研磨設(shè)備中具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置制造方法【專利摘要】本發(fā)明涉及一種研磨設(shè)備中具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置，從上而下依次設(shè)置有相應(yīng)連接的緩沖臺、基座、臺板及平臺；所述基座與所述臺板的周邊對應(yīng)設(shè)置有多對用來連接兩者的第二連接孔；其中，所述基座表面上還設(shè)置有至少一個阻止液體從基座的邊緣流入所述第二連接孔的第二阻流環(huán)，以阻止液體通過所述第二連接孔流動到基座下方的臺板及軸承處，保證了軸承的正常工作不受影響。本發(fā)明由于具有第二阻流環(huán)，不再需要在基座的第二連接孔內(nèi)設(shè)置特制的墊圈或?qū)ζ溥M行定期更換，簡化了維護操作，節(jié)省了成本。【專利說明】研磨設(shè)備中具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域的研磨設(shè)備，特別涉及一種具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]配合參見圖1、圖2所示，在EBARA公司設(shè)計的一種對晶圓表面進行化學(xué)機械研磨的設(shè)備中，從上而下依次設(shè)置有緩沖臺10(buffertable)、基座20、臺板30及平臺40。從下方送來的研磨液或去離子水，經(jīng)由所述緩沖臺10中間位置均勻分布的大量通孔，向放置在該緩沖臺10上的晶圓輸送進行相應(yīng)處理。[0003]所述基座20的中心設(shè)有導(dǎo)流孔，與輸送研磨液和去離子水的管道50連通；在所述基座20的表面安裝有一個第一阻流環(huán)21，該第一阻流環(huán)21圍成的區(qū)域與其上方緩沖臺10的中間位置相對應(yīng)，用來限制上述液體在基座20表面流動的范圍。[0004]所述緩沖臺10及基座20的周邊相應(yīng)地設(shè)置有多對第一連接孔61(圖示為6對)，用來將兩者固定連接。所述基座20及其下方臺板30的周邊，還相應(yīng)地設(shè)置有多對第二連接孔62(圖示為6對)，用來將兩者固定連接。[0005]所述臺板30的中心開設(shè)了第一安裝孔31，用來組裝下方平臺40中心的支撐軸41等裝置；輸送研磨液和去離子水的管道50穿設(shè)在該支撐軸41中。所述臺板30的周邊還開設(shè)有多個第二安裝孔32，在組裝時供平臺40中的多個軸承42對應(yīng)穿過(圖示為3個軸承42及第二安裝孔32)。[0006]其中，所述的第一阻流環(huán)21是一個0型環(huán)，組裝后其在豎直方向?qū)⑽挥谒鼍彌_臺10和基座20之間，以有效阻止基座21中間流出的液體流動到該第一阻流環(huán)21外。然而，現(xiàn)有設(shè)備的上述結(jié)構(gòu)中，往往會在基座20下方的臺板30上發(fā)現(xiàn)研磨液中的雜質(zhì)殘留。研究發(fā)現(xiàn)，如果液體是從外部濺到基座20上第一阻流環(huán)21外側(cè)的位置時，將很容易流動到基座20的第二連接孔62，從而通過基座20與臺板30上對應(yīng)的第二連接孔62流至臺板30表面，及進一步通過臺板30上的第二安裝孔32流到下方的軸承42處，而影響軸承42的正常工作。[0007]為了解決上述問題，現(xiàn)有設(shè)備中往往通過在基座20的第二連接孔62內(nèi)安裝特制的墊圈，來阻止液體從外部流入。但是，在每季度的設(shè)備維護時，一般都需要對這些特制墊圈進行更換，才能保證其阻流的效果。采購這些特制墊圈將增加設(shè)備使用及維護的成本。【
發(fā)明內(nèi)容】[0008]本發(fā)明的目的是提供一種研磨設(shè)備中具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置，通過在基座上設(shè)置第二阻流環(huán)，有效防止研磨液和去離子水從外部流入到第二連接孔，從而提升對下方軸承的保護能力，降低設(shè)備使用及維護的成本。[0009]為了達到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是提供一種研磨設(shè)備中具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置，從上而下依次設(shè)置有相應(yīng)連接的緩沖臺、基座、臺板及平臺；所述平臺中有多個軸承穿過臺板布置；通過相應(yīng)管道輸送到基座中心導(dǎo)流孔處的液體，能夠在基座表面上由第一阻流環(huán)限定的范圍內(nèi)流動，進而向上通過緩沖臺中間位置的大量通孔，流動到緩沖臺的上方，對放置在緩沖臺上的晶圓表面進行相應(yīng)處理；所述基座與所述緩沖臺的周邊對應(yīng)設(shè)置有多對用來連接兩者的第一連接孔，所述基座與所述臺板的周邊對應(yīng)設(shè)置有多對用來連接兩者的第二連接孔；其中，所述基座表面上還設(shè)置有至少一個阻止液體從基座的邊緣流入所述第二連接孔的第二阻流環(huán)，以阻止液體通過所述第二連接孔流動到基座下方的臺板及軸承處。[0010]在所述的基座上，各個第二連接孔位于第一阻流環(huán)的外側(cè)，第二阻流環(huán)進一步設(shè)置在各個第二連接孔的外側(cè)，從而由所述第一阻流環(huán)來防止液體從基座的中心流入所述第二連接孔，而由所述第二阻流環(huán)來防止液體從基座的邊緣流入所述第二連接孔。[0011]優(yōu)選的所述基座上，各個第一連接孔位于所述第二阻流環(huán)的外側(cè)。[0012]優(yōu)選的所述基座上，設(shè)置有多個同圓心布置的第二阻流環(huán)。[0013]優(yōu)選的所述第二阻流環(huán)是0型環(huán)。[0014]所述基座上開設(shè)有匹配的凹槽來嵌入安裝所述的第二阻流環(huán)。[0015]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的一種研磨設(shè)備中具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置，其優(yōu)點在于:本發(fā)明中由于在基座上安裝了第二阻流環(huán)，能夠有效防止液體從基座外側(cè)流入用以連接基座與臺板的第二連接孔，以阻止液體流到臺板上或進而通過臺板周邊的第二安裝孔流到下方平臺的軸承處，保證了軸承的正常工作不受影響。由于具有第二阻流環(huán)，因此，不再需要在基座的第二連接孔內(nèi)設(shè)置特制的墊圈，即使原先設(shè)置了特制墊圈，在定期維護中也不需要頻繁更換，延長了其使用壽命，簡化了維護操作且節(jié)省了成本?！緦＠綀D】【附圖說明】[0016]圖1是現(xiàn)有緩沖臺裝置的組裝結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是現(xiàn)有緩沖臺裝置中基座的表面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明的緩沖臺裝置中基座表面具有第二阻流環(huán)的結(jié)構(gòu)示意圖?！揪唧w實施方式】[0017]以下結(jié)合【專利附圖】【附圖說明】本發(fā)明的【具體實施方式】。[0018]除了基座20之外，本發(fā)明所述緩沖臺裝置的其他部件與現(xiàn)有設(shè)備中的結(jié)構(gòu)類似，可以參見圖1及【
背景技術(shù)：
】中的描述，下文會做簡要描述。而如圖3所示，本發(fā)明中特別是在基座20上安裝有第二阻流環(huán)22，來防止液體從外部流入到第二連接孔62。[0019]S卩，緩沖臺10、基座20、臺板30及平臺40從上而下依次設(shè)置且對應(yīng)連接。研磨液或去離子水從平臺40下方，經(jīng)由穿過平臺40中心支撐軸41的管道50，輸送到基座20中心的導(dǎo)流孔處；上述液體能夠在基座20表面上由第一阻流環(huán)21限定的范圍內(nèi)流動，進而向上通過緩沖臺10中間位置的大量通孔，流動到緩沖臺10的上方，對放置在緩沖臺10上的晶圓表面進行相應(yīng)處理。所述臺板30的中心開設(shè)有第一安裝孔31，用來組裝下方平臺40中心的支撐軸41等裝置。[0020]所述緩沖臺10及基座20的周邊相應(yīng)地設(shè)置有多對第一連接孔61(圖示為6對)，用來將兩者固定連接。例如，緩沖臺10上的第一連接孔61是通孔，基座20上的第一連接孔61可以是通孔或沉孔；可以根據(jù)需要將緩沖臺10上或基座20上的第一連接孔61設(shè)為臺階狀，或在內(nèi)部設(shè)置螺紋等。[0021]所述基座20及臺板30的周邊，還相應(yīng)地設(shè)置有多對第二連接孔62(圖示為6對)，用來將兩者固定連接。例如，基座20上的第二連接孔62是通孔，臺板30上的第二連接孔62可以是通孔或沉孔；可以根據(jù)需要將基座20上或臺板30上的第二連接孔62設(shè)為臺階狀，或在內(nèi)部設(shè)置螺紋等。[0022]如圖3所示，所述的基座20上，各個第二連接孔62位于第一阻流環(huán)21的外側(cè)，而各個第一連接孔61進一步位于各個第二連接孔62的外側(cè)，即，相比較來說，第一連接孔61更靠近基座20的邊緣。而本發(fā)明所述的第二阻流環(huán)22，是位于第二連接孔62圍成的區(qū)域，與第一連接孔61圍成的區(qū)域之間。具體可以在所述基座20的相應(yīng)位置開設(shè)凹槽，來嵌入安裝該第二阻流環(huán)22。[0023]所述的第一阻流環(huán)21是一個0型環(huán)。本發(fā)明中優(yōu)選的第二阻流環(huán)22，是另一個0型環(huán)。基座20的第二連接孔62位于第一阻流環(huán)21外側(cè)與第二阻流環(huán)22內(nèi)側(cè)之間，因此，第一阻流環(huán)21能夠用來防止液體從基座20中心流動到第二連接孔62;同時，第二阻流環(huán)22能夠用來防止液體(例如是濺出的液體)從基座20的外緣流動到第二連接孔62。[0024]只要能夠滿足上述對其功能設(shè)置的要求，本發(fā)明中對所述第二阻流環(huán)22的形狀尺寸或材料等都沒有特別的限制。第一阻流環(huán)21的結(jié)構(gòu)實際是沒有特別的限制，但由于一般是設(shè)備廠商已經(jīng)制成的成品，因此本文中不做具體描述。[0025]例如，在不同的實施例中(圖中未示出)，第二阻流環(huán)22的截面形狀，或者第二阻流環(huán)22在基座20上圍成的區(qū)域形狀，可以是圓形、橢圓形、菱形、方形、三角形、(6邊或8邊等等的)多邊形，而基座20上所設(shè)凹槽的形狀與之相匹配。或者，在整個設(shè)備組裝后，第二阻流環(huán)22嵌入基座20后的高度，在豎直方向從所述基座20的頂面延伸到所述緩沖臺10的底面。又或者，在第一連接孔61與第二連接孔62各自圍成的區(qū)域之間，設(shè)置有不止一個第二阻流環(huán)22，例如是設(shè)置了兩個同圓心布置的第二阻流環(huán)22，等等。[0026]本發(fā)明中由于在基座20上安裝了第二阻流環(huán)22，能夠有效防止液體從基座20外側(cè)流入用以連接基座20與臺板30的第二連接孔62，以阻止液體流到臺板30上或進而通過臺板30周邊的第二安裝孔32流到下方平臺40的軸承42處，保證了軸承42的正常工作不受影響。由于具有第二阻流環(huán)22，因此，不再需要在基座20的第二連接孔62內(nèi)設(shè)置特制的墊圈，即使原先設(shè)置了特制墊圈，在定期維護中也不需要頻繁更換，延長了其使用壽命，簡化了維護操作且節(jié)省了成本。[0027]盡管本發(fā)明的內(nèi)容已經(jīng)通過上述優(yōu)選實施例作了詳細(xì)介紹，但應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到上述的描述不應(yīng)被認(rèn)為是對本發(fā)明的限制。在本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀了上述內(nèi)容后，對于本發(fā)明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)由所附的權(quán)利要求來限定。【權(quán)利要求】1.一種研磨設(shè)備中具有第二阻流環(huán)的緩沖臺裝置，從上而下依次設(shè)置有相應(yīng)連接的緩沖臺(10)、基座(20)、臺板(30)及平臺(40)，所述平臺(40)中有多個軸承(42)穿過臺板(30)布置；通過相應(yīng)管道(50)輸送到基座(20)中心導(dǎo)流孔處的液體，能夠在基座(20)表面上由第一阻流環(huán)(21)限定的范圍內(nèi)流動，進而向上通過緩沖臺(10)中間位置的大量通孔，流動到緩沖臺(10)的上方，對放置在緩沖臺(10)上的晶圓表面進行相應(yīng)處理；所述基座(20)與所述緩沖臺(10)的周邊對應(yīng)設(shè)置有多對用來連接兩者的第一連接孔(61)，所述基座(20)與所述臺板(30)的周邊對應(yīng)設(shè)置有多對用來連接兩者的第二連接孔(62);其特征在于，所述基座(20)表面上還設(shè)置有至少一個阻止液體從基座(20)的邊緣流入所述第二連接孔(62)的第二阻流環(huán)(22)，以阻止液體通過所述第二連接孔(62)流動到基座(20)下方的臺板(30)及軸承(42)處。2.如權(quán)利要求1所述的緩沖臺裝置，其特征在于，在所述的基座(20)上，各個第二連接孔(62)位于第一阻流環(huán)(21)的外側(cè)，第二阻流環(huán)(22)進一步設(shè)置在各個第二連接孔(62)的外側(cè)，從而由所述第一阻流環(huán)(21)來防止液體從基座(20)的中心流入所述第二連接孔(62)，而由所述第二阻流環(huán)(22)來防止液體從基座(20)的邊緣流入所述第二連接孔(62)。3.如權(quán)利要求2所述的緩沖臺裝置，其特征在于，所述的基座(20)上，各個第一連接孔(61)位于所述第二阻流環(huán)(22)的外側(cè)。4.如權(quán)利要求2所述的緩沖臺裝置，其特征在于，所述的基座(20)上，設(shè)置有多個同圓心布置的第二阻流環(huán)(22)。5.如權(quán)利要求2所述的緩沖臺裝置，其特征在于，所述第二阻流環(huán)(22)是O型環(huán)。6.如權(quán)利要求廣5中任意一項所述的緩沖臺裝置，其特征在于，所述基座(20)上開設(shè)有匹配的凹槽來嵌入安裝所述的第二阻流環(huán)(22)?！疚臋n編號】B24B37/34GK104249290SQ201310266341【公開日】2014年12月31日申請日期:2013年6月28日優(yōu)先權(quán)日:2013年6月28日【發(fā)明者】龔大偉申請人:上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司