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RENA單晶制絨設(shè)備拋光工藝?yán)鋮s裝置的制作方法

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RENA單晶制絨設(shè)備拋光工藝?yán)鋮s裝置的制作方法

本實(shí)用新型涉及一種冷卻裝置,特備是一種RENA單晶制絨設(shè)備拋光工藝?yán)鋮s裝置。



背景技術(shù):

現(xiàn)有太陽(yáng)能電池高效單晶拋光設(shè)備,如RENA單晶制絨設(shè)備刻蝕槽,在進(jìn)行拋光工藝的過(guò)程中釋放大量熱,制程溫度需求為75±2度,制程時(shí)間在4min左右,制程循環(huán)時(shí)間在6.5min左右,硅片在制程過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生放熱,且導(dǎo)致溫度上升:初始溫度為75度,當(dāng)?shù)谝粧旒芊湃牍杵磻?yīng)完成后溫度上升到78度左右;當(dāng)?shù)诙旒芊湃牍杵磻?yīng)完成后溫度同78上升到81度左右,已無(wú)法滿足工藝要求。

由于沒(méi)有冷卻系統(tǒng)導(dǎo)致反應(yīng)液體溫度居高不下無(wú)法達(dá)到工藝溫度,導(dǎo)致無(wú)法進(jìn)行正常的工藝過(guò)程。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:如何為現(xiàn)有的RENA單晶制絨設(shè)備提供一種一機(jī)多用的冷卻裝置。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:RENA單晶制絨設(shè)備拋光工藝?yán)鋮s裝置:冷切水進(jìn)水管道上通過(guò)順序安裝的第一手動(dòng)閥門、Y型過(guò)濾器后連接多個(gè)冷切水支管進(jìn)水管,每個(gè)冷切水支管進(jìn)水管通過(guò)第二手動(dòng)閥門、電磁閥門、盤管連接到冷切水支管出水管,冷切水支管出水管連接冷切水出水管道,盤管安裝在刻蝕槽,盤管被刻蝕槽中的刻蝕液完全浸泡。

作為一種優(yōu)選方式:電磁閥門連接控制芯片。

本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型將制程藥水控制在設(shè)定范圍,不僅可連續(xù)生產(chǎn),工藝也穩(wěn)定可控。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是盤管結(jié)構(gòu)示意圖;

其中,1、第一手動(dòng)閥門,2、Y型過(guò)濾器,3、冷切水進(jìn)水管道,4、冷切水出水管道,5、電磁閥門,6、第二手動(dòng)閥門,7、冷切水支管進(jìn)水管,8、冷切水支管出水管,9、刻蝕槽,10、盤管。

具體實(shí)施方式

如圖1所示(只畫出一個(gè)刻蝕槽中的冷切水支管,其它刻蝕槽類似),在拋光開始前首先打開第一手動(dòng)閥門和需要使用的刻蝕槽上的第二手動(dòng)閥門,設(shè)置好刻蝕槽內(nèi)部需要保持的溫度,拋光過(guò)程,如果刻蝕槽內(nèi)部液體的溫度超過(guò)設(shè)定值,控制芯片控制電磁閥門打開,冷切水通過(guò)盤管對(duì)刻蝕槽內(nèi)部液體進(jìn)行冷卻。本實(shí)用新型裝置徹底解決了拋光工藝過(guò)程中的熱量散發(fā)問(wèn)題,保證了拋光過(guò)程的持續(xù)進(jìn)行。

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