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Pi覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):10254971閱讀:574來源:國知局
Pi覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及激光技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種Pi覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]PI (PolyimideFilm,聚酰亞胺薄膜)覆蓋膜作為一種特種工程材料,已廣泛應(yīng)用在微電子、液晶、分離膜、激光、航空、納米、航天等領(lǐng)域,PI覆蓋膜在工業(yè)應(yīng)用中,需要進(jìn)行精密的紋理切割,對(duì)于大幅面PI覆蓋膜切割,通常的方法是采用激光振鏡系統(tǒng)結(jié)合X-Y電機(jī)模組,即先通過激光振鏡系統(tǒng)進(jìn)行小幅面切割,再通過X-Y電機(jī)模組的移動(dòng)進(jìn)行拼接切割,從而實(shí)現(xiàn)大幅面的切割,系統(tǒng)設(shè)備成本高,切割拼接精度影響PI覆蓋膜質(zhì)量;同時(shí),進(jìn)行激光切割后,PI覆蓋膜的切割邊緣會(huì)存在碳化,表面會(huì)存在粉塵,大大影響PI覆蓋膜質(zhì)量,需通過人工采用液劑進(jìn)行手工擦拭和除塵,生產(chǎn)效率較低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提出一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)PI覆蓋膜的大幅面自動(dòng)激光切割,同時(shí)實(shí)現(xiàn)表面自動(dòng)除碳化。
[0004]為達(dá)此目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]作為本實(shí)用新型的一個(gè)方面,提供的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),包括:工控機(jī),激光器、振鏡系統(tǒng)、長焦距場(chǎng)鏡、定位CCD、輸送裝置和除碳裝置,其中,所述激光器、振鏡系統(tǒng)、定位CCD、輸送裝置及除碳裝置皆與所述工控機(jī)連接,所述輸送裝置上設(shè)置有用于放置待加工PI覆蓋膜的平臺(tái),當(dāng)PI覆蓋膜被加工時(shí),所述平臺(tái)由輸送裝置從長焦距場(chǎng)鏡加工位驅(qū)動(dòng)至除碳裝置加工位,其中,所述輸送裝置包括出卷輥和收卷輥,所述定位CCD位于所述長焦距場(chǎng)鏡加工位的上方以對(duì)所述長焦距場(chǎng)鏡加工位進(jìn)行監(jiān)測(cè)定位。
[0006]優(yōu)選地,所述定位CXD包括:第一定位CXD和第二定位CXD。
[0007]優(yōu)選地,還包括用于調(diào)整光束的光束調(diào)整裝置,所述光束調(diào)整裝置設(shè)置于激光器與振鏡系統(tǒng)之間。
[0008]優(yōu)選地,所述光束調(diào)整裝置包括:激光擴(kuò)束鏡、衰減器和光闌。
[0009]優(yōu)選地,所述振鏡系統(tǒng)為X-Y方向振動(dòng)掃描系統(tǒng)。
[0010]優(yōu)選地,當(dāng)所述平臺(tái)位于長焦距場(chǎng)鏡加工位時(shí),所述工控機(jī)控制振鏡系統(tǒng)按照預(yù)設(shè)的切割圖案和紋理對(duì)所述PI覆蓋膜進(jìn)行切割加工。
[0011]優(yōu)選地,所述除碳裝置為輥對(duì)輥除碳裝置,包括上輥和下輥,所述下輥由工控機(jī)控制自動(dòng)加裝除碳化液劑。
[0012]優(yōu)選地,所述除碳化液劑為酒精。
[0013]優(yōu)選地,所述除碳裝置包括一級(jí)除碳裝置和二級(jí)除碳裝置。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果為:一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:工控機(jī),激光器、振鏡系統(tǒng)、長焦距場(chǎng)鏡、定位CCD、輸送裝置和除碳裝置,其中,所述激光器、振鏡系統(tǒng)、定位CCD、輸送裝置及除碳裝置皆與所述工控機(jī)連接,所述輸送裝置上設(shè)置有用于放置待加工PI覆蓋膜的平臺(tái),當(dāng)PI覆蓋膜被加工時(shí),所述平臺(tái)由輸送裝置從長焦距場(chǎng)鏡加工位驅(qū)動(dòng)至除碳裝置加工位,其中,所述輸送裝置包括出卷輥和收卷輥,所述定位CCD位于所述長焦距場(chǎng)鏡加工位的上方以對(duì)所述長焦距場(chǎng)鏡加工位進(jìn)行監(jiān)測(cè)定位,本實(shí)用新型通過工控機(jī)對(duì)激光器、振鏡系統(tǒng)、定位CCD、輸送裝置及除碳裝置的自動(dòng)控制,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)PI覆蓋膜的大幅面自動(dòng)激光切割,同時(shí)實(shí)現(xiàn)表面自動(dòng)除碳化。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng)的功能示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合圖1并通過【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案。
[0017]圖1是本實(shí)施例提供的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng)的功能示意圖。
[0018]—種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),包括:工控機(jī),激光器、振鏡系統(tǒng)、長焦距場(chǎng)鏡、定位COKCharge-coupled Device,電荷親合元件)、輸送裝置和除碳裝置,其中,所述激光器、振鏡系統(tǒng)、定位CCD、輸送裝置及除碳裝置皆與所述工控機(jī)連接,所述輸送裝置上設(shè)置有用于放置待加工PI覆蓋膜的平臺(tái),當(dāng)PI覆蓋膜被加工時(shí),所述平臺(tái)由輸送裝置從長焦距場(chǎng)鏡加工位驅(qū)動(dòng)至除碳裝置加工位,其中,所述輸送裝置包括出卷輥和收卷輥,所述定位CCD位于所述長焦距場(chǎng)鏡加工位的上方以對(duì)所述長焦距場(chǎng)鏡加工位進(jìn)行監(jiān)測(cè)定位。
[0019]在本實(shí)施例中,通過工控機(jī)對(duì)激光器、振鏡系統(tǒng)、輸送裝置及除碳裝置的自動(dòng)控制,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)PI覆蓋膜的大幅面自動(dòng)激光切割,同時(shí)實(shí)現(xiàn)表面自動(dòng)除碳化。
[0020]在本實(shí)施例中,PI覆蓋膜一般以卷狀形式進(jìn)行放置,本實(shí)用新型采用出卷輥將卷狀PI覆蓋膜進(jìn)行拆分,并依次通過長焦距場(chǎng)鏡加工位和至除碳裝置加工位進(jìn)行切割和除塵,最后由收卷輥將加工后的PI覆蓋膜恢復(fù)為卷狀,本系統(tǒng)針對(duì)PI覆蓋膜的放置方式,采用輥對(duì)輥(Roll to Roll)的輸送裝置,提高了加工效率,整個(gè)系統(tǒng)采用單工控機(jī)形式,實(shí)現(xiàn)對(duì)激光器、振鏡系統(tǒng)、輸送裝置和除碳裝置的聯(lián)動(dòng)控制,切割幅面最大可達(dá)300 mm *300mm,切割效率達(dá)到400mm/s。
[0021 ] 在本實(shí)施例中,所述定位CXD包括:第一定位CXD和第二定位(XD,第一定位CXD和第二定位CCD皆設(shè)置于長焦距場(chǎng)鏡加工位的邊緣處的正上方,本系統(tǒng)采用兩個(gè)定位CCD的方式可以有效防止PI覆蓋膜在經(jīng)過長焦距場(chǎng)鏡加工位時(shí)跑偏。
[0022]在本實(shí)施例中,還包括用于調(diào)整光束的光束調(diào)整裝置,所述光束調(diào)整裝置設(shè)置于激光器與振鏡系統(tǒng)之間。
[0023]在本實(shí)施例中,所述光束調(diào)整裝置包括:激光擴(kuò)束鏡、衰減器和光闌。
[0024]在本實(shí)施例中,所述振鏡系統(tǒng)為X-Y方向振動(dòng)掃描系統(tǒng)。
[0025]在本實(shí)施例中,當(dāng)所述平臺(tái)位于長焦距場(chǎng)鏡加工位時(shí),所述工控機(jī)控制振鏡系統(tǒng)按照預(yù)設(shè)的切割圖案和紋理對(duì)所述PI覆蓋膜進(jìn)行切割加工。
[0026]在本實(shí)施例中,所述除碳裝置為輥對(duì)輥除碳裝置,通過滾動(dòng)摩擦和除碳化液劑的作用,去除切PI覆蓋膜割邊緣的碳化粉塵,同時(shí)實(shí)現(xiàn)PI覆蓋膜的自動(dòng)輸送和滾筒的自動(dòng)加取除碳化液劑。除碳裝置包括上輥和下輥,所述下輥由工控機(jī)控制自動(dòng)加裝除碳化液劑。
[0027]在本實(shí)施例中,所述除碳化液劑為酒精。
[0028]在本實(shí)施例中,所述除碳裝置包括一級(jí)除碳裝置和二級(jí)除碳裝置,所述一級(jí)除碳裝置和二級(jí)除碳裝置結(jié)構(gòu)相同,采用兩級(jí)除碳裝置,可以取得更好的除碳效果。
[0029]以上所述僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】,這些描述只是為了解釋本實(shí)用新型的原理,而不能以任何方式解釋為對(duì)本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制?;诖颂幍慕忉專绢I(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動(dòng)即可聯(lián)想到本實(shí)用新型的其它具體實(shí)施方法,這些方式都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,包括:工控機(jī),激光器、振鏡系統(tǒng)、長焦距場(chǎng)鏡、定位CCD、輸送裝置和除碳裝置,其中,所述激光器、振鏡系統(tǒng)、定位CCD、輸送裝置及除碳裝置皆與所述工控機(jī)連接,所述輸送裝置上設(shè)置有用于放置待加工PI覆蓋膜的平臺(tái),當(dāng)PI覆蓋膜被加工時(shí),所述平臺(tái)由輸送裝置從長焦距場(chǎng)鏡加工位驅(qū)動(dòng)至除碳裝置加工位,其中,所述輸送裝置包括出卷輥和收卷輥,所述定位CCD位于所述長焦距場(chǎng)鏡加工位的上方以對(duì)所述長焦距場(chǎng)鏡加工位進(jìn)行監(jiān)測(cè)定位。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,所述定位CXD包括:第一定位CXD和第二定位CXD。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,還包括用于調(diào)整光束的光束調(diào)整裝置,所述光束調(diào)整裝置設(shè)置于激光器與振鏡系統(tǒng)之間。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,所述光束調(diào)整裝置包括:激光擴(kuò)束鏡、衰減器和光闌。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,所述振鏡系統(tǒng)為X-Y方向振動(dòng)掃描系統(tǒng)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,當(dāng)所述平臺(tái)位于長焦距場(chǎng)鏡加工位時(shí),所述工控機(jī)控制振鏡系統(tǒng)按照預(yù)設(shè)的切割圖案和紋理對(duì)所述PI覆蓋膜進(jìn)行切割加工。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,所述除碳裝置為輥對(duì)輥除碳裝置,包括上輥和下輥,所述下輥由工控機(jī)控制自動(dòng)加裝除碳化液劑。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,所述除碳化液劑為酒精。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),其特征在于,所述除碳裝置包括一級(jí)除碳裝置和二級(jí)除碳裝置。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及激光技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種PI覆蓋膜自動(dòng)激光切割除碳系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:工控機(jī),激光器、振鏡系統(tǒng)、長焦距場(chǎng)鏡、定位CCD、輸送裝置和除碳裝置,其中,所述激光器、振鏡系統(tǒng)、定位CCD、輸送裝置及除碳裝置皆與所述工控機(jī)連接,所述輸送裝置上設(shè)置有用于放置待加工PI覆蓋膜的平臺(tái),當(dāng)PI覆蓋膜被加工時(shí),所述平臺(tái)由輸送裝置從長焦距場(chǎng)鏡加工位驅(qū)動(dòng)至除碳裝置加工位,其中,所述輸送裝置包括出卷輥和收卷輥,所述定位CCD用于對(duì)長焦距場(chǎng)鏡加工位進(jìn)行監(jiān)測(cè)定位,本實(shí)用新型通過工控機(jī)對(duì)激光器、振鏡系統(tǒng)、定位CCD、輸送裝置及除碳裝置的自動(dòng)控制,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)PI覆蓋膜的大幅面自動(dòng)激光切割,同時(shí)實(shí)現(xiàn)表面自動(dòng)除碳化。
【IPC分類】B08B3/08, B23K26/04, B23K26/38, B23K26/402, B23K26/70
【公開號(hào)】CN205166184
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520801503
【發(fā)明人】雷志輝, 林思引, 楊煥
【申請(qǐng)人】深圳英諾激光科技有限公司, 常州英諾激光科技有限公司
【公開日】2016年4月20日
【申請(qǐng)日】2015年10月13日
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