專利名稱：濺鍍機(jī)的冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型提供一種濺鍍機(jī)部件結(jié)構(gòu)，尤指一種濺鍍機(jī)的冷卻裝置。
技術(shù)背景參閱圖1所示，為習(xí)用濺鍍機(jī)的剖面示意圖，濺鍍機(jī)的結(jié)構(gòu)主要包含有一濺鍍?cè)磍 o，該濺鍍?cè)磇 o以離子濺射原理，先利用電場(chǎng)使兩極間產(chǎn)生電子，這些加速電子會(huì)與真空腔中己預(yù)先充入的惰性氣體碰撞，使其帶正電，這些帶正電 的粒子會(huì)受陰極(耙材)吸引而撞擊陰極，入射離子受到電場(chǎng)作用獲得動(dòng)量，撞擊 靶材表面的原子，這些原子受到正電離子的碰撞得到入射離子的動(dòng)量轉(zhuǎn)移，被撞擊 的靶材表面原子因接受入射離子的動(dòng)量，對(duì)靶材表面下原子造成壓擠使其發(fā)生移 位，此靶材表面下多層原子的擠壓，會(huì)產(chǎn)生垂直靶材表面的作用力而把表面原子碰 撞出去，這些被碰撞出去的原子，最后終于沉積在被鍍物l 5上完成濺鍍；一防著板結(jié)構(gòu)l 1，該防著板結(jié)構(gòu)l l設(shè)于導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)l 2兩側(cè)，防著板結(jié)構(gòu) 11防止原子沉積于置物板1 4以外的機(jī)臺(tái)其他位置；一導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)1 2 ，該導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)1 2設(shè)于輸送帶結(jié)構(gòu)1 3的兩側(cè)，以導(dǎo)引置物板1 4移動(dòng)方向；一輸送帶結(jié)構(gòu)1 3 ，該輸送帶結(jié)構(gòu)1 3輸送置物板1 4經(jīng)過(guò)濺鍍?cè)? 0 ; 數(shù)置物板l 4，提供被鍍物l 5放置；通過(guò)上述組成，被鍍物1 5置于置物板1 4 ，再將置物板1 4置于輸送帶結(jié)構(gòu) 1 3，經(jīng)導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)l 2導(dǎo)引，而經(jīng)過(guò)濺鍍?cè)磍 0完成濺鍍。 惟，其上述習(xí)用的濺鍍機(jī)，仍存在有下列缺失1. 濺鍍?cè)磍 O的濺鍍過(guò)程會(huì)產(chǎn)生廢熱，而真空腔會(huì)有熱累積的問(wèn)題，習(xí)用的 濺鍍機(jī)只能利用金屬材質(zhì)的機(jī)臺(tái)自然導(dǎo)熱散熱，但過(guò)程相當(dāng)緩慢，造成溫度居高不 下，影響被鍍物l 5因過(guò)高溫度產(chǎn)生變形等問(wèn)題，造成不良品的增加。2. 因?yàn)楸诲兾飈 5無(wú)法耐高溫，所以習(xí)用的作法就是加快輸送帶的速度，以 減短被鍍物l 5在高溫環(huán)境的時(shí)間，但短時(shí)間并不能濺鍍完全，所以增加濺鍍機(jī)制 程使濺鍍完成，但如此不僅機(jī)臺(tái)成本增加，制程長(zhǎng)度也變長(zhǎng)，需要較大的場(chǎng)所才能 擺設(shè)。因此，針對(duì)上述習(xí)知結(jié)構(gòu)所存在的問(wèn)題點(diǎn)，如何開(kāi)發(fā)一種更具理想實(shí)用性的創(chuàng) 新結(jié)構(gòu)，實(shí)消費(fèi)者所殷切企盼，亦系相關(guān)業(yè)者須努力研發(fā)突破的目標(biāo)及方向。有鑒于此，創(chuàng)作人本于多年從事相關(guān)產(chǎn)品的制造開(kāi)發(fā)與設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn)，針對(duì)上述的 目標(biāo)，詳加設(shè)計(jì)與審慎評(píng)估后，終得一確具實(shí)用性的本實(shí)用新型。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型目的在于，提供一種濺鍍機(jī)的冷卻裝置，以克服上述傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的缺 陷，達(dá)到降低制程高溫，使制程速度減慢，制程長(zhǎng)度也可縮短，良率提升的實(shí)用效 果。解決問(wèn)題的技術(shù)特點(diǎn)提供一種濺鍍機(jī)的冷卻裝置，包含有 一用于進(jìn)行濺鍍作業(yè)的濺鍍?cè)础?一防著板結(jié)構(gòu)、 一用于輸送置物板經(jīng)過(guò)濺鍍?cè)?的輸送帶結(jié)構(gòu)及用于被鍍物放置的數(shù)置物板；其特征在于， 該防著板結(jié)構(gòu)位于輸送帶結(jié)構(gòu)兩側(cè)；該防著板結(jié)構(gòu)或/和輸送帶結(jié)構(gòu)異于濺鍍區(qū)方向的表面，鎖固有可拆離的用于 降溫濺鍍廢熱的冷卻裝置，該冷卻裝置包含有一控制冷卻效率的控制結(jié)構(gòu)。 其中，該冷卻裝置為液體循環(huán)式冷卻裝置。 其中，該冷卻裝置為水循環(huán)式冷卻裝置。 其中，該冷卻裝置為熱管冷卻裝置。 其中，該控制結(jié)構(gòu)為泵裝置。 其中，該控制結(jié)構(gòu)為壓縮機(jī)裝置。 其中，該控制結(jié)構(gòu)為風(fēng)扇裝置。其中，該防著板結(jié)構(gòu)包含有二塊以上防著板，該防著板鎖設(shè)于濺鍍機(jī)的輸送帶 結(jié)構(gòu)兩側(cè)，冷卻裝置則鎖設(shè)于二防著板的異于濺鍍區(qū)的表面。其中，該輸送帶結(jié)構(gòu)包含有一區(qū)隔板，冷卻裝置裝設(shè)于區(qū)隔板的異于濺鍍區(qū)的 表面。對(duì)照先前技術(shù)的功效一、 習(xí)用濺鍍機(jī)的冷卻不良，造成無(wú)法耐高溫的被鍍物產(chǎn)生變形，不良率居高 不下，本實(shí)用新型的冷卻裝置得以強(qiáng)制冷卻，并可控制冷卻效率，所以被鍍物不致 有因高溫產(chǎn)生變形的情形，良率得以提升。二、 習(xí)用濺鍍機(jī)的濺鍍過(guò)程高溫，所以為了不讓被鍍物變形，就需要加快輸送 帶的速度，但如此會(huì)造成濺鍍不完全，而本實(shí)用新型的冷卻裝置得以控制降低濺鍍 廢熱，所以制程速度得以減緩，濺鍍得以符合需求。三、 習(xí)用濺鍍機(jī)的濺鍍過(guò)程高溫，所以為了不讓被鍍物變形，就需要加快輸送 帶的速度，但如此會(huì)造成濺鍍不完全，必須增加制程設(shè)備與制程長(zhǎng)度及成本，場(chǎng)地 也要配合增加，而本實(shí)用新型的控制降低制程廢熱，所以制程速度得以減緩，而制
程也可以縮短。有關(guān)本實(shí)用新型所采用的技術(shù)、手段及其功效，茲舉一較佳實(shí)施例并配合圖式 詳細(xì)說(shuō)明于后，相信本實(shí)用新型上述的目的、構(gòu)造及特征，當(dāng)可由之得一深入而具 體的了解。


圖1:是習(xí)用濺鍍機(jī)的剖面示意圖。圖2:是本實(shí)用新型其一實(shí)施例濺鍍機(jī)的剖面示意圖。圖3:是本實(shí)用新型其一實(shí)施例防著板鎖設(shè)冷卻裝置的立體示意圖。圖4:是本實(shí)用新型其一實(shí)施例濺鍍機(jī)平面示意圖。圖5:是本實(shí)用新型其一實(shí)施例測(cè)鍍機(jī)流程示意圖。
具體實(shí)施方式
參閱圖2、圖3所示，本實(shí)用新型提供一種濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其一實(shí)施例包括一濺鍍?cè)? 0，該濺鍍?cè)? O以離子濺射原理，先利用電場(chǎng)使兩極間產(chǎn)生電子， 這些加速電子會(huì)與真空腔中己預(yù)先充入的惰性氣體碰揸，使其帶正電，這些帶正電 的粒子會(huì)受陰極(靶材)吸引而撞擊陰極，入射離子受到電場(chǎng)作用獲得動(dòng)量，撞擊 靶材表面的原子，這些原子受到正電離子的碰撞得到入射離子的動(dòng)量轉(zhuǎn)移，被撞擊 的靶材表面原子因接受入射離子的動(dòng)量，對(duì)靶材表面下原子造成壓擠使其發(fā)生移 位，此靶材表面下多層原子的擠壓，會(huì)產(chǎn)生垂直耙材表面的作用力而把表面原子碰 撞出去，這些被碰撞出去的原子，最后終于沉積在被鍍物2 5上完成濺鍍，過(guò)程會(huì) 產(chǎn)生廢熱，且會(huì)于真空腔內(nèi)累積；一防著板結(jié)構(gòu)2 1 ，該防著板結(jié)構(gòu)2 1設(shè)于輸送帶結(jié)構(gòu)2 3兩側(cè)，防著板結(jié)構(gòu) 2 1防止原子沉積于置物板2 4以外的機(jī)臺(tái)其他位置，防著板結(jié)構(gòu)2 1必要時(shí)需拆 卸下來(lái)，作必要的清潔動(dòng)作；一輸送帶結(jié)構(gòu)2 3 ，該輸送帶結(jié)構(gòu)2 3輸送置物板2 4經(jīng)過(guò)濺鍍?cè)? 0 ;數(shù)置物板2 4 ，提供被鍍物2 5放置；主要在于防著板結(jié)構(gòu)2 1異于濺鍍區(qū)2 6方向防著板表面2 11，鎖設(shè)固定 可拆離的冷卻裝置4 0 ，該冷卻裝置4 O可為水冷、液冷或熱管冷卻等等除了自然 散熱以外的強(qiáng)制散熱，以冷卻裝置4 O可以降低真空腔內(nèi)的濺鍍制程所累積的廢 熱，如此可使制程速度減緩，制程長(zhǎng)度也可縮短，良率也可提升。另一方面，輸送帶結(jié)構(gòu)2 3包含有輸送輪2 3 1間所設(shè)的區(qū)隔板2 3 2 ，區(qū)隔 板2 3 2僅供輸送輪2 3 1的部分輪面穿貫出，區(qū)隔板2 3 2據(jù)以區(qū)隔濺鍍區(qū)2 6 與傳動(dòng)區(qū)，區(qū)隔板2 l異于濺鍍區(qū)2 6方向表面2 3 3，鎖設(shè)固定可拆離的冷卻裝 置4 1 ，該冷卻裝置4 l可為水冷、液冷或熱管冷卻等等除了自然散熱以外的強(qiáng)制 散熱，以冷卻裝置4 l可以降低真空腔內(nèi)的濺鍍制程所累積的廢熱，如此可使制程 速度減緩，制程長(zhǎng)度也可縮短，良率也可提升。所述冷卻裝置4 0或4 1更包含有一控制結(jié)構(gòu)5 0 ，以其控制結(jié)構(gòu)5 0控制冷 卻裝置4 0或4 l的冷卻效率，該控制結(jié)構(gòu)5 O可為泵浦裝置、壓縮機(jī)裝置、風(fēng)扇 裝置。通過(guò)上述組成，被鍍物2 5置于置物板2 4 ，再將置物板2 4置于輸送帶結(jié)構(gòu)2 3，經(jīng)導(dǎo)引而經(jīng)過(guò)濺鍍?cè)? O完成濺鍍。參閱圖4、圖5所示，本實(shí)用新型提供一種濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其一實(shí)施例流 程，包括該被鍍物2 5被置于置物板2 4之上，而置物板2 5則置于輸送帶結(jié)構(gòu)2 3 上，置物板2 5首先經(jīng)過(guò)濺鍍機(jī)的輸入裝置3 l送入濺鍍機(jī)內(nèi)部，其后以清潔裝置3 2將被鍍物2 5確實(shí)的清潔，以利濺鍍的附著，清潔之后進(jìn)入第一緩沖裝置3 3 緩沖一段時(shí)間，再將置物板2 4連同被鍍物2 5送入濺鍍裝置3 4濺鍍，濺鍍完成 后，經(jīng)第二緩沖裝置3 5以一段時(shí)間緩沖后，由輸出裝置3 6將置物板2 4連同被 鍍物2 5送出，最后乃完成所有濺鍍制程。所述濺鍍裝置3 4、緩沖裝置3 3或3 5均可依需求增加。 前文針對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例為本實(shí)用新型的技術(shù)特征進(jìn)行具體的說(shuō)明； 惟，熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士當(dāng)可在不脫離本實(shí)用新型的精神與原則下對(duì)本實(shí)用新型進(jìn) 行變更與修改，而該等變更與修改，皆應(yīng)涵蓋于本申請(qǐng)專利范圍所界定的范疇中。
權(quán)利要求1.一種濺鍍機(jī)的冷卻裝置，包含有一用于進(jìn)行濺鍍作業(yè)的濺鍍?cè)础⒁环乐褰Y(jié)構(gòu)、一用于輸送置物板經(jīng)過(guò)濺鍍?cè)吹妮斔蛶ЫY(jié)構(gòu)及用于被鍍物放置的數(shù)置物板；其特征在于，該防著板結(jié)構(gòu)位于輸送帶結(jié)構(gòu)兩側(cè)；該防著板結(jié)構(gòu)或/和輸送帶結(jié)構(gòu)異于濺鍍區(qū)方向的表面，鎖固有可拆離的用于降溫濺鍍廢熱的冷卻裝置，該冷卻裝置包含有一控制冷卻效率的控制結(jié)構(gòu)。
2. 如權(quán)利要求l所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該冷卻裝置為液體 循環(huán)式冷卻裝置。
3. 如權(quán)利要求2所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該冷卻裝置為水循 環(huán)式冷卻裝置。
4. 如權(quán)利要求l所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該冷卻裝置為熱管 冷卻裝置。
5. 如權(quán)利要求1所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該控制結(jié)構(gòu)為泵裝置。
6. 如權(quán)利要求l所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該控制結(jié)構(gòu)為壓縮 機(jī)裝置。
7. 如權(quán)利要求l所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該控制結(jié)構(gòu)為風(fēng)扇裝置。
8. 如權(quán)利要求l所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該防著板結(jié)構(gòu)包含 有二塊以上防著板，該防著板鎖設(shè)于濺鍍機(jī)的輸送帶結(jié)構(gòu)兩側(cè)，冷卻裝置則鎖設(shè)于 二防著板的異于濺鍍區(qū)的表面。
9. 如權(quán)利要求l所述的濺鍍機(jī)的冷卻裝置，其特征在于，該輸送帶結(jié)構(gòu)包含 有一區(qū)隔板，冷卻裝置裝設(shè)于區(qū)隔板的異于濺鍍區(qū)的表面。
專利摘要一種濺鍍機(jī)的冷卻裝置，系針對(duì)于濺鍍過(guò)程易累積高溫，造成變形與不良品問(wèn)題，特于輸送帶結(jié)構(gòu)或/及防著板結(jié)構(gòu)的異于濺鍍區(qū)方向，鎖設(shè)可拆離的冷卻裝置，冷卻裝置可為水冷、液冷或熱管冷卻等，以冷卻裝置降低高溫，從而，可使制程速度減緩，制程長(zhǎng)度也可縮短，良率也可提升。
文檔編號(hào)C23C14/34GK201031253SQ200720141078
公開(kāi)日2008年3月5日 申請(qǐng)日期2007年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月26日
發(fā)明者賴翠仙 申請(qǐng)人:建銫科技股份有限公司