專利名稱：具有隱形圖案的基材及其加工方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種適用于眼鏡片、包裝瓶等產(chǎn)品的基材，與基材上 隱形圖案的結(jié)構(gòu)與加工方法有關(guān)。
背景技術(shù)：
通常，很多高檔產(chǎn)品(如眼鏡、酒等)都會(huì)在產(chǎn)品本身或包裝上 加印商標(biāo)標(biāo)識(shí)或仿偽標(biāo)記，以體現(xiàn)產(chǎn)品的品質(zhì)。但是，目前這些商標(biāo) 標(biāo)識(shí)或仿偽標(biāo)記多以標(biāo)貼形式出現(xiàn)，比如在眼鏡片上貼有透明膜， 透明膜上印有商標(biāo)標(biāo)識(shí)^^仿偽標(biāo)記，酒瓶或飲料瓶上貼有標(biāo)貼等等。 這樣的眼鏡片在使用時(shí)，商標(biāo)標(biāo)識(shí)或仿偽標(biāo)記會(huì)遮擋視線，造成使用 效果欠佳；而酒瓶或飲料瓶則會(huì)因標(biāo)貼遮擋，無(wú)法令消費(fèi)者一目了然 地看清瓶中內(nèi)容物，造成銷售麻煩……因此，研制一種能夠?qū)⑸虡?biāo)標(biāo) 識(shí)或仿偽標(biāo)記等圖案隱形在產(chǎn)品或包裝上的技術(shù)，實(shí)有必要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種具有隱形圖案的基材及其加工方法， 使圖案僅在一定條件下呈現(xiàn)，方便產(chǎn)品使用及銷售。 為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明的解決方案是
具有隱形圖案的基材，包括基材層和圖案層，圖案層為低折射率 氧化膜，圖案層鍍?cè)诨膶拥谋砻妗?br> 上述低折射率氧化膜為氧化硅膜、氟化鎂膜。 上述基材層為透明材質(zhì)、半透明材質(zhì)或不透明材質(zhì)。 上述圖案層鍍?cè)诨膶拥耐獗砻婊騼?nèi)表面。
具有隱形圖案的基材加工方法，先依要呈現(xiàn)的圖案制作鏤空的冶 具，再將此冶具裝在基材層的表面，然后送入鍍膜機(jī)臺(tái)，將機(jī)臺(tái)抽成 真空后，鍍上低折射率氧化膜材料形成圖案層，再經(jīng)電極處理(電離 子交換)，即完成具有隱形圖案的基材加工。
釆用上述方案后，本發(fā)明因?yàn)樵谥谱鳟a(chǎn)品或包裝的基材上通過(guò)鍍 膜增加一層低折射率氧化膜圖案層，此低折射率氧化膜在通常情況下 呈無(wú)色透明狀而僅在霧氣下顯現(xiàn)出來(lái)，所以，用具有此低折射率氧化 膜圖案層的基材制成產(chǎn)品(如眼鏡片)或包裝(如酒瓶或飲料瓶)后，在通常情況下，圖案層(商標(biāo)標(biāo)識(shí)或仿偽標(biāo)記等圖案)是隱形在產(chǎn)品 或包裝上，若欲進(jìn)行檢驗(yàn)，只需在隱形圖案處呵氣產(chǎn)生霧氣，即可使 隱形圖案現(xiàn)形，如此，既方便產(chǎn)品使用及銷售，又方便使用者和銷售 人員驗(yàn)證真?zhèn)巍?br>

圖l是本發(fā)明基材的外觀圖； 圖1A是圖1的局部剖視圖； 圖2是本發(fā)明基材的加工示意圖； 圖3是本發(fā)明基材的加工流程圖。
具體實(shí)施例方式
參閱圖1、圖1A所示，是本發(fā)明運(yùn)用于眼鏡片的實(shí)施例，本發(fā) 明運(yùn)用于酒瓶、飲料瓶或其它產(chǎn)品及包裝上時(shí)與此實(shí)施例相同，請(qǐng)參 見(jiàn)此實(shí)施例。
本發(fā)明揭示的具有隱形圖案的基材，包括基材層1和圖案層2。 其中，基材層l可以為透明材質(zhì)(如眼鏡片、酒瓶、飲料瓶等，眼鏡 片可以是任意的一種眼鏡片，如光學(xué)鏡片或非光學(xué)鏡片，可以有偏光 膜等等)、半透明材質(zhì)或不透明材質(zhì)(如一些包裝物等)。圖案層2為 低折射率氧化膜，如氧化硅膜、氟化鎂膜，圖案層2鍍?cè)诨膶?的 外表面(如酒瓶、飲料瓶等包裝物的外表面，眼鏡片的外表面)或內(nèi) 表面(如眼鏡片的內(nèi)表面)。
具體加工方法如圖3所示，先依要呈現(xiàn)的商標(biāo)標(biāo)識(shí)或仿偽標(biāo)記等 圖案制作鏤空的冶具3，如圖2所示，再將此冶具3裝在基材層1的 表面，然后送入鍍膜機(jī)臺(tái)，將機(jī)臺(tái)抽成真空后，鍍上低折射率氧化膜 材料形成圖案層2，如圖1所示，再經(jīng)電極處理(電離子交換)，即 完成具有隱形圖案的基材加工。
用本發(fā)明的基材制成產(chǎn)品(如眼鏡片)或包裝(如酒瓶或飲料瓶) 后，因?yàn)榈驼凵渎恃趸さ奶匦詻Q定，在通常情況下，圖案層2 (商 標(biāo)標(biāo)識(shí)或仿偽標(biāo)記等圖案)是隱形在產(chǎn)品或包裝上，若欲進(jìn)行檢驗(yàn)， 只需在圖案層2處呵氣產(chǎn)生霧氣，即可使隱形圖案現(xiàn)形，如此，既方 便產(chǎn)品使用及銷售，又方便使用者和銷售人員驗(yàn)證真?zhèn)巍?br> 權(quán)利要求
1、具有隱形圖案的基材，其特征在于包括基材層和圖案層，圖案層為低折射率氧化膜，圖案層鍍?cè)诨膶拥谋砻妗?br> 2、 如權(quán)利要求1所述具有隱形圖案的基材，其特征在于低折 射率氧化膜為氧化硅膜。
3、 如權(quán)利要求1所述具有隱形圖案的基材，其特征在于低折 射率氧化膜為氟化鎂膜。
4、 如權(quán)利要求1所述具有隱形圖案的基材，其特征在于基材 層為透明材質(zhì)。
5、 如權(quán)利要求1所述具有隱形圖案的基材，其特征在于基材 層為半透明材質(zhì)。
6、 如權(quán)利要求1所述具有隱形圖案的基材，其特征在于基材 層為不透明材質(zhì)。
7、 如權(quán)利要求1所述具有隱形圖案的基材，其特征在于圖案 層鍍?cè)诨膶拥耐獗砻妗?br> 8、 如權(quán)利要求.l所述具有隱形圖案的基材，其特征在于圖案 層鍍?cè)诨膶拥膬?nèi)表面。
9、 具有隱形圖案的基材加工方法，其特征在于先依要呈現(xiàn)的 圖案制作鏤空的冶具，再將此冶具裝在基材層的表面，然后送入鍍膜 機(jī)臺(tái)，將機(jī)臺(tái)抽成真空后，鍍上低折射率氧化膜材料形成圖案層，再 經(jīng)電極處理，即完成具有隱形圖案的基材加工。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種具有隱形圖案的基材及其加工方法。具有隱形圖案的基材包括基材層和圖案層，圖案層為低折射率氧化膜，圖案層鍍?cè)诨膶拥谋砻?。加工方法是先依要呈現(xiàn)的圖案制作鏤空的冶具，再將此冶具裝在基材層的表面，然后送入鍍膜機(jī)臺(tái)，將機(jī)臺(tái)抽成真空后，鍍上低折射率氧化膜材料形成圖案層，再經(jīng)電極處理。用此基材制成產(chǎn)品(如眼鏡片)或包裝(如酒瓶或飲料瓶)后，在通常情況下，圖案層是隱形在產(chǎn)品或包裝上，只在霧氣下才可使隱形圖案現(xiàn)形，如此，既方便產(chǎn)品使用及銷售，又方便使用者和銷售人員驗(yàn)證真?zhèn)巍?br> 文檔編號(hào)C23C30/00GK101289046SQ200710008848
公開(kāi)日2008年10月22日 申請(qǐng)日期2007年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月17日
發(fā)明者楊敏男 申請(qǐng)人:廈門虹泰光學(xué)有限公司