專利名稱：一種使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體平面加工領(lǐng)域，特別是涉及一種使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體平面加工領(lǐng)域，由于使用的材料的性質(zhì)，以及現(xiàn)代線寬技術(shù)的不斷提升，為了達(dá)到更加光潔、平坦的表面，在拋光加工過程中往往采用化學(xué)腐蝕加機械加工的辦法，但是由于化學(xué)過程貫穿了整個加工過程，而拋光布(pad)本身又極其容易貯存堿性的拋光 液，導(dǎo)致即使停止化學(xué)腐蝕過程也無法令硅拋光片表面停止被腐蝕?，F(xiàn)有的加工方法是拋光液拋完后，使用大量的純水進(jìn)行水拋，以減輕拋光液帶來的影響；加工過程中，拋光布的處理有的采用刷盤、有的采用高壓水槍。這樣加工的缺點是顯而易見的I、水拋過程純屬機械加工過程，時間一旦延長，拋光片表面就會出現(xiàn)輕微的條狀或者其他形狀的缺陷；2、由于拋光布隨著使用次數(shù)的增加，貯存的拋光液的固體顆粒也會不斷增加，導(dǎo)致硅拋光片容易在本道生產(chǎn)拋光產(chǎn)生拉絲、劃傷等不良，降低良率。3、高壓水槍一定程度上能延長拋光布的壽命，但是最后也無法徹底去除拋光布里的拋光液顆粒和拋光片上的顆粒；4、由于拋光往往采用多段拋光，所以不干凈的表面也往往會影響下一道拋光的加工質(zhì)量、拋光布的壽命以及清洗的良率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)和方法，以解決硅拋光片由于拋光布上殘余的拋光液和顆粒帶來的拋光片表面的不良的問題。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是提供一種使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)，包括拋光頭和接引盤系統(tǒng)，所述拋光頭上的拋光盤的形狀和接引盤系統(tǒng)的接引盤的形狀相互匹配使接引盤能夠接引拋光盤，所述拋光頭上安裝有用于吸附拋光盤的真空吸頭；所述拋光盤下表面設(shè)置有噴淋系統(tǒng)；所述接引盤系統(tǒng)的接引盤上表面設(shè)有噴淋口和注水口 ；所述噴淋口通過設(shè)置在所述接引盤內(nèi)的管道與注水口相連。所述噴淋口設(shè)有角度調(diào)節(jié)裝置和出水量控制裝置。所述接引盤上表面的中心設(shè)有用于支撐拋光盤的支撐部，外圍設(shè)有接引擋環(huán)。所述接弓I盤下表面設(shè)有用于清洗拋光布的刷毛或噴頭。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是還提供一種使用拋光盤接引盤的拋光方法，包括以下步驟(I)根據(jù)拋光盤、硅拋光片和拋光設(shè)備的尺寸要求，選擇對應(yīng)的接引盤系統(tǒng)；(2)拋光結(jié)束后,帶著拋光盤的拋光頭微微升起旋轉(zhuǎn),啟動拋光盤下表面的噴淋系統(tǒng)，對旋轉(zhuǎn)的拋光盤上的娃拋光片進(jìn)行噴淋；(3)將接引盤系統(tǒng)導(dǎo)入，使接引盤系統(tǒng)到達(dá)拋光盤正下方后，開啟接引盤的噴淋。所述步驟(3)后還包括以下步驟下降拋光頭，拋光盤上的硅拋光片接觸接引盤的上表面的噴淋口的噴水位置，停止旋轉(zhuǎn)，放下拋光盤至接引盤上的支撐部位上，啟動接引盤下表面的刷毛或噴頭對拋光布進(jìn)行清洗，清洗完畢后，上升拋光頭，接引盤上的噴淋口繼續(xù)噴淋拋光盤上的硅拋光片，直到搬離為止。有益效果由于采用了上述的技術(shù)方案，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下的優(yōu)點和積極效果本發(fā)明的優(yōu)點是不僅僅使拋光盤上的硅拋光片盡快脫離拋光布帶來的腐蝕和劃傷，而且還能同時將拋光布快速清洗，能保證下一道拋光不受前道影響，提高各道拋光過程的拋光布的壽命，提升硅拋光片良率，降低拋光、 清洗成本30%以上。


圖I是接引盤在拋光機上放置定位的示意圖；圖2是接引盤剛放入到拋光盤下面的示意圖；圖3是拋光盤下降到接引盤上的示意圖；圖4是接引盤的俯視圖；圖5是接引盤的側(cè)視圖。
具體實施例方式下面結(jié)合具體實施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。應(yīng)理解，這些實施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本發(fā)明講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對本發(fā)明作各種改動或修改，這些等價形式同樣落于本申請所附權(quán)利要求書所限定的范圍。本發(fā)明提供了一種拋光盤接弓I技術(shù)及使用該接弓I盤技術(shù)和拋光機配合提高硅拋光片表面質(zhì)量和顆粒去除能力的新型拋光技術(shù)。該技術(shù)通過與拋光機本身配合，在硅拋光片停止拋光后，將其提起離開拋光布，置放于接引盤上，使硅拋光片保持在干凈、中性的純水環(huán)境中。該辦法既可以消除硅拋光片拋光后帶來的堿性物質(zhì)附在硅拋光片上而腐蝕硅拋光片表面的影響，也能清洗硅拋光片研磨后帶來的硅拋光片表面上的粘污和顆粒，隔絕將本道工序的顆粒粘污帶入下道工序，引起成品率下降。由于該方法同時附帶刷布的功能，因而還能減少拋光過程純水的消耗、拋光布壽命的提聞。使用該方法對拋光片表面的影響是顯而易見的，尤其是針對線寬要求很高的拋光片或者對表面質(zhì)量很敏感的器件的生產(chǎn)具有很高的使用價值。本發(fā)明涉及一種使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)，如圖I、圖2和圖3所示，包括拋光頭I和接引盤系統(tǒng)，所述拋光頭I上的拋光盤2的形狀和接引盤系統(tǒng)的接引盤3的形狀相互匹配使接引盤3能夠接引拋光盤2，所述拋光頭I上安裝有用于吸附拋光盤2的真空吸頭4 ;所述拋光盤2下表面設(shè)置有噴淋系統(tǒng)5 ;所述接引盤系統(tǒng)的接引盤3上表面設(shè)有噴淋口6和注水口 7 ;所述噴淋口 6通過設(shè)置在所述接引盤內(nèi)的管道與注水口 7相連。所述噴淋口6設(shè)有角度調(diào)節(jié)裝置和出水量控制裝置。所述接引盤3上表面的中心設(shè)有用于支撐拋光盤的支撐部8，外圍設(shè)有接引擋環(huán)9，如此可以使得接引盤能夠穩(wěn)定接住拋光盤。所述接引盤3下表面設(shè)有用于清洗拋光布的刷毛10或噴頭，噴頭可以采用帶高頻率超生、高壓噴頭。在本發(fā)明中帶真空吸頭的拋光頭能夠保證拋光結(jié)束后，拋光盤上的硅拋光片能及時脫離拋光布，同時又能把拋光盤快速放入接引盤上。其中，真空吸頭有足夠的真空吸附能力，而且還具有足夠的真空吸附的保障功能。拋光頭具有緩慢的自轉(zhuǎn)功能。
在本發(fā)明中接引盤系統(tǒng)如圖4和5所示接引盤系統(tǒng)的作用如下1)通過在接引盤上表面安裝噴淋口來保證拋光盤上的硅拋光片離開拋光布后時繼續(xù)保持足夠的濕潤狀態(tài)(噴淋狀態(tài))；2)能在拋光盤下降時形成足夠大力的水“面”，穩(wěn)穩(wěn)接住拋光盤，并使拋光盤上的硅拋光片一直處于水沖淋濕潤狀態(tài)，不再接觸拋光布；3)通過在接引盤下表面安裝噴頭或刷毛加快拋光布的異物去除能力；4)注水口可外接不同流量、壓力、屬性的液體，以更加快速地中和拋光布上的堿性物質(zhì)和快速去除硅拋光片上顆粒。本發(fā)明的工作方式如下先根據(jù)拋光盤2、硅拋光片11和拋光設(shè)備的尺寸要求，選擇對應(yīng)的接引盤系統(tǒng)，拋光結(jié)束后，緊接著帶著拋光盤2的拋光頭I微微升起旋轉(zhuǎn)，拋光盤2的噴淋系統(tǒng)5啟動，對旋轉(zhuǎn)的拋光盤2上的硅拋光片11進(jìn)行噴淋，隨后接引盤系統(tǒng)導(dǎo)入，到達(dá)預(yù)計位置后，開啟接引盤3上噴淋口 6的噴淋功能，刷布程序開啟，拋光頭I緩緩下降，拋光盤2接觸接引裝置的上噴淋口 12的噴水位置，停止旋轉(zhuǎn)，放下拋光盤2至接引盤系統(tǒng)的支撐部8上，等待刷布結(jié)束，拋光頭I上升，完成拋光盤2接引，接引盤3繼續(xù)噴淋拋光盤2上的硅拋光片11，直到拋光盤2全部搬離為止。不難發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明不僅使拋光盤上的硅拋光片盡快脫離拋光布帶來的腐蝕和劃傷，而且還能同時將拋光布快速清洗，節(jié)省水量，同時還能保證下一道拋光不受前道影響，提高各道拋光過程的拋光布的壽命，提升清洗的良率，降低成本。
權(quán)利要求
1.一種使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)，包括拋光頭(I)和接引盤系統(tǒng)，所述拋光頭(I)上的拋光盤(2)的形狀和接引盤系統(tǒng)的接引盤(3)的形狀相互匹配使接引盤(3)能夠接引拋光盤(2)，其特征在于，所述拋光頭(I)上安裝有用于吸附拋光盤(2)的真空吸頭(4);所述拋光盤(2)下表面設(shè)置有噴淋系統(tǒng)(5);所述接引盤系統(tǒng)的接引盤(3)上表面設(shè)有噴淋口(6)和注水口(7);所述噴淋口(6)通過設(shè)置在所述接引盤內(nèi)的管道與注水口(7)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述噴淋口(6)設(shè)有角度調(diào)節(jié)裝置和出水量控制裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述接引盤(3)上表面的中心設(shè)有用于支撐拋光盤的支撐部(8)，外圍設(shè)有接引擋環(huán)(9)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述接引盤(3)下表面設(shè)有用于清洗拋光布的刷毛(10)或噴頭。
5.一種使用如權(quán)利要求I所述的使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)的方法，其特征在于，包括以下步驟 (1)根據(jù)拋光盤、硅拋光片和拋光設(shè)備的尺寸要求，選擇對應(yīng)的接引盤系統(tǒng)； (2)拋光結(jié)束后，帶著拋光盤的拋光頭微微升起旋轉(zhuǎn)，啟動拋光盤下表面的噴淋系統(tǒng)，對旋轉(zhuǎn)的拋光盤上的娃拋光片進(jìn)行噴淋； (3)將接引盤系統(tǒng)導(dǎo)入，使接引盤系統(tǒng)到達(dá)拋光盤正下方后，開啟接引盤的噴淋。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述步驟(3)后還包括以下步驟下降拋光頭，拋光盤上的硅拋光片接觸接引盤的上表面的噴淋口的噴水位置，停止旋轉(zhuǎn)，放下拋光盤至接引盤上的支撐部位上，啟動接引盤下表面的刷毛或噴頭對拋光布進(jìn)行清洗，清洗完畢后，上升拋光頭，接引盤上的噴淋口繼續(xù)噴淋拋光盤上的硅拋光片，直到搬離為止。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種使用拋光盤接引盤的拋光系統(tǒng)和方法。該系統(tǒng)包括拋光頭和接引盤系統(tǒng)，拋光頭上安裝有用于吸附拋光盤的真空吸頭；拋光盤下表面設(shè)置有噴淋系統(tǒng)；接引盤系統(tǒng)的接引盤上表面設(shè)有噴淋口和注水口；噴淋口通過設(shè)置在接引盤內(nèi)的管道與注水口相連。方法包括以下步驟根據(jù)拋光盤、硅拋光片和拋光設(shè)備的尺寸要求，選擇對應(yīng)的接引盤系統(tǒng)；拋光結(jié)束后，帶著拋光盤的拋光頭微微升起旋轉(zhuǎn)，啟動拋光盤下表面的噴淋系統(tǒng)，對旋轉(zhuǎn)的拋光盤上的硅拋光片進(jìn)行噴淋；將接引盤系統(tǒng)導(dǎo)入，使接引盤系統(tǒng)到達(dá)拋光盤正下方后，開啟接引盤的噴淋。本發(fā)明可以解決硅拋光片由于拋光布上殘余的拋光液和顆粒帶來的拋光片表面的不良的問題。
文檔編號B24B37/34GK102615589SQ20121010635
公開日2012年8月1日 申請日期2012年4月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月12日
發(fā)明者劉建剛, 盧鋒, 厲惠宏, 周明飛, 張世波, 徐國科, 李自炳, 林曉華, 胡孟君 申請人:浙江金瑞泓科技股份有限公司