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防護罩的表面處理方法及防護罩的制作方法

文檔序號:3366919閱讀:518來源:國知局
專利名稱:防護罩的表面處理方法及防護罩的制作方法
防護罩的表面處理方法及防護罩
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工藝,尤其涉及一種防護罩的表面處理方法,還涉及一種用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩。
背景技術(shù)
在使用金屬等離子體(IMP)淀積金屬(或合金)薄膜,例如氮化鈦的過程中,不僅會淀積到圓片(wafer)上,也會淀積到機臺腔體(chamber)的內(nèi)表面。因此廠商在設(shè)計機臺時就配備了一些零件(parts),例如防護罩,來保護腔體的內(nèi)表面。這樣氮化鈦(或其他金屬、合金)就只會淀積到圓片和防護罩的表面,只需隔一段時間將防護罩拆下清洗就可循環(huán)使用。為了防止沉積到防護罩的金屬或合金脫落,傳統(tǒng)技術(shù)是對防護罩表面進行噴砂處理,通過增加防護罩表面的粗糙度,以增強防護罩表面與金屬(或合金)薄膜之間的黏附性。然而對于一些金屬或合金來說(例如氮化鈦),其特性受溫度影響較大,若溫度變化較大或較頻繁,則傳統(tǒng)的防護罩仍會不足以黏附住氮化鈦,造成防護罩表面氮化鈦顆粒掉落在圓片上,引起圓片良率的降低。

發(fā)明內(nèi)容基于此,有必要提供一種能夠增強防護罩的吸附能力的防護罩的表面處理方法。一種防護罩的表面處理方法,包括成型防護罩步驟,還包括用鋁材料對防護罩表面進行熔射處理的步驟。優(yōu)選的,經(jīng)過所述熔射處理步驟后,所述防護罩表面的粗糙度為120微米至150微米。優(yōu)選的,在所述對防護罩進行熔射處理的步驟后還包括對防護罩進行噴砂處理的步驟。優(yōu)選的,在所述對防護罩進行噴砂處理的步驟后,還包括對防護罩進行清洗處理的步驟。優(yōu)選的,所述熔射處理的步驟前還包括預(yù)噴砂的步驟。優(yōu)選的,所述鋁材料的粒徑小于200微米。優(yōu)選的,表面處理完成后的所述防護罩的表面的粗糙度為40微米至70微米。還有必要提供一種吸附能力強的用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩。一種用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩,所述防護罩的表面均勻覆蓋鋁材料層。優(yōu)選的,所述防護罩表面的鋁材料層通過噴砂工藝達到預(yù)定粗糙度。優(yōu)選的,所述防護罩表面的鋁材料層的粗糙度為40微米至70微米。上述防護罩的表面處理方法和使用該方法處理后的用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積
3的防護罩,在防護罩表面熔射一層鋁材,由于鋁材料有較好的粘附性,增強了防護罩的吸附能力,且因為鋁能承受較大的溫差變化,因此能大大降低防護罩表面的金屬薄膜脫落至圓片上的幾率,改善了產(chǎn)品的良率,提高了生產(chǎn)效率。

圖1是一個實施例中防護罩的表面處理方法的流程圖;圖2是鋁粉末熔射到防護罩的表面后的示意圖。
具體實施方式
為使本發(fā)明的目的、特征和優(yōu)點能夠更為明顯易懂,下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
做詳細的說明。一種防護罩的表面處理方法,包括成型防護罩步驟,還包括用鋁材料對防護罩表面進行熔射處理的步驟用鋁材料對防護罩進行熔射處理。將熔融狀態(tài)的鋁粉末熔射(濺射)到防護罩的表面,使鋁材在防護罩的表面均勻沉積,形成均勻覆蓋的鋁材料層。圖1是一個實施例中防護罩的表面處理方法的流程圖,包括下列步驟S110,用鋁材料對防護罩進行熔射處理??梢圆捎没鹧娣勰┤凵洌瑢⑷廴跔顟B(tài)的鋁粉末熔射到防護罩的表面,使鋁材在防護罩的表面均勻沉積,形成均勻覆蓋的鋁材料層。在本實施例中,鋁粉末的粒徑小于200微米,使用的鋁材料純度應(yīng)大于99. 99%, 熔射時是將防護罩置于密閉腔室內(nèi)進行熔射,腔室的溫度通過控制電流的大小進行調(diào)節(jié)。 由于瞬時電流可能過大,熔射時腔室溫度可能會瞬間過高,待電流穩(wěn)定后腔室溫度應(yīng)控制在120 150攝氏度之間。在本實施例中,SllO步驟后防護罩表面的粗糙度應(yīng)控制在120微米 150微米之間。粗糙度是指鋁粉末濺鍍到防護罩上時,鋁粉末的峰尖和谷底的高度差,如圖2所示,其單位為微米。若粗糙度太高,鋁材易從防護罩表面脫落,若粗糙度太低,則吸附的效果不佳。S120,對防護罩進行噴砂處理。將砂材高速噴射到防護罩表面,使表面整潔,然后吹凈防護罩表面的多余砂材,吹凈可以使用氣槍。S130,對防護罩進行清洗處理,清洗處理后的粗糙度可以達到40微米 70微米。還可以在對防護罩進行熔射處理之前,先進行清潔處理。首先使用相應(yīng)溶液對防護罩進行浸泡,以去除防護罩上粘附的金屬(或合金)薄膜,在對防護罩進行水洗,去除前述溶液,最后對防護罩進行干燥處理。清潔處理完成后,還可以對防護罩表面進行預(yù)噴砂處理將砂材高速噴射到防護罩表面,使表面粗糙。本發(fā)明還提供一種使用上述方法處理后的用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩, 該防護罩進行處理后表面均勻覆蓋鋁材料層。在優(yōu)選的實施例中,所述防護罩表面的鋁材料層通過噴砂工藝達到預(yù)定粗糙度,防護罩的表面的粗糙度為40微米 70微米。上述防護罩的表面處理方法和使用該方法處理后的防護罩,在防護罩表面熔射一層鋁材,由于鋁材料有較好的粘附性,增強了防護罩的吸附能力,且因為鋁能承受較大的溫差變化,因此能大大降低防護罩表面的金屬薄膜(例如氮化鈦)脫落至圓片上的幾率,改善了產(chǎn)品的良率,提高了生產(chǎn)效率。以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式,其描述較為具體和詳細,但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此,本發(fā)明專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準。
權(quán)利要求
1.一種防護罩的表面處理方法,包括成型防護罩步驟,其特征在于,還包括用鋁材料對防護罩表面進行熔射處理的步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護罩的表面處理方法,其特征在于,經(jīng)過所述熔射處理步驟后,所述防護罩表面的粗糙度為120微米至150微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護罩的表面處理方法,其特征在于,在所述對防護罩進行熔射處理的步驟后還包括對防護罩進行噴砂處理的步驟。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防護罩的表面處理方法,其特征在于,在所述對防護罩進行噴砂處理的步驟后,還包括對防護罩進行清洗處理的步驟。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項所述的防護罩的表面處理方法,其特征在于,所述熔射處理的步驟前還包括預(yù)噴砂的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防護罩的表面處理方法,其特征在于,所述鋁材料的粒徑小于200微米。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的防護罩的表面處理方法,其特征在于,表面處理完成后的所述防護罩的表面的粗糙度為40微米至70微米。
8.一種用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩,其特征在于,所述防護罩的表面均勻覆蓋鋁材料層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩,其特征在于,所述防護罩表面的鋁材料層通過噴砂工藝達到預(yù)定粗糙度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩,其特征在于,所述防護罩表面的鋁材料層的粗糙度為40微米至70微米。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種防護罩的表面處理方法,包括成型防護罩步驟,還包括用鋁材料對防護罩表面進行熔射處理的步驟。本發(fā)明還涉及一種用于半導(dǎo)體金屬等離子沉積的防護罩,該防護罩的表面均勻覆蓋鋁材料層。上述防護罩的表面處理方法和使用該方法處理后的防護罩,在防護罩表面熔射一層鋁材,增強了防護罩的吸附能力,且因為鋁能承受較大的溫差變化,因此能大大降低防護罩表面的金屬薄膜脫落至圓片上的幾率,改善了產(chǎn)品的良率,提高了生產(chǎn)效率。
文檔編號C23C4/12GK102465248SQ20101054646
公開日2012年5月23日 申請日期2010年11月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月16日
發(fā)明者朱春明, 羅明新, 高華偉 申請人:無錫華潤上華半導(dǎo)體有限公司, 無錫華潤上華科技有限公司
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