一種超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，采用真空氣相沉積工藝將薄膜材料涂覆在超導(dǎo)體薄片的表面上。本發(fā)明涂膜厚度小，超導(dǎo)體薄片的導(dǎo)熱系數(shù)高，涂膜工藝自動化程度高，可以減少手工作業(yè)，降低產(chǎn)品成本。
【專利說明】一種超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法
〔【技術(shù)領(lǐng)域】〕
[0001]本發(fā)明涉及模切技術(shù)，尤其涉及一種超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法。
〔【背景技術(shù)】〕
[0002]隨著電子行業(yè)的高速發(fā)展，很多電子產(chǎn)品，如手機(jī)，電腦，平板電視等領(lǐng)域的產(chǎn)品需要高端散熱功能，以保證產(chǎn)品高性能及輕、量、薄質(zhì)感化。例如，手機(jī)電池和筆記本電池就需要將超導(dǎo)體薄片粘貼到電池表面上，以達(dá)到絕緣和快速散熱的作用。
[0003]這種超導(dǎo)體薄片通常采用石墨或石墨烯材料的薄片，通過模切平面成型加工再復(fù)膜，復(fù)合膜的面積大于薄片面積，成絕緣包邊的超導(dǎo)體薄片產(chǎn)品，再由電子企業(yè)利用組裝治具將超導(dǎo)體薄片產(chǎn)品粘在發(fā)熱電子部件上。
[0004]傳統(tǒng)模切業(yè)超導(dǎo)體薄片的加工制作方法，是將超導(dǎo)體薄片表面用專用復(fù)合機(jī)復(fù)上一層薄膜，從而達(dá)到絕緣快速導(dǎo)熱作用。因?yàn)槌瑢?dǎo)體薄片需要快速導(dǎo)熱，所以對薄膜的厚度要求極高(越薄越好)，但傳統(tǒng)模切業(yè)超導(dǎo)體薄片的復(fù)膜工藝，薄膜最薄只能做到0.03皿，導(dǎo)熱系數(shù)只有10001/01過厚的薄膜嚴(yán)重影響發(fā)熱電子器件的散熱速度。
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【發(fā)明內(nèi)容】
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[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種涂膜厚度小、超導(dǎo)體薄片導(dǎo)熱系數(shù)高的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法。
[0006]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是，一種超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，采用真空氣相沉積工藝將薄膜材料涂覆在超導(dǎo)體薄片的表面上。
[0007]以上所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，所述的超導(dǎo)體薄片材料是石墨或石墨烯，所述的薄膜材料是二甲苯。
[0008]以上所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，將待涂膜的超導(dǎo)體薄片切懸掛孔，用金屬線穿過超導(dǎo)體薄片的懸掛孔，將超導(dǎo)體薄片懸掛在氣相沉積反應(yīng)爐中，薄膜材料經(jīng)升華、裂解、氣化后進(jìn)入氣相沉積反應(yīng)爐中，沉積到超導(dǎo)體薄片的表面上。
[0009]以上所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，所述的薄膜材料是聚對二甲苯，升華步驟的溫度是120 1-140 I，壓力是1.331^-1.51% ；裂解步驟的溫度是650 1 -750 I，壓力是1.331^8-1.51% ；氣化步驟的溫度是1201 -140^0,壓力是
1.3311)8-1.51% ；沉積涂層的步驟的溫度是251 -281，真空度是
[0010]以上所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，涂膜過程中，氣相沉積反應(yīng)爐保持在振動狀態(tài)。
[0011]本發(fā)明的方法涂膜厚度小，超導(dǎo)體薄片的導(dǎo)熱系數(shù)高，涂膜自動化程度高，可以減少手工作業(yè)，降低產(chǎn)品成本。
〔【專利附圖】

【附圖說明】〕
[0012]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0013]圖1是本發(fā)明實(shí)施例薄膜材料在氣相沉積反應(yīng)爐中沉積到超導(dǎo)體薄片上的示意圖。
[【具體實(shí)施方式】]
[0014]本發(fā)明導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，采用真空氣相沉積工藝將薄膜材料涂覆在超導(dǎo)體薄片的表面上。本發(fā)明可以根據(jù)客戶的需要選擇分子結(jié)構(gòu)、薄膜材質(zhì)、薄膜性能以及薄膜硬度，從而完成對電子元器件保護(hù)及特殊功能要求。
[0015]本發(fā)明的超導(dǎo)體薄片材料可以是石墨或石墨烯，薄膜材料是二甲苯。
[0016]通過模切平面成型加工的超導(dǎo)體薄片2切出懸掛孔，用金屬線3穿過超導(dǎo)體薄片的懸掛孔，將超導(dǎo)體薄片成串懸掛在氣相沉積反應(yīng)爐1中，薄膜材料經(jīng)升華、裂解、氣化后通過進(jìn)料口 101進(jìn)入氣相沉積反應(yīng)爐中，沉積到超導(dǎo)體薄片2的表面上。
[0017]本實(shí)施例的薄膜材料是聚對二甲苯(Parylene),通過真空氣相沉積設(shè)備的離子器把聚對二甲苯升華、裂解^50°C /1.33Mpa)、氣化，升華步驟的溫度是120°C，壓力是1.33Mpa ;裂解步驟的溫度是650°C，壓力是1.33Mpa ;氣化步驟的溫度是120°C，壓力是1.33Mpa ；
[0018]氣化后通過進(jìn)料口 101進(jìn)入氣相沉積反應(yīng)爐中，沉積到超導(dǎo)體薄片2的表面上。沉積涂層步驟的溫度是25°C，真空度是lOPa-lOla。
[0019]涂膜過程中，氣相沉積反應(yīng)爐保持在振動或晃動狀態(tài)。以防止超導(dǎo)體薄片相互粘入口 ο
[0020]本發(fā)明以上實(shí)施例通過對超導(dǎo)體表面極薄(最薄可以達(dá)到0.001mm以內(nèi))的涂膜，達(dá)到超導(dǎo)體薄片的導(dǎo)熱系數(shù)達(dá)到2000W/mk以上，而且涂膜自動化程度高，可以減少手工作業(yè)，降低成本。
【權(quán)利要求】
1.一種超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，其特征在于，采用真空氣相沉積工藝將薄膜材料涂覆在超導(dǎo)體薄片的表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，其特征在于，所述的超導(dǎo)體薄片材料是石墨或石墨烯，所述的薄膜材料是二甲苯。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，其特征在于，將待涂膜的超導(dǎo)體薄片切懸掛孔，用金屬線穿過超導(dǎo)體薄片的懸掛孔，將超導(dǎo)體薄片懸掛在氣相沉積反應(yīng)爐中，薄膜材料經(jīng)升華、裂解、氣化后進(jìn)入氣相沉積反應(yīng)爐中，沉積到超導(dǎo)體薄片的表面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，其特征在于，所述的薄膜材料是聚對二甲苯，升華步驟的溫度是120°C _140°C，壓力是1.33Mpa-l.5Mpa ;裂解步驟的溫度是650°C _750°C，壓力是1.33Mpa-l.5Mpa ;氣化步驟的溫度是120°C _140°C，壓力是1.33Mpa-l.5Mpa ;沉積涂層的步驟的溫度是25°C _28°C，真空度是lOPa-lOla。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超導(dǎo)體薄片復(fù)合絕緣散熱膜的方法，其特征在于，涂膜過程中，氣相沉積反應(yīng)爐保持在振動狀態(tài)。
【文檔編號】C23C16/44GK104404477SQ201410610409
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年11月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月3日
【發(fā)明者】許少華 申請人:曾芳勤