具有流量閥門的負(fù)載鎖定腔室及用于形成器件的裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供具有流量閥門的負(fù)載鎖定腔室以及應(yīng)用具有流量閥門的負(fù)載鎖定腔室的用于形成器件的裝置。所述負(fù)載鎖定腔室用于將傳遞腔室連接到工廠界面，或者用于連接兩個傳遞腔室。當(dāng)所述負(fù)載鎖定腔室在相鄰的傳遞腔室之間時，所述負(fù)載鎖定腔室具有在負(fù)載鎖定腔室內(nèi)的流量閥門，所述流量閥門密封所述負(fù)載鎖定腔室的內(nèi)表面。因此可以在常壓下達(dá)成負(fù)載鎖定，而無需破壞傳遞腔室中的真空，這是因為常壓將門壓抵在內(nèi)表面上。當(dāng)所述負(fù)載鎖定腔室在傳遞腔室和工廠界面之間時，一個流量閥門設(shè)置在負(fù)載鎖定腔室外部并且密封所述負(fù)載鎖定腔室的外表面。工廠界面?zhèn)鹊某簬椭鷮㈤T壓抵在所述外表面上。
【專利說明】具有流量閥門的負(fù)載鎖定腔室及用于形成器件的裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本文公開的實施方式一般地涉及一種流量閥門，所述流量閥門用于密封負(fù)載鎖定腔室中的開口。
[0002]【背景技術(shù)】
[0003]半導(dǎo)體加工中的基板產(chǎn)量一直是具有挑戰(zhàn)性的難題。隨著技術(shù)的進(jìn)步，半導(dǎo)體基板必須不斷地進(jìn)行高效處理。多腔集成設(shè)備已經(jīng)發(fā)展成一種用于同時處理多個基板而無需破壞真空的有效手段。代替處理單個基板和隨后在將所述基板傳遞入另一腔室期間使所述基板暴露于空氣，可將多個工藝腔室連接到一共同的傳遞腔室，因此當(dāng)在一個工藝腔室中完成基板處理時，可以仍然在真空條件下將所述基板移入耦合到同一傳遞腔室的另一工藝腔室中。
[0004]此外，與多個工藝腔室耦合的多個傳遞腔室中的每一者可以與負(fù)載鎖定腔室連接，以進(jìn)一步地提高效率。另外，負(fù)載鎖定腔室可用于將常壓下的工廠界面連接到真空的傳遞腔室。
[0005]因此，存在對能夠在各傳遞腔室之間和在傳遞腔室和工廠界面之間進(jìn)行界面連接的負(fù)載鎖定腔室的需求。
[0006]實用新型內(nèi)容
[0007]本實用新型一般地提供具有流量閥門的負(fù)載鎖定腔室。所述負(fù)載鎖定腔室用于將傳遞腔室連接到工廠界面，或者用于連接兩個傳遞腔室。當(dāng)所述負(fù)載鎖定腔室在相鄰的傳遞腔室之間時，所述負(fù)載鎖定腔室在負(fù)載鎖定腔室內(nèi)具有流量閥門，所述流量閥門密封所述負(fù)載鎖定腔室的內(nèi)表面。因此可以在常壓下達(dá)成負(fù)載鎖定，而無需破壞傳遞腔室中的真空，這是因為常壓將門壓抵在內(nèi)表面上。當(dāng)所述負(fù)載鎖定腔室在傳遞腔室與工廠界面之間時，一個流量閥門設(shè)置在負(fù)載鎖定腔室外部并且密封所述負(fù)載鎖定腔室的外表面。工廠界面?zhèn)鹊某簬椭鷮㈤T壓抵在所述外表面上。
[0008]在一個實施方式中，公開了 一種用于形成器件的裝置。所述裝置包括第一負(fù)載鎖定腔室，所述第一負(fù)載鎖定腔室包括具有第一側(cè)面和第二側(cè)面的腔室主體，所述第一側(cè)面適用于耦合到工廠界面，所述第二側(cè)面適用于耦合到第一傳遞腔室。第一流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)部的第一側(cè)面處且位于基板傳遞平面下方，并且第二流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)部的第二側(cè)面處且位于所述基板傳遞平面下方。所述第一傳遞腔室耦合到所述第一負(fù)載鎖定腔室，并且多個工藝腔室耦合到所述第一傳遞腔室。
[0009]在另一實施方式中，公開了一種負(fù)載鎖定腔室。所述負(fù)載鎖定腔室包括具有第一側(cè)面和第二側(cè)面的腔室主體，所述第一側(cè)面適用于耦合到工廠界面，所述第二側(cè)面適用于耦合到傳遞腔室。第一流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)部的第一側(cè)面處且位于基板傳遞平面下方，并且第二流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)部的第二側(cè)面處且位于所述基板傳遞平面下方。第一致動器耦合到所述第一流量閥門，其中所述第一致動器朝所述腔室主體外側(cè)打開所述第一流量閥門。第二致動器耦合到所述第二流量閥門，其中所述第二致動器朝所述腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第二流量閥門。[0010]在另一實施方式中，公開了一種負(fù)載鎖定腔室。所述負(fù)載鎖定腔室包括具有第一側(cè)面和第二側(cè)面的腔室主體，所述第一側(cè)面適用于耦合到第一傳遞腔室，所述第二側(cè)面適用于耦合到第二傳遞腔室。第一流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)部的第一側(cè)面處并且位于基板傳遞平面下方，并且第二流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)部的第二側(cè)面處并且位于所述基板傳遞平面下方。第一致動器耦合到所述第一流量閥門，其中所述第一致動器朝所述腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第一流量閥門。第二致動器耦合到所述第二流量閥門，其中所述第二致動器朝所述腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第二流量閥門。
[0011]在另一實施方式中，公開了一種用于處理裝置中基板的方法。所述方法包括下列步驟:通過設(shè)置在所述第一負(fù)載鎖定腔室內(nèi)部的第一流量閥門將基板從工廠界面裝載到第一負(fù)載鎖定腔室，其中所述第一流量閥門朝所述第一負(fù)載鎖定腔室的外側(cè)打開；通過設(shè)置在所述第一負(fù)載鎖定腔室內(nèi)部的第二流量閥門將基板從所述第一負(fù)載鎖定腔室傳遞到第一傳遞腔室，其中所述第二流量閥門朝所述第一負(fù)載鎖定腔室的內(nèi)側(cè)打開；將基板從所述第一傳遞腔室傳遞到耦合到所述第一傳遞腔室的工藝腔室；在所述工藝腔室中處理基板；在處理之后將基板傳遞到所述第一傳遞腔室；通過設(shè)置在第二負(fù)載鎖定腔室內(nèi)部的第三流量閥門將基板從所述第一傳遞腔室傳遞到所述第二負(fù)載鎖定腔室，其中所述第三流量閥門朝所述第二負(fù)載鎖定腔室的內(nèi)側(cè)打開；以及通過設(shè)置在所述第二負(fù)載鎖定腔室內(nèi)部的第四流量閥門將基板從所述第二負(fù)載鎖定腔室傳遞到第二傳遞腔室，其中所述第四流量閥門朝所述第二負(fù)載鎖定腔室的內(nèi)側(cè)打開。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]因此，可詳細(xì)理解本實用新型的上述特征結(jié)構(gòu)的方式，即上文簡要概述的本實用新型的更具體描述可參照實施方式進(jìn)行，一些實施方式圖示于附圖中。然而，應(yīng)注意，附圖僅圖示本實用新型的典型實施方式，且因此不應(yīng)被視為其范圍的限制，因為本實用新型可允許其他同等有效的實施方式。
[0013]圖1是根據(jù)一個實施方式的多腔集成設(shè)備的示意性俯視圖。
[0014]圖2是可以在圖1的所述多腔集成設(shè)備中使用的PECVD腔室的示意性橫截面圖。
[0015]圖3是如本文所描述的根據(jù)本實用新型的一個實施方式的負(fù)載鎖定腔室的示意性橫截面圖。
[0016]圖4是如本文所描述的根據(jù)本實用新型的一個實施方式的負(fù)載鎖定腔室的示意性橫截面圖。
[0017]為了促進(jìn)理解，在可能的情況下已使用相同元件符號以指示為諸圖所共有的相同元件。應(yīng)理解在一個實施方式中公開的元件也可以在其他實施方式中使用，此處不再進(jìn)行特定詳述。
【具體實施方式】
[0018]本實用新型一般地提供具有流量閥門的負(fù)載鎖定腔室。所述負(fù)載鎖定腔室用于將傳遞腔室連接到工廠界面，或者用于連接兩個傳遞腔室。當(dāng)所述負(fù)載鎖定腔室在相鄰的傳遞腔室之間時，所述負(fù)載鎖定腔室具有在負(fù)載鎖定腔室內(nèi)的流量閥門，所述流量閥門密封所述負(fù)載鎖定腔室的內(nèi)表面。因此可以在常壓下達(dá)成負(fù)載鎖定，而無需破壞傳遞腔室中的真空，這是因為常壓將門壓抵在內(nèi)表面上。當(dāng)所述負(fù)載鎖定腔室在傳遞腔室和工廠界面之間時，一個流量閥門設(shè)置在負(fù)載鎖定腔室外部并且密封所述負(fù)載鎖定腔室的外表面。工廠界面?zhèn)鹊某簬椭鷮㈤T壓抵在所述外表面上。
[0019]如下說明性地描述的，本實用新型可在處理系統(tǒng)中使用，諸如可以從加利福尼亞州圣克拉拉市美國應(yīng)用材料公司的全資子公司AKT購得的那些處理系統(tǒng)。然而應(yīng)該理解的是，本實用新型還可以用于其他系統(tǒng)配置，包括由其他制造商販賣的那些系統(tǒng)配置。
[0020]圖1是多腔集成設(shè)備100的示意性俯視圖。所述多腔集成設(shè)備100包括第一群集，所述第一群集具有被一個或多個工藝腔室104環(huán)繞的第一傳遞腔室103。第一負(fù)載鎖定腔室101耦合到第一傳遞腔室103。另外，所述第一負(fù)載鎖定腔室101耦合到工廠界面102。還存在第二群集，所述第二群集包括第二傳遞腔室106，所述第二傳遞腔室106具有耦合到第二傳遞腔室106的一個或多個工藝腔室107。所述第二傳遞腔室106通過第二負(fù)載鎖定腔室105耦合到所述第一傳遞腔室103。
[0021]提供所述第一負(fù)載鎖定腔室101以在通常為高真空的第一傳遞腔室103和通常為常壓的工廠界面102之間傳遞基板。大多數(shù)情況下，所述基板是晶片或者玻璃基板。第一傳遞腔室103配備有定位在第一傳遞腔室103中的真空傳遞機(jī)械手，所述真空傳遞機(jī)械手用于在第一負(fù)載鎖定腔室101和工藝腔室104/第二負(fù)載鎖定腔室105之間傳遞基板，所述第一負(fù)載鎖定腔室101和所述工藝腔室104/第二負(fù)載鎖定腔室105定位在第一傳遞腔室103的外圍。
[0022]提供第二負(fù)載鎖定腔室105以用于在第一傳遞腔室103和第二傳遞腔室106之間傳遞基板，所述第二負(fù)載鎖定腔室106通常也是高真空的。第二傳遞腔室106具有定位在第二傳遞腔室106中的真空傳遞機(jī)械手，所述真空傳遞機(jī)械手用于在第二負(fù)載鎖定腔室105和工藝腔室107之間傳遞基板，所述第二負(fù)載鎖定腔室105和所述工藝腔室107定位在第二傳遞腔室106的外圍。
[0023]圖2是可以用作工藝腔室104、107之一的PECVD裝置的示意性橫截面圖。所述裝置包括工藝腔室104、107，在所述工藝腔室104、107中將一或多個薄膜沉積在基板220上。所述工藝腔室104、107 一般地包括壁202、底部204和噴頭206，所述壁202、底部204和噴頭206共同限定工藝空間。基板支座218設(shè)置在所述工藝空間內(nèi)。通過流量閥開口 208進(jìn)入所述工藝空間，因此可以將基板220傳遞進(jìn)出所述工藝腔室104、107。所述基板支座218可以耦合到致動器216，以升舉和降低基板支座218。升降桿222通過基板支座218可移動地設(shè)置，以使基板移動出入基板接收表面?；逯ё?18還可以包括加熱和/或冷卻元件224，以將所述基板支座218維持在所需的溫度?；逯ё?18還可以包括RF回程搭接片226，以在基板支座218的外圍提供RF回路。
[0024]憑借緊固機(jī)構(gòu)250使噴頭206耦合到背板212?？梢詰{借一個或多個緊固機(jī)構(gòu)250使噴頭206耦合到背板212，以幫助防止下垂和/或控制噴頭206的直度/弧度。
[0025]使氣源232耦合到背板212，以通過噴頭206中的氣體通道將氣體提供到噴頭206和基板220之間的處理區(qū)域。真空泵210耦合到工藝腔室104、107，以將工藝空間控制在所需壓力。通過匹配網(wǎng)路290使射頻(RF)源228耦合到背板212和/或噴頭206，以向噴頭206提供射頻電流。所述射頻電流在噴頭206和基板支座218之間產(chǎn)生電場，以便從位于噴頭206和基板支座218之間的氣體產(chǎn)生等離子體。[0026]遠(yuǎn)程等離子體源230 (諸如感應(yīng)耦合的遠(yuǎn)程等離子體源230)也可以耦合在氣源232和背板212之間。在各基板處理之間，可以提供清洗氣體給遠(yuǎn)程等離子體源230，以產(chǎn)生遠(yuǎn)程等離子體?？梢詫碜运鲞h(yuǎn)程等離子體的基團(tuán)提供給工藝腔室104、107，以便清洗工藝腔室104、107中的各部件?？梢赃M(jìn)一步地用RF源228激發(fā)清洗氣體并提供到噴頭206。
[0027]另外，噴頭206可以憑借噴頭懸置件234耦合到背板212。在一個實施方式中，噴頭懸置件234是柔性的金屬裙座。噴頭懸置件234可具有一凸緣236,噴頭206可以擱置在所述凸緣236上。背板212可以被擱置在與所述壁202耦合的突出部214的上表面上，以密封所述工藝腔室104、107。
[0028]圖3是根據(jù)本實用新型的一個實施方式的負(fù)載鎖定腔室101的示意性橫截面圖。負(fù)載鎖定腔室101 —般地包括腔室主體301，所述腔室主體301包括垂直地堆疊的、環(huán)境上相隔離的多個空腔，所述空腔由真空密閉的水平內(nèi)壁302分隔。雖然在圖3所繪示的實施方式中圖示了兩個單獨的空腔303、304，但是應(yīng)了解負(fù)載鎖定腔室101的腔室主體301可以包括兩個或更多個垂直地堆疊的空腔。舉例而言，所述負(fù)載鎖定腔室101可以包括N個空腔，所述N個空腔由(N-1)個水平內(nèi)壁302分隔，其中N是大于I的整數(shù)。
[0029]限定在腔室主體301中的所述空腔303、304中的每一個包括兩個基板進(jìn)入孔。所述孔配置用于促進(jìn)基板出入負(fù)載鎖定腔室101。在圖3所描述的實施方式中，設(shè)置在腔室主體301頂上的第一空腔303包括第一基板進(jìn)入孔305和第二基板進(jìn)入孔306。第一基板進(jìn)入孔305是當(dāng)基板在負(fù)載鎖定腔室101和工廠界面102之間移動時穿過的進(jìn)入孔。第二基板進(jìn)入孔306是當(dāng)基板在負(fù)載鎖定腔室101和傳遞腔室103之間移動時穿過的進(jìn)入孔。基板進(jìn)入孔305、306設(shè)置在腔室主體301的相對兩側(cè)上。
[0030]基板進(jìn)入孔305、306中的每一個選擇性地由相應(yīng)的流量閥門309、310密封，流量閥門309、310適用于選擇性地將第一空腔303與傳遞腔室103和工廠界面102的環(huán)境隔離。流量閥門309、310通過圍繞軸311、312樞轉(zhuǎn)而在打開位置和閉合位置之間移動。所述流量閥門由相應(yīng)的致動器350、356致動。流量閥門309、310中的每一個沿著第一邊緣樞轉(zhuǎn)地耦合到腔室主體301，并且憑借致動器350、356在所述打開位置和閉合位置之間旋轉(zhuǎn)。
[0031]第一流量閥門309是在第一負(fù)載鎖定腔室101和工廠界面102之間的門，所述第一流量閥門309從腔室主體301的外部側(cè)密封第一基板進(jìn)入孔305。第一流量閥門309耦合到第一負(fù)載鎖定腔室101，如圖3所示。致動器356通過繞軸311朝空腔303的外表面旋轉(zhuǎn)第一流量閥門309來打開第一流量閥門309。當(dāng)?shù)谝涣髁块y門309打開時，空腔303處于常壓，正如工廠界面102 —樣。然而，一旦第一流量閥門309關(guān)閉，空腔303被排空以使空腔達(dá)到與第一傳遞腔室103大體上相當(dāng)?shù)母哒婵斩?，從而第二流量閥門310可以打開。空腔303中的真空度將會拉伸第一流量閥門309抵靠密封表面。另外，工廠界面102的常壓將會推擠第一流量閥門309抵靠所述密封表面。因此，第一流量閥門309將會有效地密封。若第一流量閥門309是反向的而使密封件抵靠著空腔303的內(nèi)表面，則工廠界面102的常壓連同空腔303中的真空度將會拉伸/推擠門離開密封表面并因此導(dǎo)致泄漏和低真空度的密封。
[0032]第二流量閥門310與第一流量閥門309相反地操作。特別地，第二流量閥門310定位在腔室主體301內(nèi)。致動器350通過繞軸312朝空腔303的內(nèi)表面旋轉(zhuǎn)第二流量閥門310來打開第二流量閥門310。當(dāng)?shù)诙髁块y門310打開時，空腔303處于高真空壓力，正如第一傳遞腔室103 —樣。然而，一旦第二流量閥門310關(guān)閉，就可使空腔303連通到空氣，以使得空腔303與工廠界面102的真空度大體上相當(dāng)，從而第一流量閥門309可以打開。第一傳遞腔室103中的真空度將會拉伸第二流量閥門310壓抵內(nèi)部密封表面。另外，一旦空腔303連通到空氣，空腔303的常壓將會推擠第二流量閥門310抵靠所述密封表面。因此，第二流量閥門310將會有效地密封。若第一流量閥門309是反向的使密封件抵靠著空腔303的外表面，則空腔303的常壓連同第一傳遞腔室103中的真空度將會拉伸/推擠門離開密封表面并因此導(dǎo)致泄漏和低真空度的密封。第二空腔304類似地配置有進(jìn)入孔307、308，致動器352、354和流量閥門313、314。
[0033]圖4是根據(jù)本實用新型的一個實施方式的第二負(fù)載鎖定腔室105的示意性橫截面圖。負(fù)載鎖定腔室一般地包括腔室主體401，所述腔室主體401包括垂直地堆疊的、環(huán)境上相隔離的多個空腔403、404，所述空腔由真空密閉的水平內(nèi)壁402分隔。雖然在圖4所繪示的實施方式中圖示了兩個單獨的空腔403、404，但是應(yīng)了解所述第二負(fù)載鎖定腔室105的腔室主體401可以包括兩個或更多個垂直地堆疊的空腔。舉例而言，所述第二負(fù)載鎖定腔室105可以包括N個空腔，所述N個空腔由(N-1)個水平內(nèi)壁402分隔，其中N是大于I的整數(shù)。
[0034]限定在腔室主體401中的空腔403、404分別包括兩個基板進(jìn)入孔405、406、407、408。所述孔405、406、407、408配置用于促進(jìn)基板進(jìn)出第二負(fù)載鎖定腔室105。在圖4所描述的實施方式中，設(shè)置在腔室主體401頂上的第一空腔403包括第一基板進(jìn)入孔405和第二基板進(jìn)入孔406。第一基板進(jìn)入孔405是當(dāng)基板在第二負(fù)載鎖定腔室105和傳遞腔室103之間移動時穿過的進(jìn)入孔。第二基板進(jìn)入孔406是當(dāng)基板在第二負(fù)載鎖定腔室105和第二傳遞腔室106之間移動時穿過的進(jìn)入孔。所述基板進(jìn)入孔405、406設(shè)置在腔室主體401的相對兩側(cè)。
[0035]基板進(jìn)入孔405、406中之每一者選擇性地由相應(yīng)的流量閥門409、410密封，流量閥門409、410適用于選擇性地將第一空腔403與第一傳遞腔室103和第二傳遞腔室106的環(huán)境隔離。流量閥門409、410通過圍繞軸411、412樞轉(zhuǎn)而在打開位置和閉合位置之間移動。所述流量閥門由相應(yīng)的致動器450、456致動。流量閥門409、410中的每一個沿著第一邊緣樞轉(zhuǎn)地耦合到腔室主體401，并且憑借致動器450、456在所述打開位置和閉合位置之間旋轉(zhuǎn)。
[0036]第一流量閥門409定位在所述腔室主體401內(nèi)。致動器456通過使第一流量閥門409繞軸411朝空腔403的內(nèi)表面旋轉(zhuǎn)來打開第一流量閥門409。當(dāng)?shù)谝涣髁块y門409打開時，空腔403處于高真空壓力，正如第一傳遞腔室103 —樣。然而，一旦第一流量閥門409關(guān)閉，空腔403就可以連通到空氣，以便使第二負(fù)載鎖定腔室105可操作。在操作期間，空腔403內(nèi)的常壓連同第一傳遞腔室103的高真空度將會推擠/拉伸第一流量閥門409抵靠密封表面,從而確保良好的密封。在處理期間，第一傳遞腔室103和第二傳遞腔室106內(nèi)的真空度將會與第二負(fù)載鎖定腔室105的真空度大體上相當(dāng)，并且因此應(yīng)當(dāng)會呈現(xiàn)良好的密封。
[0037]第二流量閥門410以和第一流量閥門409 —樣的方式操作。特別地，第二流量閥門410定位在腔室主體401內(nèi)。致動器450通過繞軸412朝空腔403的內(nèi)表面旋轉(zhuǎn)第二流量閥門410來打開第二流量閥門410。當(dāng)?shù)诙髁块y門410打開時，空腔403處于高真空壓力，正如第二傳遞腔室106—樣。然而，一旦第二流量閥門410關(guān)閉，空腔403就可以連通到空氣，以便使第二負(fù)載鎖定腔室105可操作。在操作期間，空腔403內(nèi)的常壓連同第二傳遞腔室106的高真空度將會推擠/拉伸第二流量閥門410抵靠密封表面，從而確保良好的密封。在處理期間，第一傳遞腔室103和第二傳遞腔室106內(nèi)的真空度將會與第二負(fù)載鎖定腔室105的真空度大體上相當(dāng)，并且因此應(yīng)當(dāng)會呈現(xiàn)良好的密封。第二空腔404類似地配置有進(jìn)入孔407、408，致動器452、454和流量閥門413、414。
[0038]通過適當(dāng)?shù)孛芊庳?fù)載鎖定腔室，相鄰腔室的真空度可以輔助而非防礙良好的密封，從而幾乎不發(fā)生泄漏(若有)。
[0039]盡管上述內(nèi)容針對本實用新型的實施方式，但可在不脫離本實用新型的基本范圍的情況下設(shè)計本實用新型的其他和進(jìn)一步實施方式，且本實用新型的范圍是由以下權(quán)利要求書來確定。
【權(quán)利要求】
1.一種用于形成器件的裝置，其特征在于，包括: 第一傳遞腔室； 第一負(fù)載鎖定腔室，包括: 腔室主體，所述腔室主體封閉有空腔，且所述腔室主體具有第一末端和第二末端，所述第一末端適合于耦合到工廠界面，所述第二末端適合于耦合到第一傳遞腔室； 第一流量閥門，所述第一流量閥門用于密封所述第一末端，且所述第一流量閥門可移動以從所述空腔的外側(cè)密封第一末端；和 第二流量閥門，所述第二流量閥門用于密封所述第二末端，且所述第二流量閥門可移動以從所述空腔的內(nèi)側(cè)密封第二末端；以及 多個工藝腔室，所述多個工藝腔室耦合到所述第一傳遞腔室。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括: 第二傳遞腔室； 第二負(fù)載鎖定腔室，所述第二負(fù)載鎖定腔室耦合到所述第一傳遞腔室，所述第二負(fù)載鎖定腔室包括: 第二腔室主體，所述第二腔室主體具有第三末端和第四末端，所述第三末端適合于耦合到所述第一傳遞腔室，所述第四末端適合于耦合到第二傳遞腔室； 第三流量閥門，所述第三流量閥門用于密封所述第三末端，且所述第三流量閥門可移動以從所述第二腔室主體的·內(nèi)側(cè)密封所述第三末端；和 第四流量閥門，所述第四流量閥門用于密封所述第四末端，且所述第四流量閥門可移動以從所述第二腔室主體的內(nèi)側(cè)密封所述第四末端；以及 多個工藝腔室，所述多個工藝腔室耦合到所述第二傳遞腔室。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第一負(fù)載鎖定腔室進(jìn)一步包括: 第一致動器，所述第一致動器耦合到所述第一流量閥門，其中所述第一致動器朝所述腔室主體外側(cè)打開所述第一流量閥門；和 第二致動器，所述第二致動器耦合到所述第二流量閥門，其中所述第二致動器朝所述空腔內(nèi)側(cè)打開所述第二流量閥門。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述第二負(fù)載鎖定腔室進(jìn)一步包括: 第三致動器，所述第三致動器耦合到所述第三流量閥門，其中所述第三致動器朝所述第二腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第三流量閥門；和 第四致動器，所述第四致動器稱合到所述第四流量閥門，其中所述第四致動器朝所述第二腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第四流量閥門。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述第一流量閥門設(shè)置在所述空腔外側(cè)并且位于基板傳遞平面下方。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述第二流量閥門設(shè)置在所述空腔內(nèi)側(cè)并且位于基板傳遞平面下方。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述第三流量閥門設(shè)置在腔室主體內(nèi)側(cè)并且位于基板傳遞平面下方。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述第四流量閥門設(shè)置在腔室主體內(nèi)側(cè)并且位于基板傳遞平面下方。
9.一種負(fù)載鎖定腔室,其特征在于,包括: 腔室主體，所述腔室主體具有第一側(cè)面和第二側(cè)面，所述第一側(cè)面適用于耦合到工廠界面，所述第二側(cè)面適用于耦合到傳遞腔室； 第一流量閥門，所述第一流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)的所述第一側(cè)面處并且位于基板傳遞平面下方； 第二流量閥門，所述第二流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)的所述第二側(cè)面處并且位于基板傳遞平面下方； 第一致動器，所述第一致動器耦合到所述第一流量閥門，其中所述第一致動器朝所述腔室主體外側(cè)打開所述第一流量閥門；和 第二致動器，所述第二致動器耦合到所述第二流量閥門，其中所述第二致動器朝所述腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第二流量閥門。
10.一種負(fù)載鎖定腔室，其特征在于，包括: 腔室主體，所述腔室主體具有第一側(cè)面和第二側(cè)面，所述第一側(cè)面適用于耦合到第一傳遞腔室，所述第二側(cè)面適用于耦合到第二傳遞腔室； 第一流量閥門，所述第一流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)的所述第一側(cè)面處并且位于基板傳遞平面下方； 第二流量閥門，所述第二流量閥門設(shè)置在所述腔室主體內(nèi)的所述第二側(cè)面處并且位于基板傳遞平面下方； 第一致動器，所述第一致·動器耦合到所述第一流量閥門，其中所述第一致動器朝所述腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第一流量閥門；和 第二致動器，所述第二致動器耦合到所述第二流量閥門，其中所述第二致動器朝所述腔室主體內(nèi)側(cè)打開所述第二流量閥門。
【文檔編號】C23C16/54GK203639553SQ201320555332
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年9月6日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月7日
【發(fā)明者】栗田真一 申請人:應(yīng)用材料公司