專利名稱：使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法
技術領域：
本發(fā)明是關于一種使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，尤指一種用離子濺鍍法，于資訊顯示器的顯示面板外壁上，依序濺鍍形成銦錫氧化物透明膜及二氧化硅膜，使資訊顯示器的顯示面板上具備低電阻及低反射率涂層。
眾所周知，一般視訊顯示器的陰極射線管(CRT)表面的反射光強度，約為入射光的4-8％，該反射光對于長時間的使用者而言，極易造成眼睛疲勞傷害，且會降低視訊顯示器上應有的解析度及顏色對比，此外，在現(xiàn)今日趨普及的高解晰度及高畫質顯示器中，由于其驅動電壓一般均高達25KV，極易于顯示器表面上形成靜電壓，導致大氣中微塵粒子吸附在其表面，破壤了顯示器的畫質，且在低濕度區(qū)域內使用該種顯示器時，亦容易令使用者遭受電擊。故一般為解決上述問題，使視訊顯示器符合相關的品質要求，均會在陰極射線管的顯示面板外壁表面上，進行抗眩光、抗反射及抗靜電等的表面處理，通過涂布多數(shù)抗靜電及抗反射涂層的方法，以有效減少光源反射作用對視訊影像所造成的不良影響，并大幅降低其上所累積的靜電壓。近年來，由于消費大眾對顯示器的影像畫質要求日漸提高，視訊顯示器的業(yè)者莫不朝著以設計制造出更高品質及水準的顯示器為目標，因此，視訊顯示器的抗靜電及抗反射效果的好壞，即成為評鑒品質高低的重要標準。


圖1所示為一般傳統(tǒng)的彩色陰極射線管10的縱剖面示意圖，主要包括一密封的玻璃管體12，該玻璃管體12設有玻璃面板14、管頸部18及中間漏斗部16，該玻璃面板14的內壁表面涂布熒光層24，該熒光層24包括多數(shù)個可分別散發(fā)熒光的熒光單元241，該密封玻璃管體12的管頸部18內設有多數(shù)個呈直線排列的電子槍20，用以產生三色電子束22，電子束22經(jīng)一磁偏掃軛的控制，沿水平及垂直方向偏折，并聚焦于該熒光層24上，當該彩色陰極射線管10產生的三色電子束聚焦在該玻璃面板14內壁表面上的各熒光單元241時，該熒光單元241將散發(fā)出有色光，以在該玻璃面板14上顯示視訊影像。
圖2所示為傳統(tǒng)將抗靜電及抗反射涂層應用于彩色陰極射線管的顯示面板上的局部剖面示意圖，該玻璃面板40的內壁表面涂層有熒光層42，其外壁表面涂布有涂層44。該熒光層42是由多數(shù)個彼此間隔且呈點狀或帶狀分布的熒光單元組成。該涂層44包含內層的抗靜電涂層46及外層的抗反射涂層48，該抗靜電涂層46的表面設有導電元件50，通過該導電元件50將該玻璃面板40連接至接地端，以有效去除該玻璃面板40外壁表面所累積的靜電荷；該抗反射涂層48是用以減少該玻璃面板40外壁表面對外界環(huán)境光的反射，使該玻璃面板40上呈現(xiàn)更清晰的視訊影像。
目前在平面直角狀陰極射線管面板上所使用的抗眩光、抗反射及抗靜電的涂布處理，一般用噴涂或旋轉式涂布等“濕法涂布方式”，傳統(tǒng)的涂布材料包括凝膠材料(如硅質凝膠)成分的涂布溶液，其涂布方法是利用涂布裝置，以噴涂或旋轉式涂布方式，呈霧狀微粒均勻涂布在資訊顯示器的顯示棉板的外壁形成抗靜電及抗反射的涂層，或多層抗靜電及抗反射的涂層。其主要缺陷在于1、濕法涂布方式必須仔細考慮所使用的涂布材料的材質與溶劑的分散性，一般包括使用硅質凝膠，造成選材及混配較耗費時間；2、必須使用噴涂裝置，將調配好的涂布材料通過噴涂裝置的噴嘴以霧狀微粒的方式均勻地噴涂在資訊顯示器顯示面板外壁上，常通過多層的涂布形成所需的抗靜電及抗反射涂層，造成各涂層的噴涂量及均勻性較不易控制均勻，較難控制其抗靜電及抗反射涂層的效果及其穩(wěn)定性；3、濕法涂布方式造成大量的涂布材料的浪費，且較難回收及環(huán)境污染。
針對現(xiàn)有技術的缺陷，本發(fā)明人進行研究開發(fā)，創(chuàng)造出本發(fā)明的技術方案。
本發(fā)明的主要目的在于提供一種使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，是利用離子濺鍍方式，在資訊顯示器的顯示面板外壁上，依序形成銦錫氧化物透明膜及二氧化硅膜，通過簡單且無污染的制程，利用該銦錫氧化物膜的低電阻特性及該二氧化硅膜的低反射率特性，達到在該資訊顯示器的顯示面板外壁表面上依序形成一抗靜電及一抗反射涂層的目的。
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的一種使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于它是在濺鍍室中，利用離子濺鍍法，在資訊示器的顯示面板外壁上，先濺鍍形成銦錫氧化物透明膜，再利用離子濺鍍法，于該銦錫氧化物透明膜的外表面濺鍍形成二氧化硅膜，在該資訊顯示器的顯示面板外壁表面上依序形成具備低電阻及低反射率涂層。
該銦錫氧化物透明膜是以離子對銦錫氧化物靶材進行撞擊，令該靶材中的銦錫氧化物成分被撞擊出來，而均勻地附著在該訊顯示器的顯示面板外壁。該銦錫氧化物透明膜是以離子對銦-錫合金靶材進行撞擊，令該靶材中的銦-錫成分被撞擊出來，與濺鍍室中所導入的氧氣中的氧分子發(fā)生反應，形成銦錫氧化物，再均勻地附著在該訊顯示器的顯示面板外壁。該二氧化硅膜是以離子對二氧化硅靶材進行撞擊，令該靶材中的二氧化硅成分被撞擊出來，而均勻地附著在該銦錫氧化物透明膜的表面上。該二氧化硅膜是以離子對硅靶材進行撞擊，令該靶材中的硅成分被撞擊出來，而與該濺鍍室中所導入的氧氣中的氧分子發(fā)生反應，再均勻地附著在該銦錫氧化物透明膜表面上。該銦錫氧化物透明膜的厚度在18-35nm范圍。該二氧化硅膜的厚度在110-140nm范圍。
本發(fā)明的主要優(yōu)點是通過離子濺鍍方式，利用銦錫氧化物膜的低電阻特性及二氧化硅膜的低反射率特性，在資訊顯示器的顯示面板外壁表面上依序形成抗靜電及抗反射涂層，具有方法簡便，均勻性較佳及無污染等優(yōu)點。
下面結合較佳實施例和附圖進一步說明。
圖1是傳統(tǒng)彩色陰極射線管的縱剖面示意圖。
圖2是傳統(tǒng)的彩色陰極射線管的顯示面板上的局部剖面示意圖。
圖3是本發(fā)明的彩色陰極射線管的顯示面板上的局部剖面示意圖。
參閱圖3所示，本發(fā)明主要是針對傳統(tǒng)抗靜電及抗反射涂布層所使用的濕式涂布方法的缺陷，而改用離子濺鍍法，即所謂的“干式涂布法”，達到簡單方便、質量優(yōu)良及防止污染的目的。
在本發(fā)明的較佳實施例中，該離子濺鍍法是在濺鍍室中，以氬氣的正離子對銦錫氧化物的靶材進行撞擊，令該靶材中的銦錫氧化物成分被撞擊出來，而均勻地附著在資訊顯示器的顯示面板外壁，并于其上形成一均勻的銦錫氧化物透明膜46’；再利用離子濺鍍法，以氬氣的正離子對二氧化硅靶材進行僮擊，令該靶材中的二氧化硅成分被撞擊出來，均勻地附著在該資訊顯示器的顯示面板外壁所形成的銦錫氧化物透明膜46’表面上，而形成二氧化硅膜48’。
在本發(fā)明的另一實施例中，該涂布法是在一濺鍍室中，以氬氣的正離子對銦-錫合金的靶材進行撞擊，令該靶材中的銦-錫成分被撞擊出來，并與該濺鍍室中所導入的氧氣中的氧分子發(fā)生反應，而形成銦錫氧化物，均勻地附著在資訊顯示器的顯示面板外壁，于其上形成一均勻的銦錫氧化物透明膜46’。
在本發(fā)明的又一實施例中，該涂布法是利用離子濺鍍法，以氬氣的正離子對硅靶材進行撞擊，令該靶材中的硅成分被撞擊出來，而與濺鍍室中所導入的氧氣中的氧分子發(fā)生反應，再均勻地附著在該資訊顯示器的顯示面板外壁所形成的該銦錫氧化物透明膜46’上，形成二氧化硅膜48’。
在本發(fā)明中，由于該銦錫氧化物透明膜46’具有低電阻的導電特性，故令該銦錫氧化物透明膜46’與該資訊顯示器的顯示面板外壁周緣所設的一導電元件50連接，即形成一抗靜電涂布層46’，該涂布層46’通過該導電元件50將該顯示面板上所累積的靜電壓，導引至與該導電元件連接的一接地端，以有效消除靜電壓對該資訊顯示器所造成的不良影響。
另外，由于該二氧化硅膜48’具有硬度高、反射率低及穿透性高等物理特性，故該二氧化硅膜48’將成為該資訊顯示器的顯示面板外壁上的抗反射涂布層，用以減少該顯示面板外壁表面對外界環(huán)境光的反射，利于該資訊顯示器上的抗靜電及抗反射涂層44’能呈現(xiàn)更清晰的視訊影像。
在本發(fā)明的最佳實施例中，該資訊顯示器的顯示面板外壁表面上，所形成的銦錫氧化物透明膜46’的厚度約在18-35nm范圍之內，而該銦錫氧化物透明膜46’上所涂布的二氧化硅膜48’的厚度110-140nm范圍之內，在該厚度范圍內，又以銦錫氧化物透明膜46’的厚度在20-22nm，且二氧化硅膜48’的厚度在120-125nm的范圍之內，所制作出的資訊顯示器的抗靜電及抗反射涂層44’為最佳。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例，凡熟悉該項技藝人士，依據(jù)本發(fā)明所揭露的技術內容，在其它資訊顯示器，例如電漿顯示器或液晶顯示器的顯示面板上的等效應用，均應屬于本發(fā)明的保護范圍之內。
權利要求
1.一種使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于它是在濺鍍室中，利用離子濺鍍法，在資訊顯示器的顯示面板外壁上，先濺鍍形成銦錫氧化物透明膜，再利用離子濺鍍法，于該銦錫氧化物透明膜的外表面濺鍍形成二氧化硅膜，在該資訊顯示器的顯示面板外壁表面上依序形成具備低電阻及低反射率涂層。
2.如權利要求1所述的使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于該銦錫氧化物透明膜是以離子對銦錫氧化物靶材進行撞擊，令該靶材中的銦錫氧化物成分被撞擊出來，而均勻地附著在該訊顯示器的顯示面板外壁。
3.如權利要求1所述的使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于該銦錫氧化物透明膜是以離子對銦-錫合金靶材進行撞擊，令該靶材中的銦-錫成分被撞擊出來，與濺鍍室中所導入的氧氣中的氧分子發(fā)生反應，形成銦錫氧化物，再均勻地附著在該資訊顯示器的顯示面板外壁。
4.如權利要求1所述的使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于該二氧化硅膜是以離子對二氧化硅靶材進行撞擊，令該靶材中的二氧化硅成分被撞擊出來，而均勻地附著在該銦錫氧化物透明膜的表面上。
5.如權利要求1所述的使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于該二氧化硅膜是以離子對硅靶材進行撞擊，令該硅靶材中的硅成分被撞擊出來，而與該濺鍍室中所導入的氧氣中的氧分子發(fā)生反應，再均勻地附著在該銦錫氧化物透明膜表面上。
6.如權利要求1所述的使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于該銦錫氧化物透明膜的厚度在18-35nm范圍之內。
7.如權利要求1所述的使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法，其特征在于該二氧化硅膜的厚度在110-140nm范圍之內。
全文摘要
一種使資訊顯示器具備低電阻及低反射率涂層的方法,它是在濺鍍室中,利用離子濺鍍法,在資訊顯示器的顯示面板外壁上,先濺鍍形成銦錫氧化物透明膜,再利用離子濺鍍法,于銦錫氧化物透明膜的外表面濺鍍形成二氧化硅膜。通過簡單且無污染的離子濺鍍方式,利用銦錫氧化物膜的低電阻特性及二氧化硅膜的低反射率特性,在資訊顯示器的顯示面板外壁表面上依序形成具備低電阻及低反射率涂層。
文檔編號C23C14/34GK1383934SQ01116109
公開日2002年12月11日 申請日期2001年5月9日 優(yōu)先權日2001年5月9日
發(fā)明者胡俊民, 滕月明 申請人:中華映管股份有限公司