專利名稱：立式底裝料真空回火爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于熱處理行業(yè)領(lǐng)域，特別是一種高性能和高品質(zhì)的真空回火爐。
背景技術(shù)：
目前常規(guī)的真空回火爐一般采用的是雙層水冷結(jié)構(gòu)，當回火爐在大氣中打 開出料裝料時，空氣中的水分就會吸附在水冷爐臂的內(nèi)臂，由于在加熱的過程
中，不是高溫，只在650'C以下，因爐壁如一個高效的冷井，故吸附在爐壁的水 分一時無法蒸發(fā)去除。只能在低溫的狀態(tài)下慢慢地蒸發(fā)。所以在整個過程中一 直有少量的氧分排出，而造成對工件有一定的氧化。加上保溫層大部分采用的 是碳氈保溫，所以也同樣在打開爐門時有水分和氧份吸入，650'C以下的溫度無 法一時將其排除，只能隨時間的推移而揮發(fā)。從而也同樣影響工件品質(zhì)，易產(chǎn) 生少量的氧化而產(chǎn)品光亮度差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了對一些高品質(zhì)要求的工件的品質(zhì)而設(shè)計的回火爐。它可以達 到回火產(chǎn)品的基本不氧化而達到95%以上光亮度的目的。該設(shè)備主要解決快速將 吸附在爐臂的水分和爐內(nèi)的水分及時徹底地抽走。故在水冷爐臂的基礎(chǔ)上另加 一真空隔層，以保證內(nèi)壁有一定的溫度而不吸附水分。另將保溫層改為金屬屏， 也減少了對空氣中水分的吸收，在回火前也可充入部分氣體，由熱循環(huán)風機進 行攪拌而將吸附在爐壁和隔熱屏內(nèi)的水分徹底抽走，從而來保證回火工件的真 正光亮。
具體實施例方式
該設(shè)備主要由水冷隔熱層和真空隔熱層作為爐臂，爐內(nèi)隔熱層也采用全金屬隔熱屏，以減少其對空氣中水分的吸收，在爐內(nèi)設(shè)有熱循環(huán)風機，可在低溫 狀態(tài)下充入高純惰性氣體而將極少部分的水蒸汽趕走。在保證爐內(nèi)在基本無氧 狀態(tài)下便可開始升溫回火。這樣便可確保工件的光亮和少無氧化。
權(quán)利要求
1. 爐內(nèi)保溫層采用金屬屏進行保溫。
2. 爐臂采用三層結(jié)構(gòu)，外部為雙臂水冷，內(nèi)臂為真空隔熱層。
3. 采用熱導流風機循環(huán)將吸附在爐臂的水分能及時抽走。
4. 采用高真空機組，保證極限真空讀在0.005pa以下。
全文摘要
本發(fā)明主要是熱處理行業(yè)的一種回火設(shè)備，特別是一種高要求高品質(zhì)的一種回火爐。目前的回火爐是雙層水冷結(jié)構(gòu)，有的保溫層是碳氈結(jié)構(gòu)，故易吸附水分，而回火溫度只有650℃以下，所以水分一時不會馬上被抽走，由于揮發(fā)慢故易使工件在升溫的過程中產(chǎn)生氧化。該設(shè)備主要由水冷隔熱層和真空隔熱層作為爐臂，爐內(nèi)隔熱層也采用全金屬隔熱屏，以減少其對空氣中水分的吸收，在爐內(nèi)設(shè)有熱循環(huán)風機，可在低溫狀態(tài)下充入高純惰性氣體而將極少部分的水蒸氣趕走。在保證爐內(nèi)在基本無氧狀態(tài)下便可開始升溫回火。這樣便可確保工件的光亮和少無氧化。
文檔編號C21D1/74GK101503754SQ20081024243
公開日2009年8月12日 申請日期2008年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月26日
發(fā)明者顧嘯強 申請人:蘇州市萬泰真空爐研究所有限公司