專利名稱：用于沉積制程的遮罩張緊機的遮罩框架組的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及沉積制程，尤其涉及用于沉積制程的遮罩張緊機的遮罩框架組。
背景技術(shù)：
主動矩陣有機發(fā)光二極體(Active-matrixorganic light-emitting diode,AM0LED)是一種已經(jīng)逐漸被廣泛應用的顯示技術(shù)，并持續(xù)朝低功耗、低成本、大 尺寸的方向發(fā)展。蒸鍍制程是AMOLED技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵所在，目前最被廣泛使用的方式是精細金屬遮罩(Fine Metal Mask，F(xiàn)MM)，但FMM在大尺寸時容易有彎曲下垂的問題，因此目前大多會以遮罩張緊機來張緊遮罩，以避免遮罩受自身重力而彎曲下垂。如圖I所示，圖I繪示了傳統(tǒng)的遮罩張緊機的遮罩框架組的前視圖。如圖I所不，框體11的上表面為遮罩12，且遮罩12的兩端分別夾持在夾具Gl、G2中。但是，采用這種傳統(tǒng)的方式張緊遮罩12，因為遮罩12本身具有一定的公差，因此往往會因為力量不均而使得遮罩12在顯示區(qū)產(chǎn)生起皺(wrinkling)的現(xiàn)象，以致在蒸鍍工序后有陰影效應。有鑒于此，如何設計一種遮罩張緊機的遮罩框架組，通過改進其框體結(jié)構(gòu)，使得框體與遮罩組裝后，遮罩不產(chǎn)生起皺，從而避免因遮罩產(chǎn)生皺起所導致的陰影效應，是業(yè)內(nèi)相關(guān)技術(shù)人員亟待解決的一技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提出了一種用于沉積制程的遮罩張緊機的遮罩框架組，包含框體，所述框體周邊具有凸出部；以及遮罩，組裝于所述框體之上，且所述框體的所述凸出部頂起所述遮罩。在本發(fā)明的一實施方式中，當所述遮罩組裝于所述框體上之后，通過滾輪平壓所述遮罩的表面以使所述遮罩平整。在本發(fā)明的一實施方式中，組裝所述遮罩至所述框體之上時，所述遮罩的兩端分別夾持在夾具中。 在本發(fā)明的一實施方式中，所述框體為膠框。在本發(fā)明的一實施方式中，所述凸出部的高度為2毫米。由上可知，本發(fā)明所提出的顯示裝置，由于框體的凸出部將遮罩頂起，并通過滾輪平壓遮罩的表面，則易使遮罩平整化，從而使遮罩不產(chǎn)生皺起，進而避免因遮罩產(chǎn)生皺起所導致的陰影效應。


讀者在參照附圖閱讀了本發(fā)明的具體實施方式
以后，將會更清楚地了解本發(fā)明的各個方面。其中，圖1繪示了傳統(tǒng)的遮罩張緊機的遮罩框架組的前視圖；以及圖2繪示了本發(fā)明一實施方式的用于沉積制程的遮罩張緊機的遮罩框架組的前視圖。圖3繪示了傳統(tǒng)遮罩框架組與圖2的遮罩框架組，在垂直于遮罩方向上的變形量。
具體實施例方式為了使本申請所揭示的技術(shù)內(nèi)容更加詳盡與完備，可參照附圖以及本發(fā)明的下述各種具體實施例，附圖中相同的標記代表相同或相似的組件。然而，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應當理解，下文中所提供的實施例并非用來限制本發(fā)明所涵蓋的范圍。此外，附圖僅僅用于示意性地加以說明，并未依照其原尺寸進行繪制。參照圖2，圖2繪示了本發(fā)明一實施方式的用于沉積制程的遮罩張緊機的遮罩框架組的前視圖。遮罩張緊機的遮罩框架組，包含框體21及遮罩22。其中，框體21，其周邊具有凸出部211，S卩，框體21的四周表面為凸出部211。遮罩22，組裝于框體21之上，且框體21的凸出部211頂起遮罩22。在本實施方式中，當遮罩22組裝于框體21上之后，通過滾輪Rl、R2平壓遮罩22的表面以使遮罩22平整。由于凸出部211將遮罩22頂起，并通過滾輪R1、R2平壓遮罩22的表面，則易使遮罩22平整化，從而使遮罩22不產(chǎn)生皺起，進而避免因遮罩22產(chǎn)生皺起所導致的陰影效應。在本實施方式中，組裝遮罩22至框體21之上時，遮罩22的兩端分別夾持在夾具G1、G2 中。在本實施方式中，框體21為膠框；凸出部211的高度h，較佳地，為2毫米，但不以此為限，也可以為其它高度值。需說明的是，圖2中僅僅繪示了遮罩張緊機中的框體21與遮罩22，但是，遮罩張緊機中還可以包含其它元件，為了描述簡要，在此不再贅述。由上可知，本發(fā)明所提出的遮罩張緊機，由于框體21的凸出部211將遮罩22頂起，并通過滾輪R1、R2平壓遮罩22的表面，則易使遮罩22平整化，從而使遮罩22不產(chǎn)生皺起，進而避免因遮罩22產(chǎn)生皺起所導致的陰影效應。以下將揭露本發(fā)明數(shù)個實施例，藉此說明上述實施方式的遮罩框架組，確實能夠提供所需要的性能。應了解到，在以下敘述中，已經(jīng)在上述實施方式中提到的參數(shù)將不再重復贅述，僅就需進一步界定者加以補充，合先敘明。圖3繪示了傳統(tǒng)遮罩框架組與圖2的遮罩框架組，在垂直于遮罩方向上的變形量。以下表一示出了兩者的變形量量測值。
Ial變形量量測值(微米)
傳統(tǒng)遮罩框架組13權(quán)利要求
1.一種用于沉積制程的遮罩張緊機的遮罩框架組，其特征在于，包含 框體，所述框體周邊具有凸出部；以及 遮罩，組裝于所述框體之上，且所述框體的所述凸出部頂起所述遮罩。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的遮罩框架組，其特征在于，當所述遮罩組裝于所述框體上之后，通過滾輪平壓所述遮罩的表面以使所述遮罩平整。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的遮罩框架組，其特征在于，組裝所述遮罩至所述框體之上時，所述遮罩的兩端分別夾持在夾具中。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的遮罩框架組，其特征在于，所述框體為膠框。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的遮罩框架組，其特征在于，所述凸出部的高度為2毫米。
全文摘要
本發(fā)明提出了一種用于沉積制程的遮罩張緊機的遮罩框架組，包含框體，框體周邊具有凸出部；以及遮罩，組裝于框體之上，且框體的凸出部頂起遮罩。本發(fā)明所提出的遮罩框架組，由于框體的凸出部將遮罩頂起，并通過滾輪平壓遮罩的表面，則易使遮罩平整化，從而使遮罩不產(chǎn)生皺起，進而避免因遮罩產(chǎn)生皺起所導致的陰影效應。
文檔編號C23C14/04GK102618821SQ20121010407
公開日2012年8月1日 申請日期2012年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月9日
發(fā)明者陳志彥, 黃世雄 申請人:友達光電股份有限公司