專利名稱：一種硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡及其制備方法
一種硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡及其制備方法技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于精密光學元件制作技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡及其制備方法。
背景技術(shù)：
在極紫外(EUV)波段，基于納米厚度多層膜的反射式光學元件已經(jīng)在科學研究和工程技術(shù)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。尤其在太陽物理研究領(lǐng)域，由于多層膜具有高的反射率和一定的光譜寬度，可以用于構(gòu)建高分辨天文望遠鏡，從而實現(xiàn)對太陽的單能成像，并獲得了很好的研究成果、展示了更為廣闊的應(yīng)用前景。極紫外多層膜反射鏡的膜層材料選擇是研制多層膜反射鏡的重點，經(jīng)過幾十年的研究，一些非常好的膜層材料被提出。其中最主要的多層膜反射鏡有兩種硅(Si)/鉬(Mo)多層膜反射鏡和碳化硅(SiC)/鋁(Al)多層膜反射^Ml O
在12. 5 30nm的極紫外波段，Si/Mo多層膜反射鏡被廣泛應(yīng)用于極紫外分束鏡、 反射鏡、極紫外光刻和天文觀測裝置中。但是，在波長超過25nm的極紫外波段，由于Si和 Mo對極紫外輻射的吸收快速增大，導致Si/Mo多層膜的反射率相對較低，而反射率帶寬相對較大，難以滿足應(yīng)用需求。另外，由于Si/Mo多層膜往往具有較大的應(yīng)力，因此，一般需要在多層膜和基板間增加一定厚度的鉻(Cr)或鈦(Ti)層來提高多層膜與基板間的粘附性， 而這樣做往往會增大多層膜的界面粗糙度，并導致多層膜峰值反射率的降低。因此，在波長較長的EUV波段(17 30nm)，需要尋找更好的多層膜材料。
由于Al的L吸收邊在17. 06nm,因此在17. 06 30nm波段，Al具有較小的吸收系數(shù)，可以作為多層膜的間隔層材料。近年來，Al基極紫外多層膜反射鏡日漸成為國際研究熱點。其中，SiC/Al多層膜在17. 06 SOnm波段具有很好的光學特性，并具有低的應(yīng)力和好的熱穩(wěn)定性，因而得到了廣泛的應(yīng)用和深入的研究。盡管SiC/Al多層膜在理論上具有很大的優(yōu)勢，但是在真實的SiC/Al多層膜結(jié)構(gòu)中，兩種材料膜層的界面粗糙度較大，而且Al較容易形成多晶態(tài)，從而導致多層膜的峰值反射率相對理論值有較大的降低。
為了抑制Al膜層的結(jié)晶及膜層界面粗糙度，有文獻報道的方法主要有以下三種
1.采用在氬(Ar)濺射氣體中摻雜氮氣( )的方法來制備SiC/Al多層膜。這種反應(yīng)濺射方法制作的SiC/Al多層膜雖然具有很平滑的界面及幾乎非晶態(tài)的Al膜，但是由于氮氣的摻雜對SiC和Al的光學常數(shù)影響很大，沒能實現(xiàn)多層膜峰值反射率的提升。
2. P. Jormard采用在SiC和Al之間插入一層Mo薄層，形成SiC/Mo/Al的多層膜結(jié)構(gòu)，可以有效改變兩種材料膜層的界面粗糙度，從而提升多層膜的峰值反射率。但是，這種方法使得反射鏡的每個周期內(nèi)包含三層薄膜，結(jié)構(gòu)相對復雜，增加了制作難度；另外，Mo材料的引入，也增加了反射鏡的制作成本。
3. P. Jonnard和E. Meltchakov等人采用摻雜1. 5% Si的鋁硅合金(AlSi)代替純 Al與SiC構(gòu)成多層膜，可以抑制Al膜層的結(jié)晶并降低界面粗糙度，可以獲得光學特性非常好的AlSi/SiC極紫外多層膜反射鏡。但是，這種方法所使用的高純度AlSi靶材的價格非常昂貴，極大的提高了多層膜反射鏡的制作成本，不利于該類極紫外多層膜反射鏡的產(chǎn)業(yè)化。
因此，尋找新的、價格較低的Al基材料作為間隔層材料制成高質(zhì)量極紫外多層膜反射鏡，降低產(chǎn)品的生產(chǎn)成本，是進一步拓展Al基極紫外多層膜反射鏡應(yīng)用范圍的有效方法。發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有的Al基多層膜界面粗糙度較大或造價昂貴的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種上述硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的制備方法。
本發(fā)明技術(shù)方案如下
本發(fā)明提供了一種硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，該反射鏡包括基底和硬鋁 /碳化硅周期多層膜，硬鋁薄膜層和碳化硅薄膜層交替沉積于基底表面上。
所述的基底為光學玻璃。
所述的基底粗糙度為0nm <基底粗糙度< lnm。
所述的硬鋁/碳化硅周期多層膜的周期數(shù)為35 45，總厚度為427. 5 525. 0納米，其中每個硬鋁薄膜層厚度為5. 4 8. 5納米，每個碳化硅薄膜層厚度為4. 1 6. 5納米。
所述的硬鋁薄膜層和碳化硅薄膜層交替沉積于基底表面上是指在基底表面上，第一層薄膜是硬鋁薄膜層，第二層薄膜是碳化硅薄膜層，第三層薄膜是硬鋁薄膜層，第四層薄膜是碳化硅薄膜層，如此往復，直至最后一層薄膜是碳化硅薄膜層。
本發(fā)明還提供了一種上述硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的制備方法，該方法包括以下步驟首先對基底進行清洗，然后在基底上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜。
所述的對基底進行清洗包括以下步驟采用超純水超聲波清洗10分鐘、有機清洗液超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗5分鐘，MOS級丙酮超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗10分鐘，MOS級乙醇和乙醚混合液超聲波清洗10分鐘，乙醇和乙醚的體積比為 1 1，干燥的純凈氮氣吹干。
所述的有機清洗液采用的是洗潔精。
所述的在基底上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜采用磁控濺射方法。
所述的磁控濺射方法包括以下步驟濺射靶槍的工作模式為恒功率濺射，濺射工作氣壓為ι毫托；鍍制多層膜前，濺射室的本底真空度為5E-5帕斯卡；靶到基板的距離為 10厘米；利用靶和基板之間的機械擋板來控制薄膜的厚度先通過公轉(zhuǎn)電機將基板運動到裝有硬鋁靶材料的濺射靶槍上方，移開擋板，開始鍍膜，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度， 當硬鋁膜層鍍完后，將擋板移回，然后將基板運動到裝有碳化硅靶材料的濺射靶槍上，其中，擋板移開到移回之間的時間間隔即為鍍制一層薄膜的鍍膜時間；當基板運動到裝有碳化硅靶材料的靶槍上方后，該靶槍的擋板移開，開始鍍制碳化硅膜層，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當碳化硅膜層鍍完后，將擋板移回，然后再將基板運動到裝有硬鋁靶材的濺射靶槍上方；如此反復以上過程，實現(xiàn)多層膜的制作；在膜層沉積過程中，基板保持自轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度為40轉(zhuǎn)/分鐘。
多層膜制作過程中，通過鍍膜時間來控制每層膜的厚度，通過反復的次數(shù)來控制多層膜周期數(shù)。
本發(fā)明同現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點和有益效果
1、本發(fā)明與現(xiàn)有的Al基多層膜相比，硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡引入了化學性質(zhì)和物理性質(zhì)更為穩(wěn)定、價格較低的硬鋁代替純鋁或AlSi合金，在沒有較大改變Al基材料光學性能的基礎(chǔ)上，抑制了 Al膜層的結(jié)晶，改善了多層膜的界面，降低了反射鏡的制作成本，為Al基極紫外多層膜反射鏡的制作提出了一個新的思路，為反射鏡的產(chǎn)業(yè)化奠定了理論和技術(shù)基礎(chǔ)。
2、本發(fā)明的反射鏡克服了傳統(tǒng)的Al/SiC多層膜界面粗糙度和膜層材料相互滲透較大等缺點，降低了制作工藝難度，并將金屬材料的價格降低了 2個數(shù)量級；這種新型的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡具有成膜質(zhì)量好、易于制作、價格便宜、光學性能滿足需求等優(yōu)勢，更適于實現(xiàn)此類產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。


圖1為硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的工作示意圖。
圖中1為基底、2為硬鋁/碳化硅多層膜、3為硬鋁/碳化硅周期多層膜中的硬鋁薄膜層、4為硬鋁/碳化硅周期多層膜中的碳化硅薄膜層、5為入射光，6為反射光。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖所示實施例對本發(fā)明作進一步的說明。
以下所用的硬鋁靶為硬鋁材料(型號為Y12)、碳化硅靶的純度為99. 5%的材料。
實施例1
首先對基底光學玻璃進行清洗，包括以下步驟采用超純水超聲波清洗10分鐘、 有機清洗液白貓牌洗潔精超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗5分鐘，MOS級丙酮超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗10分鐘，MOS級乙醇和乙醚混合液超聲波清洗10分鐘， 乙醇和乙醚的體積比為1 1，干燥的純凈氮氣吹干?；状植诙葹?納米<基底粗糙度 < 1納米。
然后在基底光學玻璃上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜，采用磁控濺射方法，包括以下步驟濺射靶槍的工作模式為恒功率濺射，濺射工作氣壓為1毫托；鍍制多層膜前，濺射室的本底真空度為5E-5帕斯卡；靶到基板的距離為10厘米；利用靶和基板之間的機械擋板來控制薄膜的厚度先通過公轉(zhuǎn)電機將基板運動到裝有硬鋁靶材料的濺射靶槍上方， 移開擋板，開始鍍膜，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當硬鋁膜層鍍完后，將擋板移回，然后將基板運動到裝有碳化硅靶材料的濺射靶槍上，其中，擋板移開到移回之間的時間間隔即為鍍制一層薄膜的鍍膜時間；當基板運動到裝有碳化硅靶材料的靶槍上方后，該靶槍的擋板移開，開始鍍制碳化硅膜層，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當碳化硅膜層鍍完后， 將擋板移回，然后再將基板運動到裝有硬鋁靶材的濺射靶槍上方；如此反復以上過程，實現(xiàn)多層膜的制作；在膜層沉積過程中，基板保持自轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度為40轉(zhuǎn)/分鐘。
制備得到的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，包括基底1和硬鋁/碳化硅周期多層膜2，硬鋁薄膜層3和碳化硅薄膜層4交替沉積于基底表面上；基底1為光學玻璃，硬鋁/碳化硅周期多層膜2的周期數(shù)為45，總厚度為427. 5納米，其中每個硬鋁薄膜層3厚度為5. 4nm，鍍膜時間為47. 4秒；每個碳化硅薄膜層4厚度為4. lnm，鍍膜時間為52. 6秒； 硬鋁薄膜層3和碳化硅薄膜層4交替沉積于基底1表面上是指在基底1表面上，第一層薄膜是硬鋁薄膜層3，第二層薄膜是碳化硅薄膜層4，第三層薄膜是硬鋁薄膜層3，第四層薄膜是碳化硅薄膜層4，如此往復45次，直至最后一層薄膜是碳化硅薄膜層4。圖1為硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的工作示意圖，入射光5通過硬鋁/碳化硅周期多層膜2，在每個膜層界面上均發(fā)生反射，出射反射光6。一方面，硬鋁的吸收較小， 而硬鋁和碳化硅的光學折射率相差較大，同時最外層是碳化硅層可以起到保護的作用；另一方面，硬鋁的性質(zhì)穩(wěn)定，所成薄膜不易形成結(jié)晶態(tài)，與碳化硅可以形成非常平滑的界面， 因而硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡能獲得比較高的反射率，展示出優(yōu)良的光學性能。
實施例2
首先對基底光學玻璃進行清洗，包括以下步驟采用超純水超聲波清洗10分鐘、 有機清洗液白貓牌洗潔精超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗5分鐘，MOS級丙酮超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗10分鐘，MOS級乙醇和乙醚混合液超聲波清洗10分鐘， 乙醇和乙醚的體積比為1 1，干燥的純凈氮氣吹干?；状植诙葹?納米<基底粗糙度 < 1納米。
然后在基底光學玻璃上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜，采用磁控濺射方法，包括以下步驟濺射靶槍的工作模式為恒功率濺射，濺射工作氣壓為1毫托；鍍制多層膜前，濺射室的本底真空度為5E-5帕斯卡；靶到基板的距離為10厘米；利用靶和基板之間的機械擋板來控制薄膜的厚度先通過公轉(zhuǎn)電機將基板運動到裝有硬鋁靶材料的濺射靶槍上方， 移開擋板，開始鍍膜，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當硬鋁膜層鍍完后，將擋板移回，然后將基板運動到裝有碳化硅靶材料的濺射靶槍上，其中，擋板移開到移回之間的時間間隔即為鍍制一層薄膜的鍍膜時間；當基板運動到裝有碳化硅靶材料的靶槍上方后，該靶槍的擋板移開，開始鍍制碳化硅膜層，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當碳化硅膜層鍍完后， 將擋板移回，然后再將基板運動到裝有硬鋁靶材的濺射靶槍上方；如此反復以上過程，實現(xiàn)多層膜的制作；在膜層沉積過程中，基板保持自轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度為40轉(zhuǎn)/分鐘。
制備得到的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，包括基底1和硬鋁/碳化硅周期多層膜2，硬鋁薄膜層3和碳化硅薄膜層4交替沉積于基底表面上；基底1為光學玻璃，硬鋁/碳化硅周期多層膜2的周期數(shù)為40，總厚度為500納米，其中每個硬鋁薄膜層3厚度為7. Inm,每個碳化硅薄膜層4厚度為5. 4nm ；硬鋁薄膜層3和碳化硅薄膜層4交替沉積于基底1表面上是指在基底1表面上，第一層薄膜是硬鋁薄膜層3，第二層薄膜是碳化硅薄膜層4，第三層薄膜是硬鋁薄膜層3，第四層薄膜是碳化硅薄膜層4，如此往復，直至最后一層薄膜是碳化硅薄膜層4。
實施例3
首先對基底光學玻璃進行清洗，包括以下步驟采用超純水超聲波清洗10分鐘、 有機清洗液白貓牌洗潔精超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗5分鐘，MOS級丙酮超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗10分鐘，MOS級乙醇和乙醚混合液超聲波清洗10分鐘，乙醇和乙醚的體積比為1 1，干燥的純凈氮氣吹干?；状植诙葹?納米<基底粗糙度 < 1納米。
然后在基底光學玻璃上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜，采用磁控濺射方法，包括以下步驟濺射靶槍的工作模式為恒功率濺射，濺射工作氣壓為1毫托；鍍制多層膜前，濺射室的本底真空度為5E-5帕斯卡；靶到基板的距離為10厘米；利用靶和基板之間的機械擋板來控制薄膜的厚度先通過公轉(zhuǎn)電機將基板運動到裝有硬鋁靶材料的濺射靶槍上方， 移開擋板，開始鍍膜，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當硬鋁膜層鍍完后，將擋板移回，然后將基板運動到裝有碳化硅靶材料的濺射靶槍上，其中，擋板移開到移回之間的時間間隔即為鍍制一層薄膜的鍍膜時間；當基板運動到裝有碳化硅靶材料的靶槍上方后，該靶槍的擋板移開，開始鍍制碳化硅膜層，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當碳化硅膜層鍍完后， 將擋板移回，然后再將基板運動到裝有硬鋁靶材的濺射靶槍上方；如此反復以上過程，實現(xiàn)多層膜的制作；在膜層沉積過程中，基板保持自轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度為40轉(zhuǎn)/分鐘。
制備得到的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，包括基底1和硬鋁/碳化硅周期多層膜2，硬鋁薄膜層3和碳化硅薄膜層4交替沉積于基底表面上；基底1為光學玻璃，硬鋁/碳化硅周期多層膜2的周期數(shù)為35，總厚度為525納米，其中每個硬鋁薄膜層3厚度為8. 5nm,每個碳化硅薄膜層4厚度為6. 5nm ；硬鋁薄膜層3和碳化硅薄膜層4交替沉積于基底1表面上是指在基底1表面上，第一層薄膜是硬鋁薄膜層3，第二層薄膜是碳化硅薄膜層4，第三層薄膜是硬鋁薄膜層3，第四層薄膜是碳化硅薄膜層4，如此往復，直至最后一層薄膜是碳化硅薄膜層4。
上述的對實施例的描述是為便于該技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能理解和應(yīng)用本發(fā)明。熟悉本領(lǐng)域技術(shù)的人員顯然可以容易地對這些實施例做出各種修改，并把在此說明的一般原理應(yīng)用到其他實施例中而不必經(jīng)過創(chuàng)造性的勞動。因此，本發(fā)明不限于這里的實施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的揭示，不脫離本發(fā)明范疇所做出的改進和修改都應(yīng)該在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，其特征在于該反射鏡包括基底(1)和硬鋁/碳化硅周期多層膜O)，硬鋁薄膜層C3)和碳化硅薄膜層(4)交替沉積于基底(1)表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，其特征在于所述的基底(1)為光學玻璃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，其特征在于所述的基底⑴粗糙度為0nm <基底粗糙度< lnm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，其特征在于所述的硬鋁/碳化硅周期多層膜O)的周期數(shù)為35 45，總厚度為427. 5 525.0納米，其中每個硬鋁薄膜層(3)厚度為5. 4 8. 5納米，每個碳化硅薄膜層(4)厚度為4. 1 6. 5納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡，其特征在于所述的硬鋁薄膜層( 和碳化硅薄膜層(4)交替沉積于基底(1)表面上是指在基底(1)表面上，第一層薄膜是硬鋁薄膜層(3)，第二層薄膜是碳化硅薄膜層G)，第三層薄膜是硬鋁薄膜層(3)， 第四層薄膜是碳化硅薄膜層G)，如此往復，直至最后一層薄膜是碳化硅薄膜層G)。
6.權(quán)利要求1至5任一所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的制備方法，其特征在于該方法包括以下步驟首先對基底(1)進行清洗，然后在基底(1)上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜(2)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的制備方法，其特征在于 所述的對基底(1)進行清洗包括以下步驟采用超純水超聲波清洗10分鐘、有機清洗液超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗5分鐘，MOS級丙酮超聲波清洗10分鐘，超純水超聲波清洗10分鐘，MOS級乙醇和乙醚混合液超聲波清洗10分鐘，乙醇和乙醚的體積比為1:1， 干燥的純凈氮氣吹干。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的制備方法，其特征在于 所述的有機清洗液采用的是洗潔精。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的制備方法，其特征在于 所述的在基底(1)上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜( 采用磁控濺射方法。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡的制備方法，其特征在于所述的磁控濺射方法包括以下步驟濺射靶槍的工作模式為恒功率濺射，濺射工作氣壓為1毫托；鍍制多層膜前，濺射室的本底真空度為5E-5帕斯卡；靶到基板的距離為10厘米；利用靶和基板之間的機械擋板來控制薄膜的厚度先通過公轉(zhuǎn)電機將基板運動到裝有硬鋁靶材料的濺射靶槍上方，移開擋板，開始鍍膜，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當硬鋁膜層鍍完后，將擋板移回，然后將基板運動到裝有碳化硅靶材料的濺射靶槍上，其中，擋板移開到移回之間的時間間隔即為鍍制一層薄膜的鍍膜時間；當基板運動到裝有碳化硅靶材料的靶槍上方后，該靶槍的擋板移開，開始鍍制碳化硅膜層，通過鍍膜時間來控制膜層的厚度，當碳化硅膜層鍍完后，將擋板移回，然后再將基板運動到裝有硬鋁靶材的濺射靶槍上方；如此反復以上過程，實現(xiàn)多層膜的制作；在膜層沉積過程中，基板保持自轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)速度為40轉(zhuǎn)/分鐘。
全文摘要
本發(fā)明屬于精密光學元件制作技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡及其制備方法。本發(fā)明的反射鏡包括基底(1)和硬鋁/碳化硅周期多層膜(2)，硬鋁薄膜層(3)和碳化硅薄膜層(4)交替沉積于基底(1)表面上。本發(fā)明的反射鏡制備方法如下首先對基底(1)進行清洗，然后在基底(1)上鍍制硬鋁/碳化硅周期多層膜(2)。本發(fā)明的反射鏡克服了傳統(tǒng)的鋁/碳化硅多層膜界面粗糙度和膜層材料相互滲透較大等缺點，降低了制作工藝難度，并將金屬材料的價格降低了2個數(shù)量級；這種新型的硬鋁/碳化硅極紫外多層膜反射鏡具有成膜質(zhì)量好、易于制作、價格便宜、光學性能滿足需求等優(yōu)勢，更適于實現(xiàn)此類產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。
文檔編號C23C14/06GK102520470SQ20111042598
公開日2012年6月27日 申請日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者張眾, 王占山, 鐘奇 申請人:同濟大學