專利名稱：：遮罩組件以及鍍膜機(jī)臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及遮罩組件(maskassembly)與鍍膜機(jī)臺(tái)，特別是涉及一種可減少產(chǎn)品成品率損失(yieldloss)的遮罩組件與鍍膜機(jī)臺(tái)。
背景技術(shù)：
：一般而言，在半導(dǎo)體元件或是顯示面板的制造過程中，經(jīng)常會(huì)使用到鍍膜技術(shù)來形成所需要的膜層。尤其是，顯示面板的制造會(huì)需要在大面積的玻璃基板上形成透明導(dǎo)電層，如銦錫氧化物(indiumtinoxide,IT0)。鍍膜技術(shù)大致可分為物理氣相沉積(PhysicalVaporD印osition，PVD)以及化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporD印osition，CVD)。前者主要是借由物理現(xiàn)象進(jìn)行薄膜沉積，而后者主要是以化學(xué)反應(yīng)的方式進(jìn)行薄膜沉積。其中，物理氣相沉積更以蒸鍍(evaporation)及濺鍍(sputtering)為目前的主流。此兩種技術(shù)的共同點(diǎn)就是以物理現(xiàn)象的方式來進(jìn)行薄膜沉積。在物理氣相沉積中，濺鍍法因其不拘束靶材(target)的選擇，無論是金屬材料或非金屬材料均可做為其靶材，因此被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)業(yè)上。就蒸鍍而言，其原理基本是借著對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行加熱，并利用蒸鍍材來斗在高溫(接近其熔點(diǎn))時(shí)所具備的飽和蒸氣壓，于被鍍物上進(jìn)行薄膜的沉積。而濺鍍的原理主要是在真空狀態(tài)下利用具有動(dòng)能的粒子撞擊靶材，以將靶材(欲鍍材料)表面的物質(zhì)打出，并附著在基板上(被鍍物)而形成薄膜。然而，欲鍍材料也會(huì)在鍍膜的過程中累積在鍍膜機(jī)臺(tái)中，而附著不佳的欲鍍材料可能會(huì)掉落在產(chǎn)品上而造成產(chǎn)品的成品率損失(yieldloss)。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種遮罩組件，具有防止微粒(particle)掉落至產(chǎn)品上的效果。本發(fā)明的另一目的在于提供一種鍍膜機(jī)臺(tái)，具有上述的遮罩組件，可減少產(chǎn)品成品率損失。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種遮罩組件，用以在基材上定義鍍膜區(qū)域，此遮罩組件包括遮罩本體以及擋板。遮罩本體具有開孔，基材位于遮罩本體的第一側(cè)，而開孔暴露出鍍膜區(qū)域。擋板位于開孔旁，并且立于遮罩本體背對(duì)基材的第二側(cè)。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述擋板由開孔朝向遮罩本體的外緣傾斜。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述擋板圍繞開孔。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述擋板與開孔間隔一距離。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述遮罩本體包括主框架、外墻板以及浮置遮罩。主框架具有相對(duì)的第一表面與第二表面，第一表面面向基材，而擋板配置于第二表面上。外墻板配置于主框架的外緣，且外墻板背對(duì)基材并沿著垂直第二表面的方向延伸。浮置遮罩配置于第一表面上，用以提供開孔。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還提供了一種鍍膜機(jī)臺(tái)，用以在基材上的鍍膜區(qū)域上進(jìn)行鍍膜，此鍍膜機(jī)臺(tái)包括鍍膜腔室、陰極載臺(tái)、陽極載臺(tái)以及遮罩組件。鍍膜腔室具有腔室開口。陰極載臺(tái)配置于腔室開口，用以盛放靶材。陽極載臺(tái)配置于鍍膜腔室內(nèi)，用以承載基材。遮罩組件配置于腔室開口，并位于陰極載臺(tái)與陽極載臺(tái)之間。此遮罩組件包括遮罩本體以及擋板。遮罩本體具有開孔，基材位于遮罩本體的第一側(cè)，而開孔暴露出鍍膜區(qū)域。擋板位于開孔旁，并且立于遮罩本體背對(duì)基材的第二側(cè)?；谏鲜?，由于本發(fā)明的遮罩組件具有擋板的設(shè)計(jì)，因此本發(fā)明的遮罩組件具有防止微粒掉落至產(chǎn)品上的效果。由于本發(fā)明的鍍膜機(jī)臺(tái)具有上述的遮罩組件，因此本發(fā)明的鍍膜機(jī)臺(tái)可減少產(chǎn)品成品率損失。以下附圖僅旨在于對(duì)本發(fā)明做示意性說明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。圖1A為本發(fā)明一實(shí)施例的鍍膜機(jī)臺(tái)的示意圖，其中鍍膜機(jī)臺(tái)尚未進(jìn)行鍍膜程序；圖IB為圖1A的鍍膜機(jī)臺(tái)，其進(jìn)行鍍膜程序時(shí)的示意圖2A為本發(fā)明一實(shí)施例的遮罩組件的示意圖2B為圖2A的遮罩組件的部分構(gòu)件上視示意圖2C為圖2A的遮罩組件的部分構(gòu)件側(cè)視示意圖3為沿圖2A的a-a'線的剖面示意圖，其中基材置放于陽極載臺(tái)上。附圖標(biāo)記說明200鍍膜機(jī)臺(tái)202基材204鍍膜區(qū)域210鍍膜腔室212腔室開口220陰極載臺(tái)222耙材230陽極載臺(tái)240遮罩組件242遮罩本體243主框架243a第一側(cè)、第一表面243b第二側(cè)、第二表面244外墻板6245浮置遮罩248擋板gl_￡L,線D距離E交界區(qū)域F固定孔H開孔具體實(shí)施例方式為了對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)照本發(fā)明的具體實(shí)施方式。本發(fā)明的鍍膜機(jī)臺(tái)，用以在基材上的鍍膜區(qū)域上進(jìn)行鍍膜，且鍍膜機(jī)臺(tái)具有特殊設(shè)計(jì)的遮罩組件來防止顆粒掉落至基材上。以下將以實(shí)施例詳細(xì)說明本發(fā)明。圖1A為本發(fā)明一實(shí)施例的鍍膜機(jī)臺(tái)的示意圖，其中鍍膜機(jī)臺(tái)尚未進(jìn)行鍍膜程序。圖1B為圖1A的鍍膜機(jī)臺(tái)，其進(jìn)行鍍膜程序時(shí)的示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1A與圖1B，鍍膜機(jī)臺(tái)200包括鍍膜腔室210、陰極載臺(tái)220、陽極載臺(tái)230以及遮罩組件240。鍍膜腔室210具有腔室開口212。陰極載臺(tái)220配置于腔室開口212,用以盛放靶材222。陽極載臺(tái)230配置于鍍膜腔室210內(nèi)，用以承載基材202。遮罩組件240配置于腔室開口212，并位于陰極載臺(tái)220與陽極載臺(tái)230之間。在本實(shí)施例中，鍍膜機(jī)臺(tái)200例如是制作顯示面板用的濺鍍機(jī)臺(tái)，而靶材222例如是銦錫氧化物(IndiumTinOxide，ITO)、銦鋅氧化物(IndiumZincOxide,IZO)或其他的材料。舉例來說，在鍍膜機(jī)臺(tái)200進(jìn)行鍍膜程序前，例如可使用機(jī)械手臂(未繪示)將基材202放置于鍍膜腔室210內(nèi)的陽極載臺(tái)230上。然后，轉(zhuǎn)動(dòng)陰極載臺(tái)220與陽極載臺(tái)230，以使鍍膜腔室210與陰極載臺(tái)220密合，從而進(jìn)行后續(xù)的鍍膜程序。當(dāng)然，此處僅為舉例說明，鍍膜機(jī)臺(tái)200也可以包括其他的構(gòu)件，如真空泵、控制系統(tǒng)等。本領(lǐng)域具有通常知識(shí)者，應(yīng)可理解鍍膜機(jī)臺(tái)的基本構(gòu)件配置與操作原理，此處便不再贅述。圖2A為本發(fā)明一實(shí)施例的遮罩組件的示意圖。圖2B為圖2A的遮罩組件的部分構(gòu)件上視示意圖。圖2C為圖2A的遮罩組件的部分構(gòu)件側(cè)視示意圖。圖3為沿圖2A的a-a'線的剖面示意圖，其中基材置放于陽極載臺(tái)上。請(qǐng)參照?qǐng)D2A、圖2B、圖2C以及圖3，遮罩組件240用以在基材202上定義鍍膜區(qū)域204?；?02例如為玻璃基板，置于陽極載臺(tái)230上(如圖3所示)。遮罩組件240包括遮罩本體242以及擋板248。遮罩本體242具有開孔H，基材202位于遮罩本體242的第一側(cè)243a,而開孔H暴露出鍍膜區(qū)域204。擋板248位于開孔H旁，并且立于遮罩本體242背對(duì)基材202的第二側(cè)243b。其中，擋板248的材質(zhì)例如為鋁或其他材料。詳細(xì)而言，遮罩本體242包括主框架243、外墻板244以及浮置遮罩245。此處為便于說明，圖2B與圖2C中未繪示外墻板244。在本實(shí)施例中，主框架243具有相對(duì)的第一表面243a與第二表面243b，第一表面243a面向基材202，而擋板248配置于第二表面243b上。特別是，擋板248可由開孔H朝向遮罩本體242的外緣傾斜，以兼具維持鍍膜效果與防止微粒污染的作用。也就是說，擋板248與第二表面243b之間的夾角(未標(biāo)示)并不是直角，而擋板248是由第二表面243b上靠近開孔H的位置朝向遮罩本體242的外緣擴(kuò)張。然而，在其他的實(shí)施例中，擋板248與第二表面243b之間的夾角也可以是其他任何適當(dāng)?shù)慕嵌?。外墻?44配置于主框架243的外緣，且外墻板244背對(duì)基材202并沿著垂直第二表面243b的方向延伸。在本實(shí)施例中，主框架243的外緣設(shè)置有多個(gè)固定孔F，而外墻板244可借由螺絲(未繪示)穿過這些固定孔F，以固定于主框架243上。而類似地，擋板248也可借由螺絲來鎖附于主框架243上。但8此固定方式不限于上面描述，也可依實(shí)際需求調(diào)整，例如采用卡合結(jié)構(gòu)、粘著方式或一體成型等。浮置遮罩245配置于第一表面243a上，用以提供開孔H。浮置遮罩245可視基材202的尺寸或是鍍膜區(qū)域204的范圍來調(diào)整開孔H的大小，以避免欲鍍材料附著在陽極載臺(tái)230上。另外，浮置遮罩245可為絕緣材，以避免短路發(fā)生。請(qǐng)參照?qǐng)D3，擋板248與開孔H間隔一距離D，以避免影響到浮置遮罩245的調(diào)整裕度與維持主框架243的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定。但本發(fā)明不限于此，也可依實(shí)際需求調(diào)整擋板248位于主框架243的第二表面243b上的位置。此外，本實(shí)施例的擋板248是圍繞開孔H設(shè)置，以達(dá)到良好的遮蔽微粒效果，但本發(fā)明不限于此，可視實(shí)際需要加以調(diào)整，例如在另一未繪示的實(shí)施例中，擋板也可以是局部間隔地配置于主框架上。由于銦錫氧化物或其他欲鍍材料在進(jìn)行鍍膜程序之后會(huì)沉積在主框架243的第二表面243b上，且經(jīng)觀察，外墻板244與主框架243的交界區(qū)域E的材料附著性不佳，欲鍍材料容易自主框架243的第二表面243b剝離，而造成微粒掉落并污染基材202，如此將導(dǎo)致產(chǎn)品的成品率損失。因此，擋板248的設(shè)置可有效阻擋微粒掉落至基材202的鍍膜區(qū)域204。也就是說，具有遮罩組件240的鍍膜機(jī)臺(tái)200可減少產(chǎn)品的成品率損失。要強(qiáng)調(diào)的是，雖然上述的鍍膜機(jī)臺(tái)200是一種濺鍍機(jī)臺(tái)，但本發(fā)明的遮罩組件240并不僅限于濺鍍制作過程所使用。換句話說，本發(fā)明的遮罩組件240可適用于任何需要使用遮罩設(shè)計(jì)的制程機(jī)臺(tái)。以下，將以實(shí)驗(yàn)組與對(duì)照組的比較來說明本發(fā)明的效果。實(shí)驗(yàn)組首先，提供一卡匣(Cassette)，此卡匣內(nèi)裝有20片基材202。接著，將單數(shù)片(l、3、5…19)的基材202分別傳入上述的鍍膜機(jī)臺(tái)200中進(jìn)行鍍膜程序。然后，測(cè)量每片基材202上的微粒數(shù)量，并依照微粒的粒徑大小將結(jié)果記錄于表1中，其中粒徑A、粒徑B與粒徑C分別代表由小至大的三種粒徑。此外，還對(duì)實(shí)驗(yàn)組的產(chǎn)品進(jìn)行成品率損失的分析。對(duì)照組將上述內(nèi)偶數(shù)片(2、4、6…20)的基材202分別傳入未設(shè)置有擋板248的鍍膜機(jī)臺(tái)(未繪示)中進(jìn)行鍍膜程序，其中對(duì)照組所使用的機(jī)臺(tái)，具有上述鍍膜機(jī)臺(tái)200中除了擋板248之外的所有構(gòu)件。然后，測(cè)量每片基材202上的微粒數(shù)量，并依照微粒的粒徑大小將結(jié)果記錄于表2中，其中粒徑A、粒徑B與粒徑C分別代表由小至大的三種粒徑。此外，還對(duì)對(duì)照組的產(chǎn)品進(jìn)行成品率損失的分析。請(qǐng)參照表1與表2，其中實(shí)驗(yàn)組的微粒數(shù)量均明顯低于對(duì)照組的微粒數(shù)量。由此可知，具有擋板248設(shè)計(jì)的遮罩組件240能夠有效防止微粒掉落至基材202上。特別是，實(shí)驗(yàn)組的成品率損失約為0.36%，而對(duì)照組的成品率損失約為0.57%。也就是說，具有遮罩組件240的鍍膜機(jī)臺(tái)200還可以減少產(chǎn)品的成品率損失、節(jié)省制造成本。表l實(shí)驗(yàn)組粒徑A粒徑B粒徑C總計(jì)11044211157341119615563513104784532015794853181191112847302051316710644317151071293326917206143313801918514134360平均112.67525.3212.9<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>綜上所述，本發(fā)明的遮罩組件具有擋板的設(shè)計(jì)，擋板可由開孔朝向遮罩本體的外緣傾斜，因此，本發(fā)明的遮罩組件能夠有效防止微粒掉落至產(chǎn)品上。另外，由于本發(fā)明的鍍膜機(jī)臺(tái)具有上述的遮罩組件，因此本發(fā)明的鍍膜機(jī)臺(tái)可以使用簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)來減少產(chǎn)品的成品率損失，進(jìn)而節(jié)省制造成本。以上所述僅為本發(fā)明示意性的具體實(shí)施方式，并非用以限定本發(fā)明的范圍。任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和原則的前提下所作出的等同變化與修改，均應(yīng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。權(quán)利要求1、一種遮罩組件，用以在一基材上定義一鍍膜區(qū)域，其特征在于，該遮罩組件包括一遮罩本體，具有一開孔，該基材位于該遮罩本體的一第一側(cè)，而該開孔暴露出該鍍膜區(qū)域；以及一擋板，位于該開孔旁，并且立于該遮罩本體背對(duì)該基材的一第二側(cè)。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮罩組件，其特征在于，該擋板由該開孔朝向該遮罩本體的外緣傾斜。3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮罩組件，其特征在于，該擋板圍繞該開孔。4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的遮罩組件，其特征在于，該擋板與該開孔間隔一距離。5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮罩組件，其特征在于，該遮罩本體包括一主框架，具有相對(duì)的一第一表面與一第二表面，該第一表面面向該基材，而該擋板配置于該第二表面上；一外墻板，配置于該主框架的外緣，且該外墻板背對(duì)該基材并沿著垂直該第二表面的方向延伸；以及一浮置遮罩，配置于該第一表面上，用以提供該開孔。6、一種鍍膜機(jī)臺(tái)，用以在一基材上的一鍍膜區(qū)域上進(jìn)行鍍膜，其特征在于，該鍍膜機(jī)臺(tái)包括一鍍膜腔室，具有一腔室開口；一陰極載臺(tái)，配置于該腔室開口，用以盛放一靶材；一陽極載臺(tái)，配置于該鍍膜腔室內(nèi)，用以承載該基材；一遮罩組件，配置于該腔室開口，并位于該陰極載臺(tái)與該陽極載臺(tái)之間，該遮罩組件包括一遮罩本體，具有一開孔，該基材位于該遮罩本體的一第一側(cè)，而該開孔暴露出該鍍膜區(qū)域；以及一擋板，位于該開孔旁，并且立于該遮罩本體背對(duì)該基材的一第二側(cè)。7、根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜機(jī)臺(tái)，其特征在于，該擋板由該幵孔朝向該遮罩本體的外緣傾^f。8、根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜機(jī)臺(tái)，其特征在于，該擋板圍繞該開孔。9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜機(jī)臺(tái)，其特征在于，該擋板與該開孔間隔一距離。10、根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜機(jī)臺(tái)，其特征在于，該遮罩本體包括一主框架，具有相對(duì)的一第一表面與一第二表面，該第一表面面向該基材,而該擋板配置于該第二表面上；一外墻板，配置于該主框架的外緣，且該外墻板背對(duì)該基材并沿著垂直該第二表面的方向延伸；以及一浮置遮罩，配置于該第一表面上，用以提供該開孔。全文摘要本發(fā)明公開了一種遮罩組件以及鍍膜機(jī)臺(tái)，其中的鍍膜機(jī)臺(tái)用以在基材上的鍍膜區(qū)域上進(jìn)行鍍膜。此鍍膜機(jī)臺(tái)包括鍍膜腔室、陰極載臺(tái)、陽極載臺(tái)以及遮罩組件(maskassembly)。鍍膜腔室具有腔室開口。陰極載臺(tái)配置于腔室開口以盛放靶材，而陽極載臺(tái)配置于鍍膜腔室內(nèi)以承載基材。遮罩組件配置于腔室開口，并位于陰極載臺(tái)與陽極載臺(tái)之間。此遮罩組件包括遮罩本體以及擋板。遮罩本體具有開孔?；奈挥谡谡直倔w的第一側(cè)，而開孔暴露出鍍膜區(qū)域。擋板位于開孔旁，并且立于遮罩本體背對(duì)基材的第二側(cè)。文檔編號(hào)C23C14/04GK101665903SQ200910174568公開日2010年3月10日申請(qǐng)日期2009年9月30日優(yōu)先權(quán)日2009年9月30日發(fā)明者劉建志,張鈞杰,陳志強(qiáng)申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司