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一種lpcvd工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):3387992閱讀:311來源:國知局
專利名稱:一種lpcvd工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),具體地講是涉及一種降低玻璃破碎率的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng)。
背景技術(shù)
光伏應(yīng)用的未來市場(chǎng)發(fā)展,特別是用于與電網(wǎng)相連的光伏電廠的應(yīng)用,關(guān)鍵取決于降低太陽能電池生產(chǎn)成本的潛力。薄膜太陽能電池生產(chǎn)過程能耗低,具備大幅度降低原材料和制造成本的潛力;同時(shí),薄膜太陽能電池在弱光條件下仍可發(fā)電。因此,目前市場(chǎng)對(duì)薄膜太陽能電池的需求正逐漸增長,而制造薄膜太陽能電池的技術(shù)更成為近年來的研究熱點(diǎn)。ZnO是一種N型直接帶隙半導(dǎo)體材料,室溫下禁帶寬度Eg為3. 37eV。由于其原材 料豐富且無毒,具有高電導(dǎo)和高透過率,并且在H等離子體環(huán)境中性能穩(wěn)定,因此,在太陽能電池領(lǐng)域,ZnO作為透明導(dǎo)電氧化物薄膜可進(jìn)一步提高Si薄膜太陽能電池的效率和穩(wěn)定性,加快產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。作為陷光結(jié)構(gòu)的絨面ZnO薄膜前電極和背反射電極顯得尤為重要。ZnO的生長方法有很多,包括脈沖激光沉積、低壓金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積、射頻/中頻/直流濺射、電子束和熱反應(yīng)蒸發(fā)、等離子體化學(xué)氣相沉積、噴霧熱分解和溶膠-凝膠法等。近年來,以玻璃為基板材料的非晶硅薄膜太陽能電池憑借其成本低廉、工藝成熟、應(yīng)用范圍廣泛等優(yōu)勢(shì),逐漸從各種類型的薄膜太陽能電池中脫穎而出。其中較為成熟的是低壓化學(xué)氣相沉積工藝,該工藝要求低壓真空環(huán)境和一定的加熱反應(yīng)溫度,反應(yīng)溫度是薄膜生長的重中之重。在ZnO的工藝中,ZnO反應(yīng)的溫度為200°C,故玻璃基板在加熱腔已經(jīng)進(jìn)行預(yù)熱到200°C左右,在進(jìn)入工藝氣體反應(yīng)腔后,放置在加熱板上保持溫度,在整個(gè)工藝沉積的過程中,溫度一直維持在設(shè)定溫度不變,當(dāng)玻璃基板完成氣體沉積后被傳送系統(tǒng)傳輸?shù)嚼鋮s腔進(jìn)行冷卻。在現(xiàn)有技術(shù)中,冷卻腔的傳輸系統(tǒng)是由6組傳動(dòng)滾輪組成的,如圖I所示1為帶動(dòng)滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī),2為傳動(dòng)滾輪,這6組傳動(dòng)滾輪均勻排步在腔室內(nèi)部。由于玻璃基板材質(zhì)的特殊性,當(dāng)玻璃前端離開第一組滾輪在到達(dá)第二組滾輪之前,玻璃基板前端部分在重力的作用下發(fā)生形變下垂。同時(shí)玻璃基板后端在傳送過程中,在剛剛離開滾輪支撐時(shí)同樣會(huì)在重力的作用下發(fā)生形變下垂。眾所周知玻璃在由高溫向低溫轉(zhuǎn)變的過程中,玻璃內(nèi)部的應(yīng)力會(huì)有相應(yīng)變化,如溫度變化過于劇烈,會(huì)導(dǎo)致應(yīng)力變化而造成玻璃的破碎。故在生產(chǎn)制造時(shí)應(yīng)使玻璃冷卻的過程的時(shí)間加長,避免溫度變化的過于劇烈。同時(shí)玻璃本身的形變也會(huì)增加玻璃破損的概率,現(xiàn)有的技術(shù)中,玻璃在冷卻的過程中,溫度變化導(dǎo)致內(nèi)部應(yīng)力的變化還要疊加上玻璃自身的形變,這會(huì)導(dǎo)致玻璃基板在冷卻腔室冷卻的過程中破損幾率的增加。最關(guān)鍵的是由于滾輪傳輸裝置本身是水冷裝置,高溫玻璃在與滾輪裝置接觸時(shí)會(huì)導(dǎo)致玻璃基板邊沿局部溫度的劇烈變化,也會(huì)增加玻璃基板破碎的幾率
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006]本實(shí)用新型提供一種LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)的同時(shí),消除了玻璃基板自身的變形以及局部溫度變化過于劇烈等導(dǎo)致玻璃破損的因素,降低了玻璃傳輸過程中的破碎率,提高了生產(chǎn)的穩(wěn)定性,且易于維護(hù)。為解決上述技術(shù)問 題,本實(shí)用新型技術(shù)方案如下一種LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),包括傳動(dòng)滾輪等,傳動(dòng)滾輪只有一組,該系統(tǒng)還包括從動(dòng)滾輪和由傳動(dòng)滾輪驅(qū)動(dòng)的傳送皮帶,傳動(dòng)滾輪和從動(dòng)滾輪分別位于傳送皮帶傳送方向的兩端;傳送皮帶為兩邊各一條,各自架設(shè)于冷卻腔兩邊的傳動(dòng)滾輪和從動(dòng)滾輪上,保證傳送皮帶能夠勻速運(yùn)轉(zhuǎn),進(jìn)而帶動(dòng)玻璃勻速傳輸。所述傳送皮帶為耐至少200°C高溫的皮帶,可以確保玻璃邊沿與皮帶接觸不會(huì)導(dǎo)致皮帶壽命的降低。同時(shí)由于傳送皮帶本身是熱的不良導(dǎo)體,不會(huì)引起玻璃邊沿局部溫度的劇烈變化。所述傳送皮帶上還設(shè)有使傳送皮帶繃緊的裝置,優(yōu)選為向下頂緊傳動(dòng)皮帶下方一邊的滾軸,可以設(shè)于傳送皮帶的中間部位,這樣將皮帶下方一邊拉緊后,可以保證皮帶上方一邊保持緊繃狀態(tài),使其與玻璃接觸時(shí)不至于出現(xiàn)玻璃受力不均勻的情況。同時(shí),該裝置的另一功能為可以方便皮帶的拆卸。所述皮帶外側(cè)固定有傳輸導(dǎo)向裝置,可以選擇為擋板,用于玻璃在傳送的過程中限制其兩側(cè)的運(yùn)動(dòng)軌跡,避免傳歪而導(dǎo)致玻璃基板碰撞破碎。所述傳輸導(dǎo)向裝置上開有供冷卻腔室外部的電機(jī)與傳動(dòng)滾輪連接的孔,方便電機(jī)與傳動(dòng)滾輪之間的傳動(dòng)。本實(shí)用新型提供的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),通過用皮帶傳輸結(jié)構(gòu)替代了傳統(tǒng)的多組滾輪傳輸結(jié)構(gòu),簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)的同時(shí),消除了玻璃基板自身的變形以及局部溫度變化過于劇烈等導(dǎo)致玻璃破損的因素,降低了玻璃傳輸過程中的破碎率,提高了生產(chǎn)的穩(wěn)定性,且易于維護(hù)。

圖I是現(xiàn)有技術(shù)的冷卻腔室傳輸系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實(shí)用新型的冷卻腔室滾輪傳輸系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是本實(shí)用新型的冷卻腔室滾輪傳輸系統(tǒng)的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。實(shí)施例I一種LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),如圖2、3所示,包括一組傳動(dòng)滾輪2,還包括從動(dòng)滾輪5和由傳動(dòng)滾輪2驅(qū)動(dòng)的傳送皮帶3,傳動(dòng)滾輪2和從動(dòng)滾輪5分別位于傳送皮帶3傳送方向的兩端;傳送皮帶3為兩邊各一條,各自架設(shè)于冷卻腔兩邊的傳動(dòng)滾輪2和從動(dòng)滾輪5上,保證傳送皮帶3能夠勻速運(yùn)轉(zhuǎn),進(jìn)而帶動(dòng)玻璃勻速傳輸。所述傳送皮帶3為耐200°C高溫的皮帶,可以確保玻璃邊沿與皮帶接觸不會(huì)導(dǎo)致皮帶壽命的降低。同時(shí)由于傳送皮帶3本身是熱的不良導(dǎo)體,不會(huì)引起玻璃邊沿局部溫度的劇烈變化。[0021]所述傳送皮帶3上還設(shè)有向下頂緊傳動(dòng)皮帶3下方一邊的滾軸4,設(shè)于傳送皮帶3的中間部位,用于繃緊皮帶,這樣將皮帶下方一邊拉緊后,可以保證皮帶上方一邊保持緊繃狀態(tài),使其與玻璃接觸時(shí)不至于出現(xiàn)玻璃受力不均勻的情況。所述傳送皮帶3外側(cè)固定有擋板6,用于玻璃在傳送的過程中限制其在兩側(cè)的運(yùn)動(dòng)軌跡,避免傳歪而導(dǎo)致玻璃基板碰撞破碎。擋板6上開有供冷卻腔室外部的電機(jī)I與傳動(dòng)滾輪2連接的孔,方便電機(jī)I與傳動(dòng)滾輪2之間的傳動(dòng)。
權(quán)利要求1.一種LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),包括傳動(dòng)滾輪,其特征在于傳動(dòng)滾輪只有一組,該系統(tǒng)還包括從動(dòng)滾輪和由傳動(dòng)滾輪驅(qū)動(dòng)的傳送皮帶,傳動(dòng)滾輪和從動(dòng)滾輪分別位于傳送皮帶傳送方向的兩端。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述傳送皮帶為耐至少200°C高溫的皮帶。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述傳送皮帶為兩邊各一條,各自架設(shè)于冷卻腔兩邊的傳動(dòng)滾輪和從動(dòng)滾輪上。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述傳送皮帶上還設(shè)有使傳送皮帶繃緊的裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述使傳送皮帶繃緊的裝置設(shè)于傳送皮帶的中間部位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述傳送皮帶繃緊的裝置為向下頂緊傳動(dòng)皮帶下方一邊的滾軸。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述皮帶外側(cè)固定有傳輸導(dǎo)向裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述傳輸導(dǎo)向裝置上開有供冷卻腔室外部的傳動(dòng)電機(jī)與傳動(dòng)滾輪連接的孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),其特征在于所述傳輸導(dǎo)向裝置為擋板。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng),具體地講是涉及一種降低玻璃破碎率的LPCVD工藝中的冷卻腔傳輸系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括一組傳動(dòng)滾輪,還包括從動(dòng)滾輪和由傳動(dòng)滾輪驅(qū)動(dòng)的傳送皮帶,傳動(dòng)滾輪和從動(dòng)滾輪分別位于傳送皮帶傳送方向的兩端。該系統(tǒng)簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)的同時(shí),消除了玻璃基板自身的變形以及局部溫度變化過于劇烈等兩個(gè)導(dǎo)致玻璃破損的因素,降低了玻璃傳輸過程中的破碎率,提高了生產(chǎn)的穩(wěn)定性,且易于維護(hù)。
文檔編號(hào)C23C16/44GK202380078SQ20112053520
公開日2012年8月15日 申請(qǐng)日期2011年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月20日
發(fā)明者吳國發(fā), 彭侃, 辛科 申請(qǐng)人:漢能科技有限公司
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