本發(fā)明涉及真空蒸鍍裝置、蒸鍍膜的制造方法和有機(jī)電子器件的制造方法。

背景技術(shù)：

一種蒸鍍裝置，其使從蒸發(fā)源蒸發(fā)的成膜材料隔著形成有規(guī)定的掩模圖案的掩模堆積在基板上而形成薄膜，在該蒸鍍裝置中存在這樣的情況：掩模在蒸鍍中(成膜中)從蒸發(fā)源受熱而發(fā)生熱變形，由于該掩模的熱變形而導(dǎo)致掩模與基板的位置發(fā)生偏移，從而使得形成在基板上的薄膜的圖案從所希望的位置偏移。特別是，在手機(jī)或電視等的顯示面板等有機(jī)電子器件的制造中，使用了具有高精細(xì)的圖案的掩模，因此熱變形的影響較大。

因此，例如如專利文獻(xiàn)1所公開的，為了抑制熱變形，提出了使用由作為低熱膨脹材料的因瓦合金材料構(gòu)成的掩模這一方案，但是，即使對掩模使用低熱膨脹材料，也難以使線膨脹系數(shù)為0，在這樣的情況下，熱變形有時依然會成為問題。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2004-323888號公報

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明是鑒于上述的現(xiàn)狀而完成的，目的在于提供一種能夠抑制掩模在蒸鍍中的熱變形從而高精度地以所希望的圖案成膜的真空蒸鍍裝置。

參照附圖對本發(fā)明的主旨進(jìn)行說明。

本發(fā)明的第1形態(tài)涉及真空蒸鍍裝置，其在蒸鍍室1中設(shè)置有蒸發(fā)源2和蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)或者基板移動機(jī)構(gòu)，所述蒸發(fā)源隔著掩模對基板進(jìn)行蒸鍍，所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)在進(jìn)行蒸鍍時使所述蒸發(fā)源2相對于所述基板相對移動，所述基板移動機(jī)構(gòu)在進(jìn)行蒸鍍時使所述基板相對于所述蒸發(fā)源相對移動，其特征在于，所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)或所述基板移動機(jī)構(gòu)構(gòu)成為：在對所述基板開始蒸鍍之前，利用所述蒸發(fā)源2進(jìn)行所述掩模的預(yù)先加熱。

另外，涉及一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，在用于使從所述蒸發(fā)源2蒸發(fā)出來的成膜材料的成膜速度穩(wěn)定的蒸鍍前的預(yù)熱中，利用從該蒸發(fā)源2發(fā)出的熱進(jìn)行所述掩模的預(yù)先加熱。

另外，涉及一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，該真空蒸鍍裝置構(gòu)成為，在所述蒸發(fā)源2上設(shè)有擋板7，在閉合該擋板7的狀態(tài)下使所述蒸發(fā)源與所述掩模的相對位置關(guān)系變化來進(jìn)行所述掩模的預(yù)先加熱。

另外，涉及一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)構(gòu)成為，使所述連續(xù)蒸鍍中的最初進(jìn)行蒸鍍的基板與掩模的位置對準(zhǔn)和所述掩模的預(yù)先加熱同時進(jìn)行。

另外，涉及一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，在所述蒸鍍室1中，在與所述蒸發(fā)源的移動方向垂直的方向上并排設(shè)置有多個用于對所述基板進(jìn)行蒸鍍的蒸鍍區(qū)域3、4，針對多個所述蒸鍍區(qū)域3、4，在所述蒸鍍區(qū)域外分別設(shè)有使所述蒸發(fā)源退避的退避區(qū)域，所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)構(gòu)成為，使所述蒸發(fā)源2在與所述蒸鍍區(qū)域3、4的并排設(shè)置方向相同的方向上移動而能夠從一個蒸鍍區(qū)域移動到另一個蒸鍍區(qū)域，所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)構(gòu)成為：在對分別配置于多個所述蒸鍍區(qū)域3、4中的掩模進(jìn)行預(yù)先加熱時，在對配置在一個蒸鍍區(qū)域中的掩模加熱后，使所述蒸發(fā)源2在不退避到所述退避區(qū)域中的情況下在所述蒸鍍區(qū)域3、4的并排設(shè)置方向上移動，從而移動至另一個蒸鍍區(qū)域。

本發(fā)明的第2形態(tài)涉及蒸鍍膜的制造方法，其特征在于，該蒸鍍膜的制造方法具有如下工序：將基板設(shè)置于蒸鍍室中的工序；對收納于蒸發(fā)源中的成膜材料加熱并使成膜速度穩(wěn)定的工序；以及隔著掩模使所述成膜材料的蒸氣附著在所述基板上的工序，在使所述成膜速度穩(wěn)定的工序的期間，使所述蒸發(fā)源與所述基板的相對位置關(guān)系變化，并利用所述蒸發(fā)源的熱來加熱所述掩模。

本發(fā)明的第3形態(tài)涉及有機(jī)電子器件的制造方法，所述有機(jī)電子器件具備多個元件，所述元件在基板上具備被一對電極夾著的有機(jī)層，其特征在于，所述有機(jī)電子器件的制造方法具有如下工序：將形成有多個電極的基板設(shè)置在蒸鍍室中的工序；使具備多個開口的掩模相對于所述基板位置對準(zhǔn)的工序；對收納在蒸發(fā)源中的成膜材料加熱并使成膜速度穩(wěn)定的工序；以及隔著所述掩模使所述成膜材料的蒸氣附著在所述基板上從而形成所述有機(jī)層的至少一部分的工序，在使所述成膜速度穩(wěn)定的工序的期 間，使所述蒸發(fā)源與所述基板的相對位置關(guān)系變化，利用所述蒸發(fā)源的熱來加熱所述掩模。

根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制掩模在蒸鍍中的熱變形，從而能夠高精度地以所希望的圖案成膜。

附圖說明

圖1是本實(shí)施例的概要說明立體圖。

圖2是本實(shí)施例的概要說明俯視圖。

圖3是本實(shí)施例的概要說明俯視圖。

圖4是本實(shí)施例的概要說明俯視圖。

圖5的(a)是使用本發(fā)明的真空蒸鍍裝置制作出的有機(jī)EL顯示裝置的立體圖，(b)是沿(a)中的A-B線的剖視圖。

標(biāo)號說明

1：蒸鍍室；

2：蒸發(fā)源；

3、4：蒸鍍區(qū)域；

7：擋板。

具體實(shí)施方式

根據(jù)附圖對本發(fā)明的真空蒸鍍裝置的實(shí)施方式具體地進(jìn)行說明。

本發(fā)明的實(shí)施方式的真空蒸鍍裝置是在蒸鍍室中具備下述部分的真空蒸鍍裝置：蒸發(fā)源(材料收納部)，其隔著掩模對基板進(jìn)行蒸鍍；和蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)，其在進(jìn)行蒸鍍時使所述蒸發(fā)源相對于所述基板相對移動。該蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)具有如下功能：使蒸發(fā)源與基板的相對位置關(guān)系變化，更具體來說，使蒸發(fā)源和基板在與基板的成膜面平行的面方向上的相對位置關(guān)系變化。并且，以下述方式構(gòu)成所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)：在維持所述蒸鍍室的真空狀態(tài)來對所述基板開始蒸鍍之前，使所述蒸發(fā)源相對于所述掩模相對移動，利用從該蒸發(fā)源發(fā)出的熱對所述掩模進(jìn)行預(yù)先加熱。在本實(shí)施方式中，通過蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)使蒸發(fā)源移動，由此使蒸發(fā)源與基板的相對位置關(guān)系變化，但也可以在蒸鍍室中設(shè)置基板移動機(jī)構(gòu)，通過使基板移動來改變蒸發(fā)源與基板的相對位置 關(guān)系，也可以使基板和蒸發(fā)源都移動來改變蒸發(fā)源與基板的相對位置關(guān)系。因此，在此所說的蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)和基板移動機(jī)構(gòu)也都能夠稱為蒸發(fā)源與基板的相對位置關(guān)系變化機(jī)構(gòu)。

在圖1、2中示出了本發(fā)明的真空蒸鍍裝置的一個實(shí)施例。圖1是以能夠看到真空蒸鍍裝置的內(nèi)部的方式將蒸鍍室1的壁拆除一部分后的立體圖，圖2是從蒸鍍室1的上表面?zhèn)扔^察的俯視圖。在蒸鍍室1中，在與成膜移動方向垂直的方向(蒸鍍區(qū)域移動方向)上并排設(shè)置有多個用于對基板進(jìn)行蒸鍍的蒸鍍區(qū)域3、4。并且，在所述蒸鍍區(qū)域3、4之外，針對所述蒸鍍區(qū)域3、4分別設(shè)置有用于使蒸發(fā)源2退避的退避區(qū)域。

并且，在各蒸鍍區(qū)域3、4中設(shè)置有分別保持掩模和基板的掩模座(省略圖示)。從分別與各蒸鍍區(qū)域3、4對應(yīng)的各搬出搬入口8、9分別搬入的基板在通過設(shè)于各蒸鍍區(qū)域3、4中的校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)分別與掩模位置對準(zhǔn)后，在與掩模重合地被固定的狀態(tài)下分別設(shè)置并保持于掩模座。

并且，蒸鍍區(qū)域是指使從蒸發(fā)源2蒸發(fā)的成膜材料附著于基板上的區(qū)域。

在本實(shí)施例中，為了使利用從所述蒸發(fā)源2釋放出的蒸氣形成的蒸鍍膜的成膜速度穩(wěn)定，以下述方式構(gòu)成蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)：在蒸鍍開始前的預(yù)熱中，利用從該蒸發(fā)源2發(fā)出的熱對所述掩模進(jìn)行預(yù)先加熱。具體來說，在蒸鍍開始前，將基板的長度方向和寬度方向中的任意方向作為成膜移動方向，使蒸發(fā)源2在蒸鍍區(qū)域3、4內(nèi)在該成膜移動方向上往復(fù)移動來進(jìn)行熱適應(yīng)運(yùn)轉(zhuǎn)。該移動不一定必須是往復(fù)運(yùn)動，也可以是圓運(yùn)動等。并且，如果與未進(jìn)行預(yù)熱的情況相比較成膜速度的變動得到抑制，則該預(yù)熱是用于使成膜速度穩(wěn)定的加熱。優(yōu)選的是，預(yù)熱使成膜速度的變動處于預(yù)先確定的規(guī)定的范圍內(nèi)。不過，關(guān)于是否處于規(guī)定的范圍內(nèi)，無需在每次成膜時都進(jìn)行驗(yàn)證，可以通過預(yù)備實(shí)驗(yàn)等決定預(yù)熱時間。

該預(yù)熱是為了以使收納于蒸發(fā)源2中的成膜材料的脫氣和成膜速度穩(wěn)定的方式使成膜材料的熔融狀態(tài)穩(wěn)定而進(jìn)行的，例如使蒸發(fā)源2升溫至與成膜時的加熱溫度相同的溫度并加熱幾分鐘的程度來進(jìn)行該預(yù)熱。并且，本實(shí)施例的蒸發(fā)源2如圖2所示那樣由3個線源構(gòu)成。

另外，可以在進(jìn)行蒸發(fā)源2的預(yù)熱的期間同時進(jìn)行最初要蒸鍍的基板與掩模的位置對準(zhǔn)。

即，優(yōu)選的是，利用基板與掩模的校準(zhǔn)和蒸發(fā)源2的預(yù)先加熱等蒸鍍準(zhǔn)備期間，來進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱。

為了進(jìn)一步縮短至成膜開始所需要的時間，優(yōu)選的是，設(shè)定蒸發(fā)源2的預(yù)熱溫度和蒸發(fā)源2的基于蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)的移動速度，以便在完成基板與掩模的校準(zhǔn)的時刻結(jié)束掩模的預(yù)先加熱。由此，能夠削減僅用于掩模的預(yù)先加熱的待機(jī)時間，從而利用蒸鍍準(zhǔn)備期間來進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱，從而能夠防止掩模在蒸鍍中由于從蒸發(fā)源2發(fā)出的熱而熱變形。另外，用于預(yù)先加熱的熱源是蒸發(fā)源2，無需準(zhǔn)備其它熱源，而且利用了蒸發(fā)源2在預(yù)熱時所發(fā)出的熱，因此，能夠高效地進(jìn)行預(yù)熱。

并且，在以往技術(shù)中，蒸發(fā)源的預(yù)熱是將蒸鍍源配置在退避區(qū)域(蒸鍍材料不會附著于基板上的區(qū)域)中來進(jìn)行的，因此，蒸發(fā)源的預(yù)熱無助于掩模的預(yù)熱。

優(yōu)選構(gòu)成為：如圖1那樣在所述蒸發(fā)源2上設(shè)置擋板7，使該擋板7在閉合的狀態(tài)下相對于所述掩模往復(fù)移動來進(jìn)行所述掩模的預(yù)先加熱。具體來說，擋板7以開閉滑動移動自如的方式設(shè)在蒸發(fā)源2的上方位置。并且，即使在設(shè)有擋板7的情況下，擋板7被蒸發(fā)源2加熱，掩模也被該加熱了的擋板7加熱。如本例所代表的那樣，下述結(jié)構(gòu)是本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式：在使蒸發(fā)源的擋板閉合的狀態(tài)下，一邊使蒸發(fā)源與基板的相對位置變化，一邊加熱蒸發(fā)源。通過像這樣構(gòu)成，能夠以蒸發(fā)源存在于基板正下方的狀態(tài)高效地預(yù)先加熱掩模，并且，還能夠防止在預(yù)先加熱階段在基板上附著有膜。并且，只要能夠遮蔽從蒸發(fā)源釋放出的蒸氣以免其附著于基板上即可，也不一定必須在蒸發(fā)源上設(shè)置擋板。

另外，在本實(shí)施例中，以如下方式構(gòu)成所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)：使所述蒸發(fā)源2在與所述蒸鍍區(qū)域3、4的并排設(shè)置方向相同的方向(蒸鍍區(qū)域移動方向)上移動，從而能夠從一個蒸鍍區(qū)域3移動至另一個蒸鍍區(qū)域4。

具體來說，在本實(shí)施例中，在蒸鍍室1的底面上設(shè)置有在蒸鍍區(qū)域移動方向上延伸的軌道10，并且還設(shè)置有能夠相對于該軌道10往復(fù)滑動移動的框狀的蒸鍍區(qū)域移動用滑動件6。并且，構(gòu)成為：在該蒸鍍區(qū)域移動用滑動件6的上表面設(shè)有在成膜移動方向上延伸的軌道11，并且還設(shè)置有能夠相對于該軌道11往復(fù)滑動移動的成膜移動用滑動件5，蒸發(fā)源2和擋板7設(shè)置在該成膜移動用滑動件5上。而且，在成膜移動用滑動件5的底面連結(jié)有用于使成膜移動用滑動件5移動的臂部件12。并且，驅(qū)動該臂部件12使成膜移動用滑動件5(蒸發(fā)源2)在成膜移動方向或者蒸鍍區(qū)域移動 方向上移動的控制裝置被設(shè)置在蒸鍍室1的外部，構(gòu)成了蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)。

因此，能夠使一個蒸發(fā)源2在一個蒸鍍區(qū)域3中沿成膜移動方向往復(fù)移動而進(jìn)行預(yù)先加熱或者成膜后，沿著蒸鍍區(qū)域移動方向移動并在另一個蒸鍍區(qū)域4中同樣地進(jìn)行預(yù)先加熱或者成膜。

另外，在本實(shí)施例中，以下述方式構(gòu)成所述蒸發(fā)源移動機(jī)構(gòu)：在對分別配置于所述多個蒸鍍區(qū)域3、4中的掩模預(yù)先加熱時，使所述蒸發(fā)源2在不退避到所述退避區(qū)域中的情況下在所述蒸鍍區(qū)域3、4的并排設(shè)置方向上移動，從一個蒸鍍區(qū)域3移動到另一個蒸鍍區(qū)域4。

在圖3中，以粗線表示在對基板開始蒸鍍后的蒸鍍源2的軌跡。在對設(shè)置在一個蒸鍍區(qū)域3中的基板成膜的情況下，使蒸發(fā)源2以從夾著蒸鍍區(qū)域3在軌道10延伸的方向上設(shè)置的2個退避區(qū)域中的一個退避區(qū)域穿過蒸鍍區(qū)域3到達(dá)另一個退避區(qū)域的方式，往復(fù)移動規(guī)定的次數(shù)。在對設(shè)置在蒸鍍區(qū)域3中的基板成膜后對設(shè)置于另一個蒸鍍區(qū)域4中的基板進(jìn)行成膜的情況下，位于蒸鍍區(qū)域3的外側(cè)的退避區(qū)域中的蒸發(fā)源2在蒸鍍區(qū)域移動方向上移動，直至到達(dá)蒸鍍區(qū)域4的外側(cè)的退避區(qū)域。然后，反復(fù)進(jìn)行下述動作：使蒸發(fā)源2以從夾著蒸鍍區(qū)域4在軌道10延伸的方向上設(shè)置的2個退避區(qū)域中的一個退避區(qū)域穿過蒸鍍區(qū)域4到達(dá)另一個退避區(qū)域的方式，往復(fù)移動規(guī)定的次數(shù)。這樣，能夠?qū)υO(shè)置在各蒸鍍區(qū)域3、4中的基板分別進(jìn)行成膜。

對此，在圖4中，以粗線表示在開始蒸鍍之前進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱時的蒸鍍源2的軌跡。在對設(shè)置在一個蒸鍍區(qū)域3中的掩模預(yù)先加熱的情況下，如圖4所示，使蒸發(fā)源2在蒸鍍區(qū)域3中沿著軌道11在成膜移動方向上往復(fù)移動規(guī)定的次數(shù)。然后，在對設(shè)置在另一個蒸鍍區(qū)域中的掩模預(yù)先加熱的情況下，使蒸鍍源2在不移動至蒸鍍區(qū)域3的外側(cè)的退避區(qū)域中的情況下從蒸鍍區(qū)域3的端部起在蒸鍍區(qū)域移動方向上移動，直至到達(dá)另一個蒸鍍區(qū)域4的對應(yīng)的端部。然后，重復(fù)進(jìn)行使蒸發(fā)源2在蒸鍍區(qū)域4中沿成膜移動方向往復(fù)規(guī)定的次數(shù)這樣的動作，來對設(shè)置在蒸鍍區(qū)域4中的掩模預(yù)先加熱。這樣，能夠?qū)ρ谀ｎA(yù)先加熱，直至設(shè)置在蒸鍍區(qū)域3、4中的掩模熱飽和。

在進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱時，與蒸鍍的情況不同，不使蒸發(fā)源2移動到退避區(qū)域，由此能夠更高效地進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱。

如以上所說明，在本實(shí)施例中，在進(jìn)行蒸鍍時，在開始蒸鍍之前分別對各蒸鍍區(qū)域的掩模預(yù)先加熱，在使其熱飽和后，對依次配置在各蒸鍍區(qū)域3、4中的基板連續(xù) 地進(jìn)行蒸鍍。通過這樣進(jìn)行成膜，蒸鍍中的掩模的熱變形得到抑制，在蒸鍍中形成于基板上的薄膜的圖案不容易變化，從而能夠穩(wěn)定地實(shí)現(xiàn)高精度的成膜。

由于蒸鍍室1的內(nèi)部保持真空狀態(tài)，因此，在開始蒸鍍之前對各掩模預(yù)先加熱后，能夠維持掩模的熱飽和的狀態(tài)。因此，即使連續(xù)地對多個基板進(jìn)行蒸鍍，也能夠穩(wěn)定地實(shí)現(xiàn)高精度的成膜。

并且，本發(fā)明并不限于本實(shí)施例等，各結(jié)構(gòu)要素的具體結(jié)構(gòu)都能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)計。

接下來，對下述實(shí)施例進(jìn)行說明：使用本發(fā)明的真空蒸鍍裝置，制造出有機(jī)EL顯示裝置作為有機(jī)電子器件的例子。

首先，針對要制造的有機(jī)EL顯示裝置進(jìn)行說明。圖5的(a)是有機(jī)EL顯示裝置40的整體圖，圖5的(b)表示1個像素的截面結(jié)構(gòu)。

如圖5的(a)所示，在顯示裝置40的顯示區(qū)域41中，呈矩陣狀配置有多個像素42，所述像素42具備多個發(fā)光元件。雖然詳細(xì)情況在后面敘述，但發(fā)光元件分別具有如下結(jié)構(gòu)：該結(jié)構(gòu)具備被一對電極夾著的有機(jī)層。并且，在此所說的像素是指在顯示區(qū)域41中能夠顯示所希望的顏色的最小單位。在本實(shí)施例的顯示裝置的情況下，由顯示互不相同的發(fā)光的第1發(fā)光元件42R、第2發(fā)光元件42G、第3發(fā)光元件42B的組合構(gòu)成了像素42。像素42多由紅色發(fā)光元件、綠色發(fā)光元件和藍(lán)色發(fā)光元件的組合構(gòu)成，但也可以是黃色發(fā)光元件、青色發(fā)光元件和白色發(fā)光元件的組合，只要是至少一種顏色以上，就不特別限制。

圖5的(b)是圖5的(a)中的A-B線處的局部截面示意圖。像素42具有有機(jī)EL元件，該有機(jī)EL元件在基板43上具備第1電極(陽極)44、正孔輸送層45、發(fā)光層46R、46G、46B中的任意、電子輸送層47以及第2電極(陰極)48。其中，正孔輸送層45、發(fā)光層46R、46G、46B、電子輸送層47相當(dāng)于有機(jī)層。另外，在本實(shí)施方式中，發(fā)光層46R是發(fā)出紅色的有機(jī)EL層，發(fā)光層46G是發(fā)出綠色的有機(jī)EL層，發(fā)光層46B是發(fā)出藍(lán)色的有機(jī)EL層。發(fā)光層46R、46G、46B分別形成為與發(fā)出紅色、綠色、藍(lán)色的發(fā)光元件(有時記述為有機(jī)EL元件)對應(yīng)的圖案。另外，第1電極44針對每個發(fā)光元件分離地形成。正孔輸送層45、電子輸送層47、第2電極48可以與多個發(fā)光元件42共同形成，也可以針對每個發(fā)光元件分別形成。并且，為了防止第1電極44和第2電極48由于異物而短路，在第1電極44之間設(shè)有絕緣層49。而且，由于有機(jī)EL層會因?yàn)樗趾脱醵踊虼嗽O(shè)置有用于保護(hù)有機(jī)EL元 件免受水分和氧影響的保護(hù)層50。

為了在發(fā)光元件單位中形成有機(jī)EL層，采用了隔著掩模成膜的方法。近年，顯示裝置的高精細(xì)化不斷推進(jìn)，在有機(jī)EL層的形成中使用了開口的寬度為數(shù)十μm的掩模。在使用了這樣的掩模進(jìn)行成膜的情況下，如果掩模在成膜中從蒸發(fā)源受熱而熱變形，則掩模與基板的位置錯位，從而導(dǎo)致形成在基板上的薄膜的圖案從所希望的位置偏移而形成。因此，對于這些有機(jī)EL層的成膜，適合采用本發(fā)明的真空蒸鍍裝置。

接下來，對有機(jī)EL顯示裝置的制造方法的例子具體地進(jìn)行說明。

首先，準(zhǔn)備基板43，在該基板43上形成有用于驅(qū)動有機(jī)EL顯示裝置的電路(未圖示)和第1電極44。

在形成有第1電極44的基板43上通過旋涂法形成丙烯酸樹脂，并以在形成有第1電極44的部分處形成開口的方式通過光刻法使丙烯酸樹脂形成圖案，從而形成絕緣層49。該開口部相當(dāng)于發(fā)光元件實(shí)際發(fā)光的發(fā)光區(qū)域。

將形成有絕緣層49的基板43搬入真空蒸鍍裝置，使正孔輸送層45作為共用的層成膜在顯示區(qū)域的第1電極44上。通過真空蒸鍍形成了正孔輸送層45。實(shí)際上，由于正孔輸送層45形成為比顯示區(qū)域41大的尺寸，因此不需要高精細(xì)的掩模。

接下來，使用蒸鍍掩模，在要配置用于發(fā)出紅色的元件的部分處，形成發(fā)出紅色的發(fā)光層46R。首先，將形成至正孔輸送層45的基板43搬入圖1的真空蒸鍍裝置的蒸鍍區(qū)域3，進(jìn)行與掩模的位置對準(zhǔn)(校準(zhǔn))，該掩模具有與待形成第1發(fā)光元件42R的區(qū)域?qū)?yīng)的開口。

在所使用的掩模不是熱飽和的狀態(tài)的情況下，存在如下?lián)鷳n：掩模在成膜中從蒸發(fā)源受熱而發(fā)生熱變形，從而使掩模與基板的位置發(fā)生偏移，發(fā)光層46R無法形成在所希望的位置。因此，希望在對基板43開始蒸鍍之前，利用蒸鍍源2的熱進(jìn)行預(yù)先加熱，直至掩模熱飽和。對于掩模是否實(shí)現(xiàn)了熱飽和，可以確認(rèn)掩模的溫度是否穩(wěn)定，具體來說，可以確認(rèn)受到蒸鍍源2的熱而上升的掩模的溫度的時間變動是否處于規(guī)定的范圍內(nèi)。規(guī)定的范圍可以根據(jù)成膜所要求的精度來決定。

另一方面，在蒸鍍源2中收納有作為發(fā)光層46R的材料的有機(jī)EL材料，作為用于使有機(jī)材料蒸發(fā)并附著于基板上的準(zhǔn)備，進(jìn)行預(yù)熱。預(yù)熱是指：為了使收納于蒸發(fā)源2中的成膜材料的熔融狀態(tài)穩(wěn)定，以與成膜時的加熱溫度相同的溫度對蒸發(fā)源2加熱幾分鐘。關(guān)于成膜材料的熔融狀態(tài)是否穩(wěn)定，可以對使用未圖示的膜厚監(jiān)視器所 得到的成膜速度(蒸鍍速率)的時間變化進(jìn)行觀察來判斷。當(dāng)成膜材料的熔融狀態(tài)穩(wěn)定時，從蒸發(fā)源2釋放出的成膜材料的蒸氣的量穩(wěn)定，因此，成膜速度的變動處于規(guī)定的范圍內(nèi)。

在本例中，利用在蒸發(fā)源2的預(yù)熱中發(fā)出的熱和預(yù)熱所需要的時間進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱。具體來說，在閉合擋板7而使蒸氣不附著于基板的狀態(tài)下，使蒸鍍源2在蒸鍍區(qū)域內(nèi)往復(fù)運(yùn)動來加熱掩模。如果掩模的溫度在至預(yù)熱完成為止的期間內(nèi)穩(wěn)定，則在蒸鍍源2的預(yù)熱完成的同時成為能夠成膜的狀態(tài)。為了在蒸鍍源2的預(yù)熱完成的同時開始成膜，如果在進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱的期間內(nèi)預(yù)先進(jìn)行基板與掩模的位置對準(zhǔn)，則效率更高。并且，在即使預(yù)熱完成但掩模的溫度仍然不穩(wěn)定的情況下，繼續(xù)通過蒸鍍源2加熱掩模，直至掩模的溫度穩(wěn)定為止。

在確認(rèn)到掩模實(shí)現(xiàn)了熱穩(wěn)定且基板與掩模的校準(zhǔn)完成這一情況后，使蒸鍍源2移動至夾著蒸鍍區(qū)域3在軌道10延伸的方向上設(shè)置的2個退避區(qū)域中的一個退避區(qū)域內(nèi)。然后，打開擋板7，使蒸鍍源2開始朝向另一個退避區(qū)域移動，由此開始蒸鍍，使蒸鍍源2在2個退避區(qū)域之間往復(fù)移動，形成發(fā)光層46R。

這樣，根據(jù)本例，在發(fā)光層46R的成膜中，掩模沒有變形，因此，能夠以規(guī)定的圖案在基板上形成發(fā)光層46R。而且，不僅無需另行設(shè)置加熱設(shè)備，而且也無需僅為了掩模的預(yù)先加熱而花費(fèi)時間。即，能夠一邊進(jìn)行蒸發(fā)源2的預(yù)熱，一邊利用在預(yù)熱中產(chǎn)生的熱或用于預(yù)熱的等待時間，非常高效地進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱。

接著，與發(fā)光層46R的成膜相同地使用掩模形成發(fā)出綠色的發(fā)光層46G，該掩模具有與待形成第2發(fā)光元件42G的區(qū)域?qū)?yīng)的開口。接下來，使用具有與待形成第3發(fā)光元件42B的區(qū)域?qū)?yīng)的開口的掩模，形成發(fā)出藍(lán)色的發(fā)光層46B。在分別形成發(fā)光層46G、46B時，與在形成發(fā)光層46R之前所進(jìn)行的相同，使蒸鍍源2相對于掩模相對移動，在確認(rèn)到掩模熱飽和后開始成膜。

在發(fā)光層46R、46G、46B各自的成膜中使用了一次的掩模在真空的蒸鍍室中待機(jī)，直至下一個基板被設(shè)置。因此，掩模的熱被真空保持，因此掩模的熱飽和狀態(tài)得到維持。因此，能夠省略對下一個基板開始成膜之前的掩模的預(yù)先加熱。如果在對掩模和基板進(jìn)行校準(zhǔn)而使它們接觸時掩模的熱向基板逃逸而導(dǎo)致掩模的溫度下降的情況下、或者在要變更蒸鍍膜的成膜速率的情況下，可以在對新設(shè)置的基板開始蒸鍍之前同樣地利用來自蒸鍍源2的熱對掩模進(jìn)行預(yù)先加熱。

在完成了發(fā)光層46G、46B的成膜后，在整個顯示區(qū)域41上形成電子輸送層47。電子輸送層47形成為對第1至第3發(fā)光層共用的層。

將形成至電子輸送層47的基板移動至濺鍍裝置，形成第2電極48，然后移動至等離子CVD裝置形成保護(hù)層50，完成有機(jī)EL顯示裝置40。

如果形成有絕緣層49的圖案的基板43在搬入真空蒸鍍裝置并完成保護(hù)層50的成膜之前暴露在包含水分或氧的氣氛中，則由有機(jī)EL材料構(gòu)成的發(fā)光層由于水分或氧而劣化。因此，在本例中，基板在成膜裝置間的搬入搬出在真空氣氛或惰性氣體氣氛下進(jìn)行。

在上述例子中，在發(fā)光層的成膜時進(jìn)行了掩模的預(yù)先加熱，但是，在形成其它層時也可以進(jìn)行掩模的預(yù)先加熱。

這樣得到的有機(jī)EL顯示裝置對于每個發(fā)光元件都能夠高精度地形成發(fā)光層。因此，如果采用上述制造方法，則能夠抑制由發(fā)光層的位置偏移所引起的有機(jī)EL顯示裝置的不良情況的發(fā)生。

并且，在此，對有機(jī)EL顯示裝置的制造方法進(jìn)行了敘述，但不限于此，對于在蒸鍍時使用掩模形成有機(jī)層的圖案的所有有機(jī)電子器件的制造方法都能夠同樣地應(yīng)用本發(fā)明。另外，不限于有機(jī)膜，對于無機(jī)膜的形成，也能夠同樣地應(yīng)用本發(fā)明。