專利名稱：真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及真空成膜設備的反濺清洗技術，更具體地說，涉及一種真空成膜
用反濺清洗輔助電極裝置。
背景技術：
反濺清洗是真空成膜設備常用的試樣預處理工藝。目前，現(xiàn)有的真空成膜用反濺 清洗輔助電極裝置100如圖1所示，包括作為輔助電極的靶110和與靶110相連的升降調(diào) 節(jié)機構120，所述升降調(diào)節(jié)機構120包括升降臺121，固定桿124和升降驅(qū)動部件123，所述 固定桿124的下端連接靶110，另一端穿過升降臺121，升降臺121與升降驅(qū)動部件123相 連接，并可通過升降驅(qū)動部件123進行垂直移動。在該輔助電極裝置100的長期使用和維 護過程中，容易造成如下幾個問題 (1)反濺清洗物易直接沉積在靶面上，長期運轉(zhuǎn)后表面成膜太厚，甚至形成絕緣 膜，從而影響放電效應或是導致電極本身失效，進而造成試樣的表面清洗效果欠佳或是失 敗。 (2)如若對沉積在靶面上的物質(zhì)不及時清洗，有可能進一步形成懸浮于真空室內(nèi) 的浮塵，不僅可能需要花費更長時間才能抽到本底真空，嚴重時甚至根本不能抽取到本底 真空，還更有可能對泵等真空獲得系統(tǒng)部件造成致命損傷。 (3)經(jīng)過一段時間的使用后，必須將整個輔助電極裝置拆下后進行清洗，在重新裝 配后，必須評估真空系統(tǒng)的氣密性才能重新使用，從而增加了設備的維護工作量。如果裝配 不好，還勢必影響整個真空成膜設備的氣密性，致使設備不能重新正常運轉(zhuǎn)。

實用新型內(nèi)容針對現(xiàn)有技術中存在的上述缺點，本實用新型的目的是提供一種真空成膜用反濺 清洗輔助電極裝置，該輔助電極裝置能夠避免反濺清洗物沉積而造成的輔助電極失效，從 而保證試樣的反濺清洗效果。 為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術方案 —種真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，包括作為輔助電極的靶和與靶相連的升 降調(diào)節(jié)機構，所述升降調(diào)節(jié)機構包括與靶相連的固定桿、升降臺，與升降臺相連的升降驅(qū)動
部件，在所述靶的下方設置一個用于遮擋反濺清洗物并也能夠起到輔助電極作用的遮擋部 件。 所述遮擋部件上端設置一個旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構與遮擋部件相連接。 所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構包括旋轉(zhuǎn)桿、軸承套、固定支架和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部件；所述旋轉(zhuǎn)桿下 端與遮擋部件相連接，上端依次穿過軸承套、固定支架，并與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部件相連。 所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構還包括一個旋轉(zhuǎn)限位部件，旋轉(zhuǎn)限位部件包括設于旋轉(zhuǎn)桿上部 的定位銷、以及設于固定支架內(nèi)側(cè)并與定位銷相對應的數(shù)個限位開關。 所述固定支架底部固定在所述升降臺上，所述軸承套穿過升降臺并相互連接固定。 所述遮擋部件為一遮擋板。 在上述技術方案中，本實用新型的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置包括作為輔 助電極的靶和與靶相連的升降調(diào)節(jié)機構，在靶的下方設置一個用于遮擋反濺清洗物，并也 能夠起到輔助電極作用的遮擋部件。這樣，反濺清洗物就直接沉積在遮擋部件上，而不會直 接沉積在靶面上，從而避免造成輔助電極失效而導致影響試樣的反濺清洗效果；并且該遮 擋部件能夠便于清洗和更換，能夠提高工作效率；另外，通過旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構可調(diào)整遮擋部件 與靶之間的覆蓋面積配比，以增加輔助電極的使用參數(shù)，從而有利于拓寬反濺清洗的試驗 內(nèi)容。

圖1是現(xiàn)有技術的反濺清洗輔助電極裝置的結構示意圖； 圖2是本實用新型的反濺清洗輔助電極裝置的結構示意圖； 圖3是本實用新型的反濺清洗輔助電極裝置應用在真空成膜設備上的結構示意 圖。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例進一步說明本實用新型的技術方案。 請參閱圖2所示，本實用新型的反濺清洗輔助電極裝置200與現(xiàn)有技術相同之處 在于，也包括起到輔助電極作用的靶210和與靶210相連的升降調(diào)節(jié)機構220，所述升降調(diào) 節(jié)機構220包括升降臺221、升降驅(qū)動部件223與固定桿224，所述固定桿224的下端與靶 210連接，上端穿過升降臺221，并與升降臺221相連接固定；升降驅(qū)動部件223與升降臺 221相互連接，升降臺221可通過升降驅(qū)動部件223驅(qū)動進行X方向上高度的調(diào)整。所述升 降驅(qū)動部件223可采用帶控制柜的電機226a或機械式手輪225a來實現(xiàn)升降臺221的升降 驅(qū)動。不同的是，在所述靶210的下方設置一個用于遮擋反濺清洗物并可起到輔助電極作 用的遮擋部件230。作為一個實施例，該遮擋部件230采用一可拆卸的遮擋板。該遮擋部 件230上方還設置有一個旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構240，遮擋部件230與旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構240相互連接 固定。旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構240包括旋轉(zhuǎn)桿241、軸承套242、固定支架243和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部件244。 旋轉(zhuǎn)桿241穿過軸承套242，下端與遮擋部件230安裝固定，上端穿過升降臺221并與旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動部件244連接。軸承套242穿過升降臺221并相互連接固定，固定支架243與升降臺 221相互固定。這樣便可以利用升降調(diào)節(jié)機構220來調(diào)節(jié)遮擋部件230在X方向的高度，從 而控制其與工作臺5之間的距離(見圖3)。所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部件244也可采用帶控制柜的電 機226b或機械式手輪225b進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，通過電機226b帶動旋轉(zhuǎn)桿241進行e角度的 旋轉(zhuǎn)，從而調(diào)整遮擋部件230與靶210之間的覆蓋面積配比，以增加輔助電極的使用參數(shù)， 從而有利于拓寬反濺清洗的試驗內(nèi)容。此外，為了達到精確控制旋轉(zhuǎn)桿241轉(zhuǎn)動角度的目 的，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構240還包括一個旋轉(zhuǎn)限位部件，旋轉(zhuǎn)限位部件包括設于旋轉(zhuǎn)桿241上部的 定位銷245、以及設于固定支架243內(nèi)側(cè)并與定位銷245相對應的數(shù)個限位開關246，限位 開關246的數(shù)量可以根據(jù)實際設定旋轉(zhuǎn)角度情況來決定。圖2中的222為用于將本輔助電 極裝置200固定在真空成膜設備1上的固定法蘭。[0020] 圖3為本實用新型的反濺清洗輔助電極裝置200應用于真空成膜設備1上的結構 示意圖，本實用新型的輔助電極裝置200通過固定法蘭222安裝在真空成膜設備1上，所述 耙210和遮擋部件230設于真空室當中，遮擋部件230下方正對放置試樣的工作臺5，圖3 中6為真空成膜設備1的樣品庫。 綜上所述，本實用新型的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置200的遮擋部件230 不僅具有輔助電極的基本功能，還可以用來遮擋反濺清洗物，避免輔助電極失效，并且便于 裝卸，在長時間使用后，只需拆下遮擋部件230以進行清洗或更換，而不必拆下整個反濺清 洗輔助電極裝置200，從而可以實現(xiàn)快速清洗，提高工作效率，從根本上消除整體拆裝對真 空成膜設備l氣密性的影響。 本技術領域中的普通技術人員應當認識到，以上的實施例僅是用來說明本實用新 型，而并非用作為對本實用新型的限定，只要在本實用新型的實質(zhì)精神范圍內(nèi)，對以上所述 實施例的變化、變型都將落在本實用新型的權利要求書范圍內(nèi)。
權利要求一種真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，包括作為輔助電極的靶和與靶相連的升降調(diào)節(jié)機構，所述升降調(diào)節(jié)機構包括與靶相連的固定桿、升降臺、與升降臺相連的升降驅(qū)動部件，其特征在于在所述靶的下方設置一個用于遮擋反濺清洗物并也能夠起到輔助電極作用的遮擋部件。
2. 如權利要求1所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于 所述遮擋部件上端設置一個旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構與遮擋部件相連接。
3. 如權利要求2所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于 所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構包括旋轉(zhuǎn)桿、軸承套、固定支架和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部件；所述旋轉(zhuǎn)桿下端與遮擋部件相連接，上端依次穿過軸承套、固定支架，并與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部件相連。
4. 如權利要求3所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于 所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構還包括一個旋轉(zhuǎn)限位部件，旋轉(zhuǎn)限位部件包括設于旋轉(zhuǎn)桿上部的定位銷、以及設于固定支架內(nèi)側(cè)并與定位銷相對應的數(shù)個限位開關。
5. 如權利要求3所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于 所述固定支架底部固定在所述升降臺上，所述軸承套穿過升降臺并相互連接固定。
6. 如權利要求1所述的真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，其特征在于 所述遮擋部件為一遮擋板。
專利摘要本實用新型公開了一種真空成膜用反濺清洗輔助電極裝置，包括作為輔助電極的靶和與靶相連的升降調(diào)節(jié)機構，在靶的下方設置一個用于遮擋反濺清洗物，并也能夠起到輔助電極作用的遮擋部件。這樣，反濺清洗物就直接沉積在遮擋部件上，而不會直接沉積在靶面上，從而避免造成輔助電極失效而導致影響試樣的反濺清洗效果；并且該遮擋部件能夠便于清洗和更換，能夠提高工作效率；另外，通過旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)機構可調(diào)整遮擋部件與靶之間的覆蓋面積配比，以增加輔助電極的使用參數(shù)，從而有利于拓寬反濺清洗的試驗內(nèi)容。
文檔編號C23C14/34GK201545906SQ20092020883
公開日2010年8月11日 申請日期2009年9月17日 優(yōu)先權日2009年9月17日
發(fā)明者張清廉 申請人:寶山鋼鐵股份有限公司