專利名稱：靶材裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種靶材裝置，特別指一種能相對一基板的一待鍍表面轉(zhuǎn)動的靶 材裝置。
背景技術(shù)：
如圖1與圖2所示，現(xiàn)有一真空濺鍍設(shè)備的靶材裝置1，包括三直立地間隔裝設(shè)在 一腔體3中的長型遮蔽盒11以及三分別設(shè)置在該三遮蔽盒11中的靶材12。每一遮蔽盒 11具有一遮蔽板111，該遮蔽板111具有一直向延伸且對應(yīng)該靶材12的長槽孔112，該長槽 孔112的一左、右側(cè)邊(以圖2的方向說明，以下同)呈向內(nèi)凹弧狀，使得該長槽孔112整 體為上下較寬而中央相對窄縮的形狀。于進行濺鍍作業(yè)時，將一基板5直立式輸入該腔體3中，使該基板5的一待鍍表面 51平行間隔面對該三靶材12，接著施加高電壓以驅(qū)動該基板5與該三靶材12間的輝光放 電效應(yīng)，將放電氣體高溫離子化成等離子，等離子中的離子便會轟擊靶材12，使得靶材12 材料的原子或分子濺飛出，并沉積、附著于該基板5的待鍍表面51上以形成預(yù)定厚度的薄膜。雖然，有鑒于一般因靶材中央處的等離子濃度較高，濺射集中在靶材的中央?yún)^(qū)域， 使得靶材的中央?yún)^(qū)域過度侵蝕，并濺飛出較多量的分子/原子，而造成靶材的利用率差、使 用壽命短，與所形成薄膜品質(zhì)不佳等現(xiàn)存問題，故而利用該遮蔽板111的遮擋，與該長槽孔 112的上下較寬而中間較窄的形狀限制，使該基板5的待鍍表面51各處所附著的原子/分 子數(shù)量趨于平均，以沉積形成出均勻厚度的薄膜。然而，自所述三靶材12濺飛出，卻受到遮 蔽板111阻擋而無法到達該基板5的待鍍表面51的分子/原子，便平白損耗無用，所以整 體來說，該靶材裝置1不但于利用率上不夠理想，且遮蔽板111的設(shè)計還會衍生設(shè)備成本的 提尚。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種利用率高、使用壽命長、設(shè)置成本較低廉，且鍍膜品 質(zhì)佳的靶材裝置。本實用新型的靶材裝置，設(shè)置在一座真空腔體中，并能面對輸入該真空腔體內(nèi)的 一塊基板的一待鍍表面，該靶材裝置包括多支能相對該基板的待鍍表面轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)靶，所 述旋轉(zhuǎn)靶與該基板的待鍍表面等距地間隔平行排列，且每一旋轉(zhuǎn)靶的一中心軸線與該基板 的行進方向相平行。本實用新型所述的靶材裝置，每一旋轉(zhuǎn)靶包括一個靶管座、一個容置在該靶管座 中且可繞該靶管座的一中心軸線轉(zhuǎn)動的磁鐵座以及一個能轉(zhuǎn)動地設(shè)置在該靶管座的一端 面處且連結(jié)該磁鐵座以帶動其轉(zhuǎn)動的分度盤座。本實用新型所述的靶材裝置，該靶管座具有一根背管以及一塊覆設(shè)在該背管的一 外管面上的靶材。[0009]本實用新型所述的靶材裝置，該磁鐵座具有一根環(huán)繞該靶管座的中心軸線且一端 連結(jié)該分度盤座的軸管、一個設(shè)置在該軸管的另一端處且圍繞該軸管的弧形載塊以及多個 間隔排列在該弧形載塊的遠離該軸管的一表面上的磁條。本實用新型所述的靶材裝置，該分度盤座具有一個間隔設(shè)置在該靶管座的該端面 處且具有一個內(nèi)環(huán)齒面的固定環(huán)板、一個能相對轉(zhuǎn)動地疊設(shè)在該固定環(huán)板面對該靶管座的 一板面上且局部延伸入該靶管座中而連接該磁鐵座的軸管的分度頭、一個凸設(shè)在該分度頭 的一端面上且卡掣在該固定環(huán)板的內(nèi)環(huán)齒面上的定位銷。本實用新型的有益效果在于利用所述旋轉(zhuǎn)靶與該基板的待鍍表面等距地間隔平 行排列、其中心軸線與該基板的行進方向相平行，且能相對該基板的待鍍表面轉(zhuǎn)動的設(shè)計， 整體能產(chǎn)生利用率高、使用壽命長、成本低廉且鍍膜品質(zhì)佳等功效。

圖1是一俯視示意圖，說明現(xiàn)有一靶材裝置，其三直立式間隔排列的三靶材，平行 間隔面對一直立式基板的一待鍍表面；圖2是現(xiàn)有該靶材裝置的一正視圖；圖3是一立體示意圖，說明本實用新型的靶材裝置的一第一較佳實施例的三橫向 式上下相間排列的旋轉(zhuǎn)靶面對一直立式基板的一待鍍表面；圖4是一端視圖，說明該第一較佳實施例的其中一旋轉(zhuǎn)靶，其一分度盤座與一磁 鐵座的三磁條的位置關(guān)系；圖5是圖4的剖面線V-V的一局部剖視圖；圖6是一側(cè)視示意圖，說明該第一較佳實施例的三旋轉(zhuǎn)靶相對該基板所分別呈現(xiàn) 的轉(zhuǎn)動角度變化；圖7是一立體示意圖，說明本實用新型的靶材裝置的一第二較佳實施例。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖及實施例對本實用新型進行詳細說明。如圖3至圖5所示，本實用新型的靶材裝置的一第一較佳實施例，設(shè)置在一真空濺 鍍設(shè)備的一真空腔體4中，并能平行間隔面對一塊直立式輸入該真空腔體4內(nèi)的基板6的 一待鍍表面61，以于該基板6的待鍍表面61形成預(yù)定厚度的薄膜。有關(guān)真空濺鍍設(shè)備的其 他相配合機件與濺鍍作業(yè)過程原理，為該實用新型技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所熟知，且非 屬本實用新型的技術(shù)特征，于此不再詳述。該靶材裝置包括三支橫置式地上下間隔排列在該真空腔體4中的圓柱形的旋轉(zhuǎn) 靶2，所述三支旋轉(zhuǎn)靶2與該基板6的待鍍表面61等距離，且能相對該基板6的待鍍表面 61轉(zhuǎn)動，而且，所述三支旋轉(zhuǎn)靶2的中心軸線與該基板6的行進方向平行。每一旋轉(zhuǎn)靶2包括一能相對該基板6轉(zhuǎn)動的圓管柱狀的靶管座21、一設(shè)置在該靶 管座21中且能繞該靶管座21的一中心軸線擺轉(zhuǎn)的磁鐵座22以及一設(shè)置在該靶管座21的 一端部處且能控制該磁鐵座22的擺動角度的分度盤座23。其中，該靶管座21具有一圓管 柱狀的背管211以及一覆設(shè)在該背管211的一外管面上的靶材212 ；該分度盤座23具有一 設(shè)置在該靶管座21的該端部處且具有一內(nèi)環(huán)齒面232的固定環(huán)板231、一能相對轉(zhuǎn)動地疊設(shè)在該固定環(huán)板231的一板面上且與磁鐵座22鎖接在一起的分度頭233以及一凸設(shè)在該 分度頭233的一表面且可移動地卡掣在該內(nèi)環(huán)齒面232上的定位銷234，該定位銷234與該 內(nèi)環(huán)齒面232相配合以使該分度頭233在轉(zhuǎn)動某預(yù)定角度后定位。另外，該磁鐵座22具有一同心容置在該靶管座21的背管211中且一端鎖接該分 度頭233的軸管221、一固設(shè)在該軸管221的另一端處且圍繞該軸管221的弧形載塊222以 及三間隔排列在該弧形載塊222的遠離該軸管221的一表面上的磁條223。因此，隨著該分 度頭233的轉(zhuǎn)動，該軸管221會被帶動而旋轉(zhuǎn)，同時該弧形載塊222與該三磁條223會被帶 動而繞該背管211的中心軸線進行圓周運動。因此，于進行濺鍍作業(yè)時，將該基板6直立地移送入該真空腔體4中后，啟動高壓 以在該基板6與該三旋轉(zhuǎn)靶2間形成等離子，通過等離子中的離子轟擊該三旋轉(zhuǎn)靶2的靶 材212，濺射出的原子/分子會沉積在該基板6的待鍍表面61上以形成薄膜；過程中，能控 制旋轉(zhuǎn)靶2的分度頭233轉(zhuǎn)動一預(yù)定角度，以同步帶動磁鐵座22的磁條223偏擺該預(yù)定角 度，配合定位銷234能卡掣在固定環(huán)板231的內(nèi)環(huán)齒面232上，使得分度頭233與磁條223 于轉(zhuǎn)動該預(yù)定角度后穩(wěn)固定位，用以能自由地改變、調(diào)整每一旋轉(zhuǎn)靶2的磁條223相對于該 基板6的待鍍表面61的角度位置，使等離子中的離子受制于電磁場而集中轟擊靶材212的 表面特定區(qū)域，同時，再配合能控制旋轉(zhuǎn)靶2的靶管座21相對該基板6轉(zhuǎn)動的設(shè)計，如此一 來，不但能使旋轉(zhuǎn)靶2的整個表面侵蝕很均勻，有效提高旋轉(zhuǎn)靶2的利用率與使用壽命，更 重要的是，還能在該基板6的待鍍表面61濺鍍成形出高度均勻化的薄膜。如圖7所示，為本實用新型的靶材裝置的一第二較佳實施例，與上述該第一較佳 實施例不同處在于，該基板6平放式地移送入該真空腔體4中，而所述三支橫置式的旋轉(zhuǎn)靶 2則呈橫向間隔平行排列，其中心軸線同樣與該基板6的行進方向平行。所以，本實施例整 體當(dāng)然也能產(chǎn)生利用率高、使用壽命長與鍍膜品質(zhì)佳等功效。歸納上述，本實用新型的靶材裝置，利用所述三支橫置式圓柱形的旋轉(zhuǎn)靶2，與該 基板6的待鍍表面61等距地間隔平行排列、其中心軸線與該基板6的行進方向相平行，且 能相對該基板6的待鍍表面61轉(zhuǎn)動的結(jié)構(gòu)設(shè)計，整體能產(chǎn)生利用率高、使用壽命長與鍍膜 品質(zhì)佳等功效，尤其不需如現(xiàn)有靶材裝置1(見圖2)的遮蔽板111設(shè)計，整體于設(shè)備成本上 還能更加低廉，所以確實能夠達到本實用新型的目的。
權(quán)利要求一種靶材裝置，設(shè)置在一座真空腔體中，并能面對輸入該真空腔體內(nèi)的一塊基板的一待鍍表面，該靶材裝置包括多支能相對該基板的待鍍表面轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)靶；其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)靶與該基板的待鍍表面等距地間隔平行排列，且每一旋轉(zhuǎn)靶的一中心軸線與該基板的行進方向平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材裝置，其特征在于，每一旋轉(zhuǎn)靶包括一個靶管座、一個容 置在該靶管座中且能繞該靶管座的一中心軸線轉(zhuǎn)動的磁鐵座以及一個能轉(zhuǎn)動地設(shè)置在該 靶管座的一端面處且連結(jié)該磁鐵座以帶動其轉(zhuǎn)動的分度盤座。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材裝置，其特征在于，該靶管座具有一根背管以及一塊覆 設(shè)在該背管的一外管面上的靶材。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的靶材裝置，其特征在于，該磁鐵座具有一根環(huán)繞該靶管座的 中心軸線且一端連結(jié)該分度盤座的軸管、一個設(shè)置在該軸管的另一端處且圍繞該軸管的弧 形載塊以及多個間隔排列在該弧形載塊的遠離該軸管的一表面上的磁條。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的靶材裝置，其特征在于，該分度盤座具有一個間隔設(shè)置在該 靶管座的該端面處且具有一個內(nèi)環(huán)齒面的固定環(huán)板、一個能相對轉(zhuǎn)動地疊設(shè)在該固定環(huán)板 面對該靶管座的一板面上且局部延伸入該靶管座中而連接該磁鐵座的軸管的分度頭、一個 凸設(shè)在該分度頭的一端面上且卡掣在該固定環(huán)板的內(nèi)環(huán)齒面上的定位銷。
專利摘要一種靶材裝置，設(shè)置在一座真空腔體中，并能面對輸入該真空腔體內(nèi)的一塊基板的一待鍍表面，該靶材裝置包括多支能相對該基板的待鍍表面轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)靶，所述旋轉(zhuǎn)靶與該基板的待鍍表面等距地間隔平行排列，且每一旋轉(zhuǎn)靶的一中心軸線與該基板的行進方向平行。本實用新型整體能產(chǎn)生利用率高、使用壽命長、成本低廉且鍍膜品質(zhì)佳等功效。
文檔編號C23C14/34GK201620188SQ201020120389
公開日2010年11月3日 申請日期2010年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月8日
發(fā)明者鄭博仁, 黃泳釗 申請人:北儒精密股份有限公司