專利名稱：化學(xué)鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種化學(xué)鍍裝置。
背景技術(shù)：
化學(xué)鍍鎳技術(shù)是采用金屬鹽和還原劑，在材料表面發(fā)生自催化反應(yīng)獲得鍍層的方法?；瘜W(xué)鍍鎳層具有較高的抗腐蝕性、高耐磨性、與基體結(jié)合力強(qiáng)、不受制件形狀限制等優(yōu)點?；瘜W(xué)鍍鎳技術(shù)廣泛應(yīng)用于石油、化工、電子、航天、汽車等工業(yè)。
化學(xué)鍍鎳具有以下優(yōu)越的工藝特點(1)不存在氫脆問題，即生成的氫氣不會滲透到基體金屬中，也不會滲透到鍍層中。
(2)可沉積于各種材料表面。
(3)沉積層厚度可控，其工藝簡單，操作方便，溫度低，成本低。
(4)鍍層厚度比電鍍層均勻?；瘜W(xué)鍍鎳可避免電鍍層由于電流分布不均勻而帶來的厚度不均勻，電鍍層的厚度在整個零件尤其是形狀復(fù)雜的零件上差異較大，零件的邊角和離陽極近的部位，鍍層較厚，而于內(nèi)表面或離陽極遠(yuǎn)的地方鍍層很薄，甚至鍍不到，采用化學(xué)鍍可避免電鍍此不足。
但是，影響化學(xué)鍍鎳厚度均勻性的因素仍然存在。由于受欲鍍件表面析出的氫氣流和鍍液濃度差異的影響，外殼的鍍層均勻度仍有差異。為了保證外殼鍍層的均勻性和理想的鍍速，化學(xué)鍍鎳槽必須配備溶液攪拌裝置，使鍍液具有一定流速，以及時驅(qū)開欲鍍件表面的氣泡，消除鍍液濃度差異，并避免鍍液局部過熱而造成鎳于鍍槽表面析出。
如圖1所示，一般的化學(xué)鍍裝置10采用空氣攪拌系統(tǒng)。該化學(xué)鍍裝置10包括一主體11，用于容納鍍液；一設(shè)于該主體11上方的吊臂掛臺12，用于懸掛欲鍍件13；一設(shè)于該主體11內(nèi)部底端的多孔管道14，其外接充氣裝置(圖未示)。該充氣裝置向多孔管道充氣，該多孔管道14產(chǎn)生許多氣泡向上運動，氣泡可將欲鍍件表面13產(chǎn)生的氫氣微氣泡帶走并向外排放，這樣可高速均勻地完成化學(xué)鍍。但是，若欲鍍件為平整外形，尚可鍍出較均勻表面；若欲鍍件為具有細(xì)小凹凸外形，則不易形成厚度均勻的鍍層，并且易于欲鍍件表面形成針孔性現(xiàn)象；而且使用空氣攪拌容易帶進(jìn)油污，增加鍍液熱量損耗。
如圖2所示，2002年8月14日公告的第98108482.6號中國專利揭露一種采用振動裝置的化學(xué)鍍裝置20，其包括一主體21，用于容納鍍液；一振動支架22，其通過若干支撐彈簧27連接于主體21上端；該振動支架22包括兩伸入槽液的振動幅架22a、22b；一振動棒28連接于該兩振動幅架22a、22b，該振動棒28設(shè)有若干振動葉片29；一振動馬達(dá)25連接該振動支架22和一重量平衡器26。該化學(xué)鍍裝置20通過振動馬達(dá)25控制振動支架22和振動棒28，使振動葉片29攪拌槽液達(dá)到去除氫氣泡的目的。但是，該化學(xué)鍍裝置20的振動結(jié)構(gòu)過于復(fù)雜，而且其振動具有滯后性，振動經(jīng)過幾次傳遞以后造成過多能量消耗。
有鑒于此，提供一種具有結(jié)構(gòu)簡單、能耗低以及鍍膜均勻性良好的化學(xué)鍍裝置實為必要。

發(fā)明內(nèi)容以下，將以若干實施例說明一種具有結(jié)構(gòu)簡單、能耗低以及鍍膜均勻性良好的化學(xué)鍍裝置。
為實現(xiàn)上述內(nèi)容，提供一種化學(xué)鍍裝置，其包括一主體，用于容納鍍液；一承載裝置，用于承載欲鍍件；至少一攪拌器設(shè)于主體內(nèi)部底端。
其中，該攪拌器外接驅(qū)動裝置。
優(yōu)選的，該承載裝置可相對于主體轉(zhuǎn)動。
進(jìn)一步的，該承載裝置包括一設(shè)于該主體上方的固定部和一承載部，其固定于該固定部，用于承載欲鍍件。
與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本技術(shù)方案的化學(xué)鍍裝置采用外接驅(qū)動裝置的攪拌器，其能有效快速控制轉(zhuǎn)速和旋轉(zhuǎn)方向，使鍍液具有一定流速，及時驅(qū)開欲鍍件表面的氣泡、避免鍍液局部過熱而造成鎳在主體表面析出，使鍍膜均勻性良好；且可轉(zhuǎn)動的承載裝置可控制旋轉(zhuǎn)速度和旋轉(zhuǎn)方向，配合攪拌器可以找出最佳的化學(xué)鍍鎳實驗參數(shù)；另外，該承載裝置的承載部可采用承載若干欲鍍件的結(jié)構(gòu)，也能提高產(chǎn)品產(chǎn)量。綜上所述，本技術(shù)方案的鍍槽具有結(jié)構(gòu)簡單、能耗低、產(chǎn)量高以及鍍膜均勻性良好的優(yōu)點。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)的化學(xué)鍍裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是第98108482.6號中國專利的化學(xué)鍍裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本技術(shù)方案實施例的化學(xué)鍍裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
請參閱圖3，本發(fā)明實施例的化學(xué)鍍裝置30，其包括一主體31，用于容納鍍液；一承載裝置(未標(biāo)示)；至少一攪拌器34設(shè)于主體31內(nèi)部底端，并外接驅(qū)動裝置(圖未示)；一溫控加熱器35，其一加熱端伸入鍍液中，用于控制鍍液的溫度。
本實施例的主體31可選用不銹鋼殼體，并于該殼體內(nèi)壁噴涂適當(dāng)厚度的聚四氟乙烯。由于聚四氟乙烯具有良好的耐溫性，絕緣性，耐酸、堿、鹽腐蝕性，同時不粘鍍液，容易清洗和修補(bǔ)，所以非常適用于化學(xué)鍍。
本技術(shù)方案的承載裝置可相對于主體31轉(zhuǎn)動，其包括一設(shè)于該主體31上方的固定部32和一浸入鍍液的承載部33，用于承載欲鍍件。通過固定部32的旋轉(zhuǎn)帶動并控制承載部33的轉(zhuǎn)動方向和速度。該固定部32與該承載部33可以一體成型，也可以采用相連接的方式分開成兩部件組裝。
本實施例中的固定部32和承載部33采用螺桿連接的方式相互結(jié)合。本實施例的承載部33為環(huán)狀柱體，在其外緣表面設(shè)有多道凹槽331，并藉此以將柱體等分成多個等分，未設(shè)有凹槽331處即形成凸緣332，在每一凸緣332上都朝內(nèi)設(shè)有多個承接孔333，各承接孔的內(nèi)緣上、下側(cè)呈一傾斜面(圖未示)，用以承接欲鍍件(圖未示)，各凸緣332上的承接孔333與其兩相鄰的凸緣332上的承接孔333呈交錯排列，以避免相鄰欲鍍件(圖未示)過于緊密，影響鍍層質(zhì)量。該承載部33的環(huán)狀柱體中心設(shè)有一螺紋開口，通過螺桿36與固定部32相連接?？梢岳斫獾氖?，本實施例的該固定部32與該承載部33的連接也可采用其它方便操作的活動連接方法。
本實施例的攪拌器34為葉形，其包括一旋轉(zhuǎn)軸341和固定于該旋轉(zhuǎn)軸341側(cè)面的若干葉片342。該葉片342可采用金屬、合成樹脂等材料。如采用金屬材料，可選用鈦、鋁、銅、鋼、不銹鋼或其合金；如采用合成樹脂，可選用聚碳酸酯、氯乙烯基樹脂、聚丙烯等。另，可以理解的是，本實施例的葉形攪拌器34，其結(jié)構(gòu)并不限于若干葉片342固定于旋轉(zhuǎn)軸341的結(jié)構(gòu)，也可采用一體成形的葉片組件，其底座具有一與旋轉(zhuǎn)軸搭配的固定裝置，在該旋轉(zhuǎn)軸的帶動下葉片組件同樣能起到攪拌鍍液的效果。
本實施例的鍍液可以采用硫酸鎳、次磷酸鈉和檸檬酸銨以適當(dāng)比例調(diào)配。在使用該鍍槽30進(jìn)行化學(xué)鍍鎳時，需將配置好的鍍液注入化學(xué)鍍槽主體，使鍍液保持適當(dāng)高度；通過溫控加熱器35加熱鍍液，使鍍液保持在40度左右；啟動攪拌器34并一直保持工作狀態(tài)。在鍍液攪拌均勻后，將裝好欲鍍件(圖未示)的承載部33浸入鍍液，并通過固定部32控制承載部33的轉(zhuǎn)速和方向。為了得到更好的鍍層，其旋轉(zhuǎn)方向可與攪拌器34旋轉(zhuǎn)方向相反。
可以理解的是，本技術(shù)方案的承載部可以采用市面上已出現(xiàn)的各種夾具，只要其能滿足固定欲鍍件的功能且不與鍍液發(fā)生反應(yīng)即可，如具有單一或若干夾緊裝置的夾具。本技術(shù)方案的攪拌器除了采用葉形攪拌器外，也可采用其它結(jié)構(gòu)簡單的機(jī)械式攪拌裝置，只要其能滿足于外部激活裝置的作用下，該機(jī)械式攪拌器能有效快速控制轉(zhuǎn)速和旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行低能耗的工作。另外，為了達(dá)到更好的攪拌鍍液的效果，同樣可于鍍槽內(nèi)部底端設(shè)置多個攪拌器。
當(dāng)然，本技術(shù)方案的化學(xué)鍍裝置不僅適用于化學(xué)鍍鎳，其同樣可廣泛適用于各種化學(xué)鍍，如化學(xué)鍍銅、化學(xué)鍍金等。
本技術(shù)方案的化學(xué)鍍裝置采用外接驅(qū)動裝置的攪拌器，其能有效快速控制轉(zhuǎn)速和旋轉(zhuǎn)方向，使鍍液具有一定流速，及時驅(qū)開欲鍍件表面的氣泡、避免鍍液局部過熱而造成鎳于主體表面析出，使鍍膜均勻性良好；而且可旋轉(zhuǎn)的承載裝置可控制旋轉(zhuǎn)速度和旋轉(zhuǎn)方向，配合攪拌器可以找出最佳的化學(xué)鍍鎳實驗參數(shù)；另外，該承載裝置的承載部可以采用承載若干欲鍍件的結(jié)構(gòu)，也能提高產(chǎn)品產(chǎn)量。所以，本技術(shù)方案的鍍槽具有結(jié)構(gòu)簡單、能耗低、產(chǎn)量高以及鍍膜均勻性良好的優(yōu)點。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本發(fā)明精神內(nèi)做其他變化，當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍的內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種化學(xué)鍍裝置，其包括一主體，用于容納鍍液；一承載裝置，用于承載欲鍍件；其特征在于進(jìn)一步包括至少一攪拌器設(shè)于該主體內(nèi)部底端。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于主體為不銹鋼殼體。
3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于不銹鋼殼體內(nèi)壁噴涂聚四氟乙烯層。
4.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于鍍液含有硫酸鎳、次磷酸鈉和檸檬酸銨。
5.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于承載裝置可相對于主體轉(zhuǎn)動，其包括一設(shè)于該主體上方的固定部和一承載部，其固定于該固定部，用于承載欲鍍件。
6.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于承載部為一環(huán)狀柱體，在其外緣表面設(shè)有多道凹槽，并藉此以將柱體等分成多個等分，未設(shè)有凹槽處即形成凸緣，在每一凸緣上都朝內(nèi)設(shè)有多個承接孔，用以承接欲鍍件。
7.如權(quán)利要求6所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于環(huán)狀柱體中心設(shè)有一螺紋開口，用于與一螺桿相連接。
8.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于固定部通過螺桿連接該承載部。
9.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于攪拌器包括葉形攪拌器。
10.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于葉形攪拌器包括一旋轉(zhuǎn)軸和固定于該旋轉(zhuǎn)軸側(cè)面的若干葉片。
11.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于葉形攪拌器包括一旋轉(zhuǎn)軸和一葉片組件，其底座具有一與該旋轉(zhuǎn)軸搭配的固定裝置。
12.如權(quán)利要求10或11所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于葉片為金屬或合成樹脂材料制成。
13.如權(quán)利要求12所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于金屬包括鈦、鋁、銅、鋼、不銹鋼或其合金。
14.如權(quán)利要求12所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于合成樹脂包括聚碳酸酯、氯乙烯基樹脂、聚丙烯。
15.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)鍍裝置，其特征在于化學(xué)鍍裝置進(jìn)一步包括一溫控加熱器，其一加熱端伸入鍍液中，用于控制鍍液的溫度。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種化學(xué)鍍裝置，其包括一主體，用于容納鍍液；一承載裝置，用于承載欲鍍件；和至少一攪拌器設(shè)于主體內(nèi)部底端。其中，該攪拌器外接驅(qū)動裝置。本技術(shù)方案的化學(xué)鍍裝置具有結(jié)構(gòu)簡單、能耗低、產(chǎn)量高以及鍍膜均勻性良好的優(yōu)點。
文檔編號C23C22/00GK1834290SQ20051003373
公開日2006年9月20日 申請日期2005年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月18日
發(fā)明者黃全德 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司