專利名稱:光學(xué)鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實用新型是關(guān)于一種光學(xué)鍍膜裝置,尤其是關(guān)于一種具旋轉(zhuǎn)擋流板的光學(xué)鍍膜裝置。
背景技術(shù):
目前,光學(xué)薄膜廣泛應(yīng)用在光學(xué)儀器,如傳感器、半導(dǎo)體雷射、干涉儀、眼鏡及光纖通訊元件等很多領(lǐng)域。光學(xué)薄膜通常是利用干涉作用而達到其預(yù)期效果,是指在光學(xué)組件或獨立基板上鍍上一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜來改變光波傳送特性。
目前,光學(xué)薄膜制作通常以物理蒸鍍法為主(physics vapordeposition,簡稱PVD),該方法為將薄膜材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)或離子態(tài),氣態(tài)或離子態(tài)的材料,由蒸發(fā)源穿越空間,抵達基板表面,材料抵達基板表面后,將沉積而逐漸形成薄膜。通常,為了制作高純度的薄膜,鍍膜制程須在高真空環(huán)境下完成。由此延伸出真空鍍膜,一般做法為將基片以超聲波洗凈機洗凈,洗凈后排上夾具,送入鍍膜機,進行加熱和抽真空。達到高真空后,開始鍍膜。鍍膜時,以電子槍或電阻式加熱,將薄膜材料變成離子態(tài),鍍膜時間則視層數(shù)及程序不同而有長短。鍍膜完畢后,待溫度冷卻后取出。
但是現(xiàn)有的光學(xué)鍍膜設(shè)備中,為控制鍍膜的厚度分布,通常利用特殊幾何形狀的擋流板隔離離子流以適當調(diào)整空間離子流的分布,使鍍膜厚度得到控制。如公開于2003年12月3日的中國發(fā)明專利第1459517號,其揭示一鍍膜裝置及鍍膜方法,請參閱圖5,該鍍膜裝置包括一轉(zhuǎn)盤11、一遮板12及一鍍材源13。其中,轉(zhuǎn)盤11能規(guī)律旋轉(zhuǎn);遮板12依照鍍膜層3的特定厚度而設(shè)置,設(shè)置在靠近基板2的位置;鍍材源13與轉(zhuǎn)盤11相對而設(shè),而使該遮板12設(shè)置在兩者之間。遮板12的形狀是依照鍍膜層3的特定厚度而設(shè)計,具體而言,遮板12的形狀是由多個同心圓弧所構(gòu)成。但是上述方案中遮板12固定不動,因此對不同要求的待鍍基片,需要更換不同幾何形狀的擋流板,且遮板12形狀也比較復(fù)雜,需經(jīng)反復(fù)修正方可達到要求,因此該方案的鍍膜成本較高。
針對上述問題,有必要提供一種降低鍍膜成本、容易實現(xiàn)鍍膜均勻性的光學(xué)鍍膜裝置。
實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種降低鍍膜成本、容易實現(xiàn)鍍膜均勻性的光學(xué)鍍膜裝置。
為了實現(xiàn)上述目的,該光學(xué)鍍膜裝置包括鍍膜室、承載架、旋轉(zhuǎn)馬達及蒸鍍源,該光學(xué)鍍膜裝置進一步包括擋流板,該擋流板可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在承載架與蒸鍍源之間。
為了更加體現(xiàn)本實用新型的目的,該光學(xué)鍍膜裝置的擋流板旋轉(zhuǎn)速率可控制,可通過變化擋流板的轉(zhuǎn)動速率,來改變其等效幾何形狀。
相較現(xiàn)有技術(shù),本實用新型的光學(xué)鍍膜裝置由于不需要直接修正擋流板的幾何形狀,因此降低鍍膜成本、鍍膜程序簡單、容易實現(xiàn)鍍膜均勻性。
圖1是本實用新型第一實施例的光學(xué)鍍膜裝置剖視圖;圖2是本實用新型光學(xué)鍍膜裝置的擋流板;圖3是本實用新型第二實施例的光學(xué)鍍膜裝置剖視圖;圖4是適用于本實用新型光學(xué)鍍膜裝置的另一形狀擋流板;圖5是現(xiàn)有鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式請參閱圖1,本實用新型光學(xué)鍍膜裝置10包括一鍍膜室20、一承載架30、一擋流板40、一旋轉(zhuǎn)馬達50及一蒸鍍源60。
該光學(xué)鍍膜裝置10還包括一連軸器301及一承載架支撐軸302,該承載架支撐軸302的一端通過連軸器301與旋轉(zhuǎn)馬達50連接,其另一端與承載架30相連。本實施例中,該承載架30為圓盤形,其上可固定復(fù)數(shù)個待鍍基片(圖未示)。
該光學(xué)鍍膜裝置10還包括一變速器401及一擋流板支撐軸402,旋轉(zhuǎn)馬達50的輸出端通過變速器401與擋流板支撐軸402相連,該擋流板支撐軸402的另一端連接有擋流板40。
一并參閱圖2,該擋流板40為十字形狀,其對稱中心部位設(shè)置有通孔403,擋流板支撐軸402的與擋流板40相配合一端設(shè)置有螺紋孔(圖未示),一螺栓(圖未示)通過擋流板40的通孔403并與擋流板支撐軸402配合。該擋流板支撐軸402為實心細軸,承載架支撐軸302為空心粗軸,該擋流板支撐軸402穿過承載架支撐軸302,以使擋流板40與承載架30的旋轉(zhuǎn)軸保持同心。
蒸鍍源60位于擋流板40下適當距離處,且正對該擋流板40的幾何中心,其加熱方式可為電阻式蒸鍍法或電子束蒸鍍法。
鍍膜時,通過連軸器301與旋轉(zhuǎn)馬達50相連的承載架30按一定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn),同時,通過變速器401與旋轉(zhuǎn)馬達50相連的擋流板40也旋轉(zhuǎn),且通過改變變速器401的轉(zhuǎn)速,來控制擋流板40的旋轉(zhuǎn)速率,使其等效幾何形狀改變,通過適當調(diào)整空間離子流的分布,以滿足不同待鍍基板的鍍膜要求。
請參閱圖3,本實用新型光學(xué)鍍膜裝置的第二實施例與第一實施例大致相同,其不同之處在于,承載架30通過連軸器與第一旋轉(zhuǎn)馬達501相連、擋流板40通過變速器與第二旋轉(zhuǎn)馬達502相連,該承載架30與擋流板40的轉(zhuǎn)動由各自獨立的旋轉(zhuǎn)馬達來控制。
本實用新型中利用的最佳實施例相關(guān)擋流板的形狀為十字型。但是本實用新型中主要是改變擋流板的轉(zhuǎn)速而改變其等效幾何形狀,因此其擋流板的形狀可為非對稱結(jié)構(gòu),可以理解,也可以使用如圖4所示的Y字形擋流板(圖中未標示)。
可以理解,本實用新型光學(xué)鍍膜裝置10的真空室20的形狀也可為其它形狀如長方體、正方體、球體或圓柱體。另,該承載架30也可為其它具支撐作用的框架或組件,如其可為半球狀或為一延伸四連桿的承載架或二于其中間交錯連接的二承載桿。
權(quán)利要求1.一種光學(xué)鍍膜裝置,其包括鍍膜室、承載架、旋轉(zhuǎn)馬達及蒸鍍源,其特征在于,該光學(xué)鍍膜裝置進一步包括擋流板,其中,擋流板可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在承載架與蒸鍍源之間。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,該鍍膜室是一種真空鍍膜室。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,該裝置還包括承載架支撐軸及連軸器,該承載架支撐軸的一端與承載架連接,并位于鍍膜室之內(nèi),其另一端通過連軸器與旋轉(zhuǎn)馬達連接,并位于鍍膜室之外。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,該裝置還包括擋流板支撐軸及變速器,該擋流板支撐軸的一端與擋流板連接,并位于鍍膜室之內(nèi),其另一端通過變速器與旋轉(zhuǎn)馬達連接,并位于鍍膜室之外,擋流板的轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,該擋流板為十字形狀,其對稱中心處設(shè)置有一通孔。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,該擋流板為Y形,其中心處設(shè)置有一通孔。
7.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,該承載架支撐軸與該擋流板支撐軸共軸設(shè)置。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,其中承載架支撐軸為空心粗軸,擋流板支撐軸為實心細軸,且該擋流板支撐軸穿過該承載架支撐軸。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鍍膜裝置,其特征在于,其中該鍍膜室的形狀可為長方體、正方體、球體或圓柱體。
10.一種光學(xué)鍍膜裝置,其包括鍍膜室、承載架及蒸鍍源,其特征在于,該光學(xué)鍍膜裝置進一步包括擋流板及兩個旋轉(zhuǎn)馬達,其中,承載架與擋流板的轉(zhuǎn)動由各自獨立的旋轉(zhuǎn)馬達控制,擋流板可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在承載架與蒸鍍源之間,且擋流板的轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)。
專利摘要一種光學(xué)鍍膜裝置,其包括鍍膜室、承載架、旋轉(zhuǎn)馬達及蒸鍍源,該光學(xué)鍍膜裝置進一步包括擋流板,該擋流板可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于承載架與蒸鍍源之間,且擋流板的轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)。本實用新型的光學(xué)鍍膜裝置利用旋轉(zhuǎn)式擋流機制,該光學(xué)鍍膜裝置的擋流板旋轉(zhuǎn)速率可控制,可通過變化擋流板的轉(zhuǎn)動速率,來改變其等效幾何形狀。本實用新型的光學(xué)鍍膜裝置由于不需要直接修正擋流板的幾何形狀,因此降低鍍膜成本、鍍膜程序簡單、容易實現(xiàn)鍍膜均勻性。
文檔編號C23C14/22GK2706477SQ20042004677
公開日2005年6月29日 申請日期2004年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月31日
發(fā)明者林志泉 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司