所述軟質(zhì)載物層和/或所述磨盤相對旋轉(zhuǎn)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型拋光機(jī)構(gòu)及拋光設(shè)備具有以下優(yōu)點(diǎn)：

(1)通過在待加工玻璃蓋板的邊緣設(shè)置具有適宜厚度的保護(hù)件，可使拋光層對待加工玻璃蓋板進(jìn)行拋光過程中，所述拋光層先接觸到保護(hù)件，而非直接與所述待加工玻璃蓋板的邊緣接觸，設(shè)置保護(hù)件的厚度與所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離相匹配，所述待加工玻璃蓋板的邊緣到軟質(zhì)載物層中心軸的距離越大，所述保護(hù)件的厚度越大，以使待加工玻璃蓋板所述壓力越小，使所述待加工玻璃蓋板的邊緣磨削量相同，提高拋光良率。

(2)由于磨削量Q∝2πR₁μF，R₁為與所述保護(hù)件相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離，F(xiàn)為待加工玻璃蓋板邊緣所受壓力，待加工玻璃蓋板的邊緣到軟質(zhì)載物層中心軸的距離越大，設(shè)置保護(hù)件的厚度越大，以使相匹配待加工玻璃蓋板的邊緣所受壓力越小，從而使待加工玻璃蓋板的邊緣磨削量相同，從而提高拋光良率。

(3)待加工玻璃蓋板的邊緣設(shè)置第一保護(hù)件設(shè)置及第二保護(hù)件，所述第二保護(hù)件設(shè)置在所述兩第一保護(hù)件之間，所述第一保護(hù)件相對設(shè)于所述待加工玻璃蓋板的四個角處，所述第二保護(hù)件相對設(shè)于待加工玻璃蓋板各邊處，可使拋光層對待加工玻璃蓋板進(jìn)行拋光過程中，所述拋光層先接觸到第一保護(hù)件及第二保護(hù)件，從而可使待加工玻璃蓋板的邊緣受到的壓力減小，以調(diào)節(jié)待加工玻璃蓋板各邊的磨削量，使待加工玻璃蓋板各邊拋光均勻。

(4)設(shè)置第二保護(hù)件與第一保護(hù)件分離設(shè)置可以節(jié)省第二保護(hù)件用料成本。所述第二保護(hù)件與所述第一保護(hù)件連接，成框形結(jié)構(gòu)，便于一次性取下并更換所述框形結(jié)構(gòu)，以節(jié)省拋光周期提高拋光效率。

(5)在所述工件放置區(qū)開設(shè)有凹槽，所述吸附孔連通所述凹槽的中心位置，以使工件放置區(qū)表面的待加工玻璃蓋板所受吸附力平衡，防止作業(yè)過程中待加工玻璃蓋板脫落。

(6)采用材料不同的拋光層，可以對待加工玻璃蓋板進(jìn)行不同程度的拋光，以獲得不同的拋光效果。

(7)所述拋光設(shè)備能使待加工玻璃蓋板邊緣磨削量相同，能提高待加工玻璃蓋板的平整度，從而提高拋光良率。

(8)所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接帶動所述軟質(zhì)載物層和/或所述磨盤相對旋轉(zhuǎn)，用于對待加工玻璃蓋板多次磨削拋光，因而具有較好的重復(fù)加工性能。

【附圖說明】

圖1是本實(shí)用新型第一實(shí)施例拋光機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實(shí)用新型拋光機(jī)構(gòu)爆炸結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本實(shí)用新型拋光機(jī)構(gòu)的工件放置區(qū)結(jié)構(gòu)放大主視示意圖。

圖4是本實(shí)用新型拋光機(jī)構(gòu)的工件放置區(qū)結(jié)構(gòu)放大俯視示意圖。

圖5是本實(shí)用新型第二實(shí)施例工件放置區(qū)結(jié)構(gòu)放大俯視示意圖。

圖6是本實(shí)用新型第三實(shí)施例工件放置區(qū)結(jié)構(gòu)放大俯視示意圖。

圖7是本實(shí)用新型第四實(shí)施例拋光設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】

為了使本實(shí)用新型的目的，技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施實(shí)例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

請參閱圖1及圖2，本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供一種拋光機(jī)構(gòu)1，用于對待加工玻璃蓋板100進(jìn)行拋光處理。所述待加工玻璃蓋板100為四邊形，其邊緣包括待加工玻璃蓋板100四個角和四個邊，其中角和邊相連接。所述拋光機(jī)構(gòu)1包括磨盤11、軟質(zhì)載物層13及吸附托盤15。所述軟質(zhì)載物層13設(shè)置在所述磨盤11及所述吸附托盤15之間，所述吸附托盤15固定連接所述軟質(zhì)載物層13，并可帶動所述軟質(zhì)載物層13轉(zhuǎn)動。所述軟質(zhì)載物層13遠(yuǎn)離所述吸附托盤15一側(cè)用于放置待加工玻璃蓋板100且其待加工面與所述磨盤11相對設(shè)置，所述軟質(zhì)載物層13與所述磨盤11相對旋轉(zhuǎn)，以使所述磨盤11對放置在軟質(zhì)載物層13上的待加工玻璃蓋板100進(jìn)行拋光處理。

所述磨盤11為圓形，其包括拋光層111，所述拋光層111可選用、毛刷、毛氈或毛毯等。所述磨盤11尺寸大于所述軟質(zhì)載物層13及所述吸附托盤15的尺寸，其中所述軟質(zhì)載物層13的尺寸與所述吸附托盤15的尺寸相同，且外形輪廓匹配。優(yōu)選地，所述磨盤11尺寸是所述軟質(zhì)載物層13或所述吸附托盤15的尺寸1-2倍。設(shè)置所述磨盤11尺寸大于所述軟質(zhì)載物層13及所述吸附托盤15的尺寸，可以使所述軟質(zhì)載物層13與所述磨盤11相對旋轉(zhuǎn)時，所述軟質(zhì)載物層13上放置待加工玻璃蓋板100全部接觸拋光層111，從而使待加工玻璃蓋板的拋光程度均勻。所述磨盤11可旋轉(zhuǎn)并同步帶動拋光層111對待加工玻璃蓋板100進(jìn)行拋光處理。

請一并參閱圖3，所述軟質(zhì)載物層13為軟質(zhì)材料，是圓形平面結(jié)構(gòu)，其中心位置為中心10，所述軟質(zhì)載物層13可繞其自身中心軸旋轉(zhuǎn)。所述軟質(zhì)載物層13包括工件放置區(qū)131及保護(hù)件133。待加工玻璃蓋板100放置在所述工件放置區(qū)131內(nèi)且其待加工面與磨盤11相對設(shè)置，所述保護(hù)件133與所述待加工玻璃蓋板100的邊緣輪廓相匹配。所述保護(hù)件133包括至少一第一保護(hù)件1331，所述第一保護(hù)件1331相對設(shè)于所述待加工玻璃蓋板100的四個角處。所述軟質(zhì)載物層13與所述磨盤11相對旋轉(zhuǎn)，用于為待加工玻璃蓋板100拋光。其中所述軟質(zhì)載物層13的中心軸與所述軟質(zhì)載物層13的表面交點(diǎn)即為中心10。所述保護(hù)件133包括靠近待加工玻璃蓋板100一側(cè)的保護(hù)件邊緣輪廓1335，所述待加工玻璃蓋板100包括待加工玻璃蓋板邊緣輪廓101，所述保護(hù)件邊緣輪廓1335匹配于所述待加工玻璃蓋板邊緣輪廓101，且所述保護(hù)件133的邊緣到匹配的待加工玻璃蓋板100邊緣距離d1為0.3-1.5mm。所述保護(hù)件133可選用樹脂板、塑料等，所述保護(hù)件133的厚度隨與其相匹配的所述待加工玻璃蓋板100的邊緣到所述軟質(zhì)載物層13中心軸的距離相匹配。優(yōu)選地，所述保護(hù)件133厚度大于待加工玻璃蓋板100厚度，所述保護(hù)件133的厚度為0.25-1.5mm。其中，磨削量Q的計(jì)算公式如下：

Q∝2πR₁μF (1)

其中，在上述公式(1)中，R₁為與所述保護(hù)件133相匹配的所述待加工玻璃蓋板100的邊緣到所述軟質(zhì)載物層133中心軸的距離，μF為待加工玻璃蓋板100的邊緣處所受摩擦力，μ為摩擦系數(shù)，F(xiàn)為待加工玻璃蓋板100邊緣所受壓力。因此，當(dāng)待加工玻璃蓋板100邊緣所受壓力平衡且相同時，待加工玻璃蓋板100邊緣的磨削量與R₁成正比，R₁越大，磨削量越大。通過在待加工玻璃蓋板100的邊緣設(shè)置具有適宜厚度的保護(hù)件133，可使拋光層11對待加工玻璃蓋板100進(jìn)行拋光過程中，所述拋光層11先接觸到保護(hù)件133，而非直接與所述待加工玻璃蓋板100的邊緣接觸，從而可使待加工玻璃蓋板100的邊緣受到的壓力減小，從而使待加工玻璃蓋板100的邊緣磨削量相同，提高拋光良率。假設(shè)所述保護(hù)件133的厚度H，則厚度H的計(jì)算公式如下：

其中，R₁為與所述保護(hù)件133相匹配的所述待加工玻璃蓋板100的邊緣到所述軟質(zhì)載物層133中心軸的距離，R為軟質(zhì)載物層13的半徑。k為常數(shù)為0.7-1.5之間，d為待加工玻璃蓋板100的厚度。從上述式(2)中可以看出，當(dāng)所述R₁越大或不變時，需要拋光處理的待加工玻璃蓋板100厚度越大，所述保護(hù)件133的厚度越大，而相對應(yīng)設(shè)置的待加工玻璃蓋板100的邊緣受到的壓力越小，因此，可以調(diào)節(jié)保護(hù)件133的厚度隨相匹配的所述待加工玻璃蓋板100的邊緣到所述軟質(zhì)載物層133中心軸的距離、待加工玻璃蓋板100的厚度呈規(guī)律變化，以調(diào)節(jié)與所述保護(hù)件133相匹配的待加工玻璃蓋板100的邊緣所受到的壓力，從而使待加工玻璃蓋板100的邊緣磨削量相同，從而提高拋光良率。

在所述軟質(zhì)載物層13上設(shè)置所述工件放置區(qū)131的數(shù)目依據(jù)待加工玻璃蓋板100和軟質(zhì)載物層13的大小確定，以節(jié)省占用空間及不影響相鄰設(shè)置的工件放置區(qū)131上放置的待加工玻璃蓋板100拋光為基準(zhǔn)密集排布。優(yōu)選的，設(shè)置2-20工件放置區(qū)131，進(jìn)一步優(yōu)選地，所述以中心10為圓心，在半徑為小于15cm的圓形區(qū)域內(nèi)，設(shè)置2-4個工件放置區(qū)131；以中心10為圓心，半徑為大于15cm的環(huán)狀區(qū)域內(nèi)，設(shè)置4-9個工件放置區(qū)131。

所述吸附托盤15包括多個吸附孔151和緊固件153。所述吸附孔151設(shè)置在所述吸附托盤15上，所述緊固件153用于緊固組裝軟質(zhì)載物層13及所述吸附托盤15。所述軟質(zhì)載物層13及所述吸附托盤15經(jīng)組裝后，所述吸附孔151連通所述工件放置區(qū)133的中心位置，同時所述吸附孔151通過管道連通抽真空裝置，用于抽取所述工件放置區(qū)133與在其表面上放置的待加工玻璃蓋板100之間空隙的空氣，以使工件放置區(qū)133表面的待加工玻璃蓋板100所受吸附力平衡，防止作業(yè)過程中待加工玻璃蓋板100脫落。

請一并參閱圖4，所述工件放置區(qū)131開設(shè)凹槽1311。所述吸附孔151連通所述凹槽1311的中心位置，使抽真空時待加工玻璃蓋板100受力均勻。所述凹槽1311包括中間開口區(qū)域和四周開口區(qū)域兩部分，且中間開口區(qū)域與四周開口區(qū)域連通，并相對于吸附孔151呈中心軸對稱結(jié)構(gòu)。所述中間開口區(qū)域可以選用方形或圓形，所述四周開口區(qū)域可以選用“山”字型、“田”字形、“回”字形及圓環(huán)形等。通過吸附孔151及凹槽1311形成貫穿的空氣流通路徑，用于抽取待加工玻璃蓋板100與軟質(zhì)載物層13空隙間的空氣或向空隙內(nèi)充氣，使待加工玻璃蓋板100與凹槽1311間形成真空正壓或真空負(fù)壓，以實(shí)現(xiàn)待加工玻璃蓋板100與所述工件放置區(qū)131之間為吸附狀態(tài)或者脫離狀態(tài)。

請一并參閱圖5，本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供一種拋光機(jī)構(gòu)1，其包括軟質(zhì)載物層13。所述軟質(zhì)載物層13包括工件放置區(qū)231、保護(hù)件233，所述保護(hù)件233包括第一保護(hù)件2331及第二保護(hù)件2333。所述第二保護(hù)件2333設(shè)置所述兩第一保護(hù)件2331之間，所述第一保護(hù)件2331相對設(shè)于所述待加工玻璃蓋板100的四個角處，所述第二保護(hù)件2333相對設(shè)于待加工玻璃蓋板100各邊處。所述第二保護(hù)件2333的邊緣輪廓匹配于待加工玻璃蓋板100相鄰各邊，并與所述第一保護(hù)件2331分離設(shè)置，可以節(jié)省第二保護(hù)件2333用料成本。優(yōu)選地，在待加工玻璃蓋板100每邊且在所述兩第一保護(hù)件2331之間設(shè)置多個所述第二保護(hù)件2333。所述第二保護(hù)件2333與第一保護(hù)件2331的厚度隨與兩者相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層的中心軸的崔志距離變化而變化。通過在待加工玻璃蓋板100四個邊處設(shè)置具有適宜厚度的四個第二保護(hù)件2333，可使拋光層11對待加工玻璃蓋板100進(jìn)行拋光過程中，所述拋光層11先接觸到四個第二保護(hù)件2333，從而可使待加工玻璃蓋板100的邊緣受到的壓力減小，以調(diào)節(jié)待加工玻璃蓋板100各邊的磨削量，使待加工玻璃蓋板100邊緣拋光均勻。參照上述公式(1)及公式(2)，所述第二保護(hù)件2333厚度隨相鄰待加工玻璃蓋板100的邊距離中心10的距離逐漸變化，距離越大，厚度越大。所述第二保護(hù)件2333包括一頂面，則由公式(2)可知所述頂面為斜面，且其傾斜程度由公式(2)決定，如此可以調(diào)節(jié)所述磨盤11對待加工玻璃蓋板100各個邊的磨削量，使待加工玻璃蓋板100各個邊拋光均勻。

請參閱圖6，本實(shí)用新型第三實(shí)施例提供一種拋光機(jī)構(gòu)1，所述拋光機(jī)構(gòu)1與第二實(shí)施例不同之處在于：所述第二保護(hù)件3333與所述第一保護(hù)件3331連接，形成框形結(jié)構(gòu)即為一個整體，便于一次性取下并更換整個框型結(jié)構(gòu)，也即第一保護(hù)件3331和第二保護(hù)件3333，以節(jié)省拋光周期提高效率。所述框形結(jié)構(gòu)可伸縮，對不同尺寸待加工玻璃蓋板100拋光處理時，便于調(diào)節(jié)框形結(jié)構(gòu)到待加工玻璃蓋板100邊緣的距離。

在本實(shí)用新型一些較優(yōu)的實(shí)施例中，所述第一保護(hù)件2331和所述第二保護(hù)件2333可采用膠粘劑固定于軟質(zhì)載物層13上，因而可更換不同高度的所述第一保護(hù)件2331和所述第二保護(hù)件2333或向靠近或遠(yuǎn)離待加工玻璃蓋板100各個邊或角移動至適當(dāng)位置，以用于對不同尺寸的待加工玻璃蓋板100拋光處理，使拋光機(jī)構(gòu)1具有廣泛適用性。

請參閱圖7，本實(shí)用新型第四實(shí)施例提供一種拋光設(shè)備30，所述拋光設(shè)備包括3-8個如上所述拋光機(jī)構(gòu)1、第一支撐機(jī)構(gòu)301、第二支撐機(jī)構(gòu)302及驅(qū)動機(jī)構(gòu)303。每個所述拋光機(jī)構(gòu)1位于一個工位中，且每個磨盤11的拋光層111選用的材料不同，因此其韌性和強(qiáng)度不同，用于對待加工玻璃蓋板100進(jìn)行不同程度的拋光。所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)303包括第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)機(jī)構(gòu)3031及第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)3033。所述第一支撐機(jī)構(gòu)301連接所述第二支撐機(jī)構(gòu)302，所述第二支撐機(jī)構(gòu)302另一端連接一拋光機(jī)構(gòu)1，所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)機(jī)構(gòu)3031連接所述第一支撐機(jī)構(gòu)301，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)3033連接所述拋光機(jī)構(gòu)1。所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)303可連接帶動軟質(zhì)載物層13旋轉(zhuǎn)或翻轉(zhuǎn)，所述第一支撐機(jī)構(gòu)301為多個所述拋光機(jī)構(gòu)1的旋轉(zhuǎn)中心，所述第二支撐機(jī)構(gòu)302為與其連接的所述拋光機(jī)構(gòu)1的翻轉(zhuǎn)中心，用于對待加工玻璃蓋板100多次磨削拋光，因而具有較好的重復(fù)加工性能。

固定軟質(zhì)載物層13和吸附托盤15，第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)3031帶動軟質(zhì)載物層13圍繞第一支撐機(jī)構(gòu)301旋轉(zhuǎn)，以更換工位，對待加工玻璃蓋板100進(jìn)行不同程度拋光。同時第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)3033還可進(jìn)一步帶動軟質(zhì)載物層13圍繞第二支撐機(jī)構(gòu)302順時針或逆時針翻轉(zhuǎn)90°，使軟質(zhì)載物層13面向生產(chǎn)操作人員，用于拋光處理完成后，取下待加工玻璃蓋板100。第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)3033進(jìn)一步帶動軟質(zhì)載物層13在一工位放置區(qū)與所述磨盤11相對旋轉(zhuǎn)，以磨削拋光放置于軟質(zhì)載物層13上的待加工玻璃蓋板100。所述拋光設(shè)備30能使待加工玻璃蓋板100的邊緣磨削量相同，能提高待加工玻璃蓋板100的平整度，從而提高拋光良率。

在拋光處理作業(yè)過程中，為進(jìn)一步提高產(chǎn)品平整度，調(diào)節(jié)吸附托盤15順時針旋轉(zhuǎn)60-300s后，再逆時針旋轉(zhuǎn)60-300s，如此重復(fù)操作，使拋光后的玻璃蓋板變得更均勻，提高拋光良率。

在本實(shí)用新型另一些實(shí)施例中，所述吸附托盤15還可以先逆時針旋轉(zhuǎn)60-300s后，再順時針旋轉(zhuǎn)60-300s。

優(yōu)選地，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)3033可單獨(dú)驅(qū)動所述磨盤11，使磨盤11相對于所述載物臺13旋轉(zhuǎn)并對放置在所述載物臺13上的待加工玻璃蓋板進(jìn)行拋光。

優(yōu)選地，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)3033包括帶動所述磨盤11旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動元件，與帶動所述吸附托盤15旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動元件。所述驅(qū)動元件可選用步進(jìn)電機(jī)、交/直流電機(jī)、液壓驅(qū)動元件及氣壓驅(qū)動元件等。所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)3033驅(qū)動所述磨盤11與軟質(zhì)載物層13以相反的反向同步旋轉(zhuǎn)相同時間，以節(jié)省一半的拋光時間，從而提高拋光效率。

優(yōu)選地，所述旋轉(zhuǎn)時間為80-120s。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型拋光機(jī)構(gòu)及拋光設(shè)備具有以下優(yōu)點(diǎn)：

(1)通過在待加工玻璃蓋板的邊緣設(shè)置具有適宜厚度的保護(hù)件，可使拋光層對待加工玻璃蓋板進(jìn)行拋光過程中，所述拋光層先接觸到保護(hù)件，而非直接與所述待加工玻璃蓋板的邊緣接觸，設(shè)置保護(hù)件的厚度與其相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離相匹配，使保護(hù)件的厚度與其相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離呈規(guī)律變化，以使待加工玻璃蓋板的邊緣受到的壓力減小，從而使待加工玻璃蓋板的邊緣磨削量相同，提高拋光良率。

(2)由于磨削量Q∝2πR₁μF，R₁為與所述保護(hù)件相匹配的所述待加工玻璃蓋板的邊緣到所述軟質(zhì)載物層中心軸的距離，F(xiàn)為待加工玻璃蓋板邊緣所受壓力，待加工玻璃蓋板的邊緣到軟質(zhì)載物層中心軸的距離越大，設(shè)置保護(hù)件的厚度越大，以使相匹配待加工玻璃蓋板的邊緣所受壓力越小，從而使待加工玻璃蓋板的邊緣磨削量相同，從而提高拋光良率。

(3)待加工玻璃蓋板的邊緣設(shè)置第一保護(hù)件設(shè)置及第二保護(hù)件，所述第二保護(hù)件設(shè)置在所述兩第一保護(hù)件之間，所述第一保護(hù)件相對設(shè)于所述待加工玻璃蓋板的四個角處，所述第二保護(hù)件相對設(shè)于待加工玻璃蓋板各邊處，可使拋光層對待加工玻璃蓋板進(jìn)行拋光過程中，所述拋光層先接觸到第一保護(hù)件及第二保護(hù)件，從而可使待加工玻璃蓋板的邊緣受到的壓力減小，以調(diào)節(jié)待加工玻璃蓋板各邊的磨削量，使待加工玻璃蓋板各邊拋光均勻。

(4)設(shè)置第二保護(hù)件與第一保護(hù)件分離設(shè)置可以節(jié)省第二保護(hù)件用料成本。所述第二保護(hù)件與所述第一保護(hù)件連接，成框形結(jié)構(gòu)，便于一次性取下并更換所述框形結(jié)構(gòu)，以節(jié)省拋光周期提高拋光效率。

(5)在所述工件放置區(qū)開設(shè)有凹槽，所述吸附孔連通所述凹槽的中心位置，以使工件放置區(qū)表面的待加工玻璃蓋板所受吸附力平衡，防止作業(yè)過程中待加工玻璃蓋板脫落。

(6)采用材料不同的拋光層，可以對待加工玻璃蓋板進(jìn)行不同程度的拋光，以獲得不同的拋光效果。

(7)所述拋光設(shè)備能使待加工玻璃蓋板邊緣磨削量相同，能提高待加工玻璃蓋板的平整度，從而提高拋光良率。

(8)所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接帶動所述軟質(zhì)載物層和/或所述磨盤沿相對旋轉(zhuǎn)，用于對待加工玻璃蓋板多次磨削拋光，因而具有較好的重復(fù)加工性能。

以上所述僅為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型原則之內(nèi)所作的任何修改，等同替換和改進(jìn)等均應(yīng)包含本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。