專利名稱：一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及模具設(shè)計(jì)領(lǐng)域，具體涉及一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
[0002]鑲件在模具里專門指的是用于鑲嵌在模具中的不規(guī)則模具配件，起到固定模板和填充模板之間空間的作用。鑲件可以是方形、圓形、片型，和所有的模具配件一樣，對(duì)精密度的要求也非常高。鑲?cè)褪氰偧闹匾囊环N，同樣鑲?cè)Φ木芏鹊囊蠓浅８?。活塞是發(fā)動(dòng)機(jī)的關(guān)鍵部件，活塞在使用過程中，第一環(huán)槽磨損比較快，會(huì)造成竄氣、拉缸等現(xiàn)象，在活塞的頭部鑲鑄鑲?cè)善鸬教岣叩谝画h(huán)槽耐磨性的作用。[0003]在活塞鑲?cè)Φ纳a(chǎn)過程中，鑲?cè)Φ姆胖梦恢谩囟茸兓壬圆缓侠砭蜁?huì)引起廢品的產(chǎn)生，為了提高鑲?cè)ιa(chǎn)的合格率，目前的鑲?cè)ιa(chǎn)過程中在鑲?cè)Φ姆胖梦恢玫臏?zhǔn)確性已經(jīng)得到了實(shí)現(xiàn)，而目前鑲?cè)ιa(chǎn)過程中與支架是以直接接觸進(jìn)行的，由于鑲?cè)εc支架的接觸面較大，鑲?cè)Φ臒崃亢苋菀妆慌c之接觸的支架傳遞走，從而造成鑲?cè)植繙囟冉档退俾蔬^快，導(dǎo)致廢品率升高。因此一種能夠有效地解決鑲?cè)τ捎诰植繙囟冉档退俾蔬^快的技術(shù)方案對(duì)鑲?cè)Τ善泛细衤实奶岣咂鹬浅Ｖ匾淖饔谩?shí)用新型內(nèi)容[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，以解決鑲?cè)υ谏a(chǎn)過程中由于溫度變化過快引起的鑲?cè)Τ善泛细衤实偷膯栴}。[0005]本實(shí)用新型通過以下方案施行:一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，包括由兩個(gè)弧形部分拼接后組成的環(huán)形的支架主體，支架主體內(nèi)側(cè)的下部設(shè)有若干支撐臺(tái)，支撐臺(tái)上表面到支架主體頂部的距離與鑲?cè)ο嗯?，支架主體內(nèi)側(cè)面上設(shè)有若干個(gè)凸塊，支撐臺(tái)與支架主體固定連接，凸塊與支架主體固定連接。[0006]環(huán)形的支架主體由兩部分組成是為了在后期便于將支架結(jié)構(gòu)從鑲?cè)ι厦撾x下來。支架主體的支撐臺(tái)用來對(duì)鑲?cè)M(jìn)行支撐，支架主體內(nèi)側(cè)面上設(shè)有凸塊可以將鑲?cè)ν鈧?cè)壁與支架主體的內(nèi)側(cè)壁相隔開，避免了鑲?cè)εc支架主體的整個(gè)面的接觸，取而代之的是鑲?cè)εc支架主體上的凸塊進(jìn)行一個(gè)相對(duì)小的接觸面，由于空氣的熱傳遞較金屬慢，因而在一定程度上降低了鑲?cè)Φ臏囟冉档退俾?，從而避免了鑲?cè)囟冉档瓦^快導(dǎo)致形變?cè)斐纱纹?。[0007]作為優(yōu)選，所述凸塊的位置與支撐臺(tái)的位置對(duì)應(yīng)，凸塊的長度與支架主體的高度相配。凸塊的長度與支架主體的高度相配后，可以保證鑲?cè)ν鈧?cè)壁從下到上都和凸塊進(jìn)行接觸，從而使鑲?cè)υ阼側(cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)上更加穩(wěn)定。這在一定程度上發(fā)揮了凸塊對(duì)鑲?cè)Φ墓潭ㄗ饔?。[0008]作為優(yōu)選，所述凸塊的面為弧形面?；⌒蚊嬉环矫娼Y(jié)構(gòu)穩(wěn)定，并且通過弧形面的頂部與鑲?cè)M(jìn)行了接觸，減小了接觸面積，另一方面，由于弧形面使得鑲?cè)χЪ芘c鑲?cè)χg的接觸為光滑的面接觸， 從而在將鑲?cè)χЪ芘c鑲?cè)M(jìn)行脫離的過程中更加容易，防止鑲?cè)εc鑲?cè)χЪ莛だ危斐擅撾x困難。[0009]作為優(yōu)選，支撐臺(tái)的邊緣倒圓角。倒圓角防止劃傷鑲?cè)?，給鑲?cè)υ斐蓚?。[0010]由于采用上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)通過減小支架與鑲?cè)Φ慕佑|面積避免了鑲?cè)Φ臒崃窟^快傳遞導(dǎo)致鑲?cè)植繙囟冉档瓦^快的現(xiàn)象發(fā)生，從而解決了鑲?cè)ιa(chǎn)過程中由于溫度的影響導(dǎo)致產(chǎn)品合格率較低的問題，在一定程度上提高了鍵圈廣品的合格率。


[0011]圖1是本實(shí)用新型的一種俯視圖；[0012]圖2是圖1中A處的截面圖。[0013]圖中:I支架主體，2支撐臺(tái)，3凸塊。
具體實(shí)施方式
[0014]下面以具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說明。[0015]實(shí)施例:[0016]如圖1所示，一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，包括由兩個(gè)弧形部分拼接后組成的環(huán)形的支架主體I,支架主體I內(nèi)側(cè)的下部設(shè)有四個(gè)邊緣倒圓角的支撐臺(tái)2，支撐臺(tái)2上表面到支架主體I頂部的距離與鑲?cè)ο嗯?，支架主體I內(nèi)側(cè)面上設(shè)有四個(gè)凸塊3，凸塊3的位置與支撐臺(tái)2的位置對(duì)應(yīng)，如圖2所示，凸塊3的長度與支架主體I的高度相配，凸塊3的面為弧形面，支撐臺(tái)2與支架主體I為一體結(jié)構(gòu)，凸塊3與支架主體I為一體結(jié)構(gòu)。[0017]在使用時(shí)，首先將支架主體I放入到鑲?cè)δ＞咧校缓笾苽滂側(cè)?，成型后，鑲?cè)ξ挥谥Ъ苤黧wI的支撐臺(tái)2上，由于凸塊3的存在，使得鑲?cè)εc支架主體I內(nèi)側(cè)面只通過凸塊3對(duì)鑲?cè)M(jìn)行接觸固定，在鑲?cè)εc支架主體I之間形成一定間隔，避免了支架主體3與鑲?cè)θ拷獬龑?dǎo)致將鑲?cè)Φ臒崃靠焖賯鬟f造成鑲?cè)Φ木植繙囟冉档瓦^快引起鑲?cè)Υ纹返漠a(chǎn)生，從而提聞了鍵圈的成品合格率。
權(quán)利要求1.一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，其特征在于，包括由兩個(gè)弧形部分拼接后組成的環(huán)形的支架主體(I),支架主體(I)內(nèi)側(cè)的下部設(shè)有若干支撐臺(tái)(2)，支撐臺(tái)(2)上表面到支架主體(I)頂部的距離與鑲?cè)ο嗯洌Ъ苤黧w(I)內(nèi)側(cè)面上設(shè)有若干個(gè)凸塊(3)，支撐臺(tái)(2)與支架主體(I)固定連接，凸塊(3)與支架主體(I)固定連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸塊(3)的位置與支撐臺(tái)(2)的位置對(duì)應(yīng)，凸塊(3)的長度與支架主體(I)的高度相配。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凸塊(3)的面為弧形面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，其特征在于，所述支撐臺(tái)(2)的邊緣倒圓角。
專利摘要本實(shí)用新型涉及磨具設(shè)計(jì)領(lǐng)域，具體涉及一種新型活塞鑲?cè)χЪ芙Y(jié)構(gòu)，它包括環(huán)形的支架主體，支架主體內(nèi)側(cè)的下部設(shè)有若干支撐臺(tái)，支撐臺(tái)上表面到支架主體頂部的距離與活塞鑲?cè)ο嗯?，支架主體內(nèi)側(cè)面上設(shè)有若干凸塊，支撐臺(tái)上設(shè)有貫通支撐臺(tái)底部和頂部的圓孔，支撐臺(tái)與支架主體固定連接，凸塊與支架主體固定連接。本實(shí)用新型通過減小支架與鑲?cè)Φ慕佑|面積避免了活塞鑲?cè)Φ臒崃窟^快傳遞導(dǎo)致活塞鑲?cè)植繙囟冉档瓦^快的現(xiàn)象發(fā)生，從而解決了活塞鑲?cè)ιa(chǎn)過程中由于溫度的影響導(dǎo)致產(chǎn)品合格率較低的問題，在一定程度上提高了活塞鑲?cè)Ξa(chǎn)品的合格率。
文檔編號(hào)B22C21/12GK203003085SQ20122046570
公開日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2012年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月13日
發(fā)明者張應(yīng)飛, 金玉明, 李莉, 劉強(qiáng), 楊安志, 趙福全 申請(qǐng)人:浙江吉利汽車研究院有限公司杭州分公司, 浙江吉利汽車研究院有限公司, 浙江吉利控股集團(tuán)有限公司