專利名稱：真空鍍制的玻璃反光鏡的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及太陽能聚光反光鏡領域技術，尤其是指一種在玻璃基體上用真空磁控濺射方式鍍制的反光鏡。
背景技術：
傳統(tǒng)真空電阻加熱法受蒸發(fā)角度影響，不能蒸鍍面積較大零件。而化學溶液沉淀法鍍制反光鏡實在是一項技術性要求很高的工作。工人的技術程度要求高，人員也要求多一些。另夕卜，化學鍍制用水量比較大，水的浪費也比較多。還有化學鍍制所用的化學藥品比較多，對水的污染治理費用比較高。
實用新型內容
本實用新型針對上述現(xiàn)有技術所存在之缺失，主要目的在于提供一種膜層緊密、均勻、反射率高、環(huán)保、成本低且可大面積加工的真空鍍制的玻璃反光鏡。
為實現(xiàn)上述之目的，本實用新型采取如下技術方案
一種真空鍍制的玻璃反光鏡，包括一玻璃基體，該玻璃基體的表面系為光滑鏡面，在該光滑鏡面上以真空磁控濺射方式鍍制有一金屬反光膜，該金屬反光膜表面上設有一非金屬保護膜。
在該非金屬保護膜的表面上進一步設有一保護漆。
所述金屬反光膜為鋁、銀、銅、金或銠金屬膜。所述非金屬保護膜包括氧化硅層及在氧化硅層表面形成的二氧化硅層。該二氧化珪層厚度為10nm。
本實用新型優(yōu)點如下
1、 膜層緊密、均勻。由于磁控濺射是靠電子轟擊靶材濺射到基體上去的，靶材的長度都比零件長。賊射范圍廣，所以'踐射到基體上的膜層均勻。濺射時，是由電子激發(fā)的金屬分子粘附到玻璃表面的，所以膜層結構比較緊密，且反射率高，穩(wěn)定。
2、 采用磁控濺射技術鍍制反光膜，可以節(jié)約大量的人力物力。降低化學藥品和水的應用，減少水污染和空氣污染。
3、 濺射面積大，特別是全自動臥式鍍膜生產線，其整塊玻璃都
3可放進去。
4、強度高可經受耐酸、耐鹽、耐磨擦、耐高溫、低溫、耐光
老化、耐高低溫沖擊、耐風沙沖擊等耐候性試-驗。
圖l是本實用新型截面示意圖2是本實用新型以鋁反射膜為例進行反光率測試的效果圖。
具體實施方式
以下結合附圖與具體實施方式
對本實用新型作進一步描述。如圖1, 一種真空鍍制的玻璃反光鏡，包括一玻璃基體l，該玻璃基體1的表面系為光滑鏡面11,在該玻璃基體的光滑鏡面11上依次鍍有金屬反光膜2、非金屬保護膜3、以及保護漆4，其中該玻璃基體1系以J波璃材津牛加工而成。
該金屬反光膜2系通過真空磁控濺射方式鍍于玻璃基體1的光滑鏡面ll上；該金屬反光膜為鋁、銀、銅、金或銠金屬膜。
該非金屬保護膜3系鍍于反光膜2的表面上；該非金屬保護膜3包括氧化硅層31及在氧化硅層31表面形成的二氧化硅層32,該二氧化硅層32厚度為lOnm。當然還可以是其它厚度，在此不加予限制。
該保護漆4是涂(噴)于非金屬保護膜3的表面上。
本實用新型之加工工藝如下
1、 將玻璃基體1的光滑表面11上進行清潔處理；
2、 離子轟擊將清潔處理過的玻璃基體裝入鍍膜機內，關好閥門開起機械泵抽真空，進行離子轟擊。
3、 當真空度下降時，開起擴散泵開始抽高真空，抽至一定真空度后充氬氣，起用磁控濺射設備發(fā)射電子激發(fā)氬氣電子撞擊金屬靶材逸出金屬原子鍍制反光膜。時間6 10分鐘；用來鍍制金屬反光膜的材料有鋁、銀、銅、金、銠等 但以鋁、銀膜系為多。
4、 鍍非金屬保護膜在真空室鍍氧化硅層保護膜，充氧。
5、 加溫烘烤出真空室而放入烘箱，緩慢升溫后并進行保溫，使非金屬保護膜的氧化硅層表面形成一層10nm厚度的二氧化硅
(si02 )層。
6、 涂(噴)保護漆(用于作內反光鏡進行此工序)按要求用銀灰色錘紋漆或酚醛醇清漆按配方進行配制，按操作規(guī)程噴涂多次，然后進行烘烤即可。
4經以上六個步驟完成的反光鏡，主要是作內反光鏡。如果只進行前五個步驟，則可作外反光鏡。外反光鏡，主要是室內或儀器內光路系統(tǒng)使用，優(yōu)點是反射率高于內反光鏡。內反光鏡主要是用于室外或儀器外光路的反光，其優(yōu)點是耐候性能比外反光鏡好。
本實用新型設計重點在于利用磁控濺射技術鍍制的玻璃反光鏡，具有膜層緊密、均勻、反射率高、環(huán)保、成本低且可大面積加工之特點。
以上所述，僅是本實用新型結構較佳實施例而已，并非對本實用新型的技術范圍作任何限制，故凡是依據(jù)本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何細纟斂修改、等同變化與,修飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。
權利要求1、一種真空鍍制的玻璃反光鏡，其特征在于包括一玻璃基體，該玻璃基體的表面系為光滑鏡面，在該光滑鏡面上以真空磁控濺射方式鍍制有一金屬反光膜，該金屬反光膜表面上設有一非金屬保護膜。
2、 根據(jù)權利要求l所述真空鍍制的玻璃反光鏡，其特征在于在 該非金屬保護膜的表面上進一步設有一保護漆。
3、 根據(jù)權利要求1所述真空鍍制的玻璃反光鏡，其特征在于所 述金屬反光膜為鋁、銀、銅、金或銠金屬膜。
4、 根據(jù)權利要求1所述真空鍍制的玻璃反光鏡，其特征在于所 述非金屬保護膜包括氧化硅層及在氧化硅層表面形成的二氧化硅層。
5、 根據(jù)權利要求4所述真空鍍制的玻璃反光鏡，其特征在于該 二氧化硅層厚度為10nm。
專利摘要本實用新型涉及一種真空鍍制的玻璃反光鏡，包括一玻璃基體，該玻璃基體的表面系為光滑鏡面，在該光滑鏡面上以真空磁控濺射方式鍍制有一金屬反光膜，該金屬反光膜表面上設有一非金屬保護膜；所以通過磁控濺射技術鍍制的玻璃反光鏡，具有膜層緊密、均勻、反射率高、環(huán)保、成本低且可大面積加工之特點。
文檔編號C23C14/35GK201340459SQ200820205690
公開日2009年11月4日 申請日期2008年12月22日 優(yōu)先權日2008年12月22日
發(fā)明者浩 劉, 周擁仔, 彭啟成, 賀冬枚, 趙華平, 陳玉琴 申請人:東莞市康達機電工程有限公司