本實(shí)用新型涉及材料材料表面雕刻領(lǐng)域，特別涉及一種激光內(nèi)雕機(jī)。

背景技術(shù)：

激光內(nèi)雕機(jī)是一種將光的干涉現(xiàn)象應(yīng)用于材料表面雕刻的設(shè)備，將兩束激光從不同的角度射入透明物體（如玻璃、水晶等），準(zhǔn)確地交匯在一個(gè)點(diǎn)上。由于兩束激光在交點(diǎn)上發(fā)生干涉和抵消，其能量由光能轉(zhuǎn)換為內(nèi)能，放出大量熱量，將該點(diǎn)融化形成微小的空洞。由機(jī)器準(zhǔn)確地控制兩束激光在不同位置上交匯，制造出大量微小的空洞，但是在激光熔化材料的表面后，材料的表面會(huì)殘有金屬粉塵。

現(xiàn)有技術(shù)中，為了解決上述灰塵的問(wèn)題，公告號(hào)為“CN 204954167 U”的實(shí)用新型專利公開(kāi)了一種激光鐳射機(jī)，其在鐳射機(jī)的空腔外連通有風(fēng)扇，通過(guò)風(fēng)扇將鐳射機(jī)產(chǎn)生的灰塵吸除，這是一種對(duì)箱體內(nèi)灰塵吸除的常見(jiàn)方式，但是在實(shí)際吸除的過(guò)程中，灰塵必定經(jīng)過(guò)整個(gè)空腔，雖然風(fēng)扇能夠吸除一定量的灰塵，但是整個(gè)空腔內(nèi)都會(huì)充滿懸浮狀態(tài)的灰塵，而激光的傳輸需要經(jīng)過(guò)空氣，如果空氣內(nèi)的灰塵過(guò)多，將會(huì)影響增大激光在空氣內(nèi)的反射量和折射量，從而影響激光雕刻的精度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是提供一種雕刻精度高的激光內(nèi)雕機(jī)。

本實(shí)用新型的上述技術(shù)目的是通過(guò)以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的：一種激光內(nèi)雕機(jī)，包括機(jī)殼、雕刻腔和雕刻臺(tái)，所述雕刻腔設(shè)置在機(jī)殼內(nèi)，所述雕刻臺(tái)設(shè)置在雕刻腔內(nèi)，所述雕刻腔內(nèi)設(shè)置有吸塵管路，所述吸塵管路包括吸風(fēng)孔和出風(fēng)孔，所述吸風(fēng)孔朝向雕刻臺(tái)設(shè)置，所述吸風(fēng)孔上設(shè)置有吸風(fēng)裝置，所述出風(fēng)孔與機(jī)殼外部連通。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，吸塵管路設(shè)置在雕刻腔內(nèi)，大大減少了吸風(fēng)孔與雕刻臺(tái)之間的距離，通過(guò)這種設(shè)置方式，減少了雕刻臺(tái)上的灰塵經(jīng)過(guò)空氣的距離，即灰塵飄散在空氣中的可能想減少，避免空氣中的灰塵分布量增多；同時(shí)吸風(fēng)裝置設(shè)置在吸風(fēng)孔位置，避免機(jī)殼外的氣體從吸塵管路上的孔隙中進(jìn)入吸塵管路內(nèi)，同時(shí)在雕刻腔內(nèi)，即使出現(xiàn)安裝誤差，吸風(fēng)裝置的吸力依然能夠全部用于吸除雕刻臺(tái)上的灰塵，避免效率激光內(nèi)雕機(jī)中的灰塵飄散，避免灰塵影響激光的正常工作。

作為優(yōu)選，所述出風(fēng)孔上設(shè)置有排風(fēng)裝置。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，因?yàn)闄C(jī)殼的尺寸可能較大，所以吸塵管路的大小會(huì)更長(zhǎng)，出風(fēng)孔上設(shè)置有排風(fēng)裝置，避免了吸風(fēng)裝置吸出的氣體在吸塵管路內(nèi)產(chǎn)生困氣的問(wèn)題，通過(guò)設(shè)置有排風(fēng)裝置，能夠加速吸塵管路內(nèi)的空氣的流通，使得灰塵能夠更好的從雕刻腔內(nèi)排出。

作為優(yōu)選，所述雕刻腔內(nèi)設(shè)置有支撐吸塵管路的支撐裝置，所述支撐裝置設(shè)置在吸風(fēng)孔下方。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，支撐裝置起到了支撐吸塵管路的作用，同時(shí)支撐裝置的高度也起到調(diào)整吸風(fēng)孔高度的作用，在不同的雕刻環(huán)境下，殼體通過(guò)調(diào)整支撐裝置的高度來(lái)調(diào)整吸風(fēng)孔的高度，加強(qiáng)了對(duì)灰塵的吸除效果。

作為優(yōu)選，所述支撐裝置上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)吸風(fēng)孔向雕刻臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，支撐裝置是設(shè)置在雕刻腔內(nèi)的，即使通過(guò)調(diào)整支撐裝置的高度，吸風(fēng)孔仍然與雕刻臺(tái)之間具有一定的距離，轉(zhuǎn)動(dòng)裝置可以使吸風(fēng)孔與雕刻臺(tái)之間的距離進(jìn)一步改變，使吸風(fēng)孔與雕刻臺(tái)之間的距離進(jìn)一步靠近，提高吸風(fēng)孔對(duì)灰塵的吸除效果。

作為優(yōu)選，所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)吸風(fēng)孔罩設(shè)住雕刻臺(tái)。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，在激光內(nèi)雕機(jī)使用完后，仍然會(huì)有一定的灰塵殘留在雕刻臺(tái)上，影響激光內(nèi)雕機(jī)的后續(xù)加工，通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)裝置將吸風(fēng)孔罩設(shè)柱雕刻臺(tái)，從而吸風(fēng)孔可以將吸力全部作用在雕刻臺(tái)上，將雕刻臺(tái)上殘留的灰塵全部吸除。

作為優(yōu)選，所述吸風(fēng)孔距離雕刻臺(tái)的直線距離為0-10cm。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)裝置將吸風(fēng)孔罩設(shè)在雕刻臺(tái)上后，吸風(fēng)孔與雕刻臺(tái)之間的距離為0cm，同時(shí)當(dāng)吸風(fēng)孔豎直設(shè)置雕刻臺(tái)的側(cè)面時(shí)，吸風(fēng)孔與雕刻臺(tái)之間的距離為10cm，該距離即是在激光內(nèi)雕機(jī)工作時(shí)，能夠正常吸除雕刻時(shí)產(chǎn)生的灰塵的較佳距離。

作為優(yōu)選，所述支撐裝置包括固定板，所述固定板與雕刻腔的側(cè)壁鉸接。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，固定板與吸塵管路連接，固定板的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，簡(jiǎn)化了加工和設(shè)置的成本，同時(shí)固定板是鉸接設(shè)置在雕刻腔內(nèi)的，故固定板能夠很好地與轉(zhuǎn)動(dòng)裝置相配合，使得轉(zhuǎn)動(dòng)裝置控制固定板和固定板上的吸風(fēng)孔的位置。

作為優(yōu)選，所述支撐裝置上設(shè)置有可彎曲的吹風(fēng)管，所述吹風(fēng)管的一端繞過(guò)雕刻臺(tái)朝向雕刻臺(tái)設(shè)置，所述吹風(fēng)管的另一端與吸塵管路連通。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，通過(guò)設(shè)置有可彎曲的吹風(fēng)管，吹風(fēng)管的朝向可以通過(guò)彎曲吹風(fēng)管進(jìn)行調(diào)整，即吹風(fēng)管在雕刻過(guò)程中，能夠?qū)⒐ぜ蛘叩窨膛_(tái)上的灰塵向吸風(fēng)孔位置吹動(dòng)，進(jìn)一步地提高吸塵效果。

作為優(yōu)選，所述吸塵管路的內(nèi)壁上設(shè)置有納米負(fù)離子層。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，納米負(fù)離子層能夠在吸塵管路內(nèi)產(chǎn)生負(fù)離子，從而與吸塵管路內(nèi)的灰塵結(jié)合，灰塵一般呈正電狀態(tài)，通過(guò)與負(fù)離子的結(jié)合，使得灰塵呈正電狀態(tài)，從而被吸塵管路排出。

綜上所述，本實(shí)用新型具有以下有益效果：

1、吸塵管路設(shè)置在雕刻腔內(nèi)，大大減少了吸風(fēng)孔與雕刻臺(tái)之間的距離，通過(guò)這種設(shè)置方式，減少了雕刻臺(tái)上的灰塵經(jīng)過(guò)空氣的距離，即灰塵飄散在空氣中的可能想減少，避免空氣中的灰塵分布量增多；

2、吸風(fēng)裝置設(shè)置在吸風(fēng)孔位置，避免機(jī)殼外的氣體從吸塵管路上的孔隙中進(jìn)入吸塵管路內(nèi)，同時(shí)在雕刻腔內(nèi)，即使出現(xiàn)安裝誤差，吸風(fēng)裝置的吸力依然能夠全部用于吸除雕刻臺(tái)上的灰塵，避免效率激光內(nèi)雕機(jī)中的灰塵飄散，避免灰塵影響激光的正常工作。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖2是圖1所示A部放大示意圖；

圖3是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖二；

圖4是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖三；

圖5是本實(shí)用新型的吸塵管路的剖面示意圖。

圖中，1、機(jī)殼；2、雕刻腔；3、雕刻臺(tái)；4、吸塵管路；41、吸風(fēng)孔；42、出風(fēng)孔；43、吸風(fēng)裝置；5、排風(fēng)裝置；6、支撐裝置；61、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置；62、固定板；63、吹風(fēng)管；64、納米負(fù)離子層。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。

本具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的解釋，其并不是對(duì)本實(shí)用新型的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說(shuō)明書(shū)后可以根據(jù)需要對(duì)本實(shí)施例做出沒(méi)有創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的修改，但只要在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護(hù)。

如圖1所示，一種激光內(nèi)雕機(jī)，包括機(jī)殼1，機(jī)殼1內(nèi)設(shè)置有雕刻腔2，雕刻腔2內(nèi)設(shè)置有用于夾持或者供工件放置的雕刻臺(tái)3，雕刻臺(tái)3上設(shè)置有用于雕刻的激光發(fā)生器；

如圖1所示，在機(jī)殼1上設(shè)置有連通至雕刻腔2內(nèi)的吸塵管路4，吸塵管路4為鋁制的波紋管，為了防止氣體泄露，在波紋管與機(jī)殼1連通的位置設(shè)置有密封圈，如圖5所示，在波紋管的內(nèi)壁上設(shè)置有納米負(fù)離子層64，納米負(fù)離子層64采用申請(qǐng)?zhí)枮椤?01110374894.7”的發(fā)明專利中公開(kāi)的負(fù)離子涂料涂覆而成。

如圖1和圖3所示，波紋管具有兩個(gè)開(kāi)口，即吸風(fēng)孔41和出風(fēng)孔42，吸風(fēng)孔41設(shè)置在雕刻腔2內(nèi)靠近雕刻臺(tái)3的位置，為了減少吸塵管路4的長(zhǎng)度，吸塵管路4是橫向設(shè)置在雕刻腔2內(nèi)的，出風(fēng)孔42設(shè)置在機(jī)殼1的外部，吸風(fēng)孔41上設(shè)置有吸風(fēng)裝置43，吸風(fēng)裝置43為風(fēng)扇，風(fēng)扇設(shè)置在吸風(fēng)孔41的位置，風(fēng)扇屬于現(xiàn)有技術(shù)，在此不做贅述；同時(shí)在出風(fēng)孔42的位置設(shè)置有排風(fēng)裝置5，排風(fēng)裝置5也為風(fēng)扇，起到了加速或者保證吸塵管路4內(nèi)的空氣流速的作用。

如圖2所示，在雕刻腔2的底部鉸接有固定板62，雕刻臺(tái)3也設(shè)置在該底部上，固定板62是支撐吸塵管路4的支撐裝置6的一部分，固定板62設(shè)置在吸風(fēng)孔41的下方，固定板62通過(guò)粘接或者螺栓與吸塵管路4連接，同時(shí)在固定板62的鉸接位置設(shè)置有驅(qū)動(dòng)固定板62轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置61，轉(zhuǎn)動(dòng)裝置61為電機(jī)，電機(jī)的主軸與固定板62的鉸接位置的鉸接桿連接，從而在電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，使得固定板62發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使得吸風(fēng)孔41位置向雕刻臺(tái)3發(fā)生旋轉(zhuǎn)，或者使吸風(fēng)孔41遠(yuǎn)離雕刻臺(tái)3旋轉(zhuǎn)。

兩種旋轉(zhuǎn)使得吸風(fēng)孔41與雕刻臺(tái)3之間的距離發(fā)生改變，吸風(fēng)孔41距離雕刻臺(tái)3的直線距離的范圍為0-10cm。

如圖2所示，支撐板上設(shè)置有可彎曲的吹風(fēng)管63，吹風(fēng)管63為橡膠管在彎曲后能夠保持彎曲后的形狀，吹風(fēng)管63的一端繞過(guò)雕刻臺(tái)3朝向雕刻臺(tái)3設(shè)置，吹風(fēng)管63的另一端與吸塵管路4連通。

實(shí)施例的工作原理為，如圖2和圖4所示，在內(nèi)雕機(jī)工作時(shí)，通過(guò)電機(jī)調(diào)整固定板62的角度，使得吸風(fēng)孔41靠近雕刻臺(tái)3，然后將固定板62上的吹風(fēng)管63從另一方向繞過(guò)雕刻臺(tái)3，同時(shí)吹風(fēng)管63的開(kāi)口朝向雕刻臺(tái)3設(shè)置，在吹風(fēng)管63對(duì)雕刻臺(tái)3吹風(fēng)時(shí)，風(fēng)將灰塵吹至吸風(fēng)孔41位置，吸風(fēng)孔41工作，將雕刻臺(tái)3上的灰塵吸入吸塵管路4內(nèi)，吸塵管路4內(nèi)的納米負(fù)離子層64起到了使空氣中的灰塵沉降的作用，使得灰塵最終排出機(jī)殼1外。