一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，包括支架（1）、滑塊（3）和永磁環(huán)（2），所述的支架（1）呈內(nèi)部中空的長(zhǎng)方體形，其內(nèi)部底面上與其長(zhǎng)邊平行布置有滑塊（3），該滑塊（3）上并排布置有一對(duì)通孔朝上布置的永磁環(huán)（2）。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，利用磁場(chǎng)的磁力將納米磁性切削冷卻液引導(dǎo)到切削部位，促進(jìn)刀尖部位的冷卻潤(rùn)滑效果，減少刀具磨損，提高金屬的加工效率與加工質(zhì)量。
【專利說(shuō)明】一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及金屬切割領(lǐng)域，特別是涉及一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]目前，在高速切削鈦合金、鎳基合金時(shí)，常采用的冷卻/潤(rùn)滑方式有水基、氮?dú)饨橘|(zhì)、空氣油霧介質(zhì)、氮?dú)庥挽F介質(zhì)、低溫氮?dú)馍淞?、微量?rùn)滑、過(guò)熱水蒸氣等。在高切削溫度產(chǎn)生蒸汽的阻擋下，切削冷卻液往往不能到達(dá)刀尖部位，對(duì)刀具磨損的抑制作用不能有效發(fā)揮，使傳統(tǒng)的冷卻潤(rùn)滑方法往往并不能取得預(yù)期的效果。同時(shí)斷續(xù)切削中切削液的施加加劇了刀具的熱沖擊，反而對(duì)刀具壽命有負(fù)面影響。因此冷卻介質(zhì)的冷卻性能并非越強(qiáng)越好，只需要將切削區(qū)域的溫度控制在一定的范圍內(nèi)即可，同時(shí)冷卻潤(rùn)滑介質(zhì)要有較好的潤(rùn)滑性能，使切屑易于流出，減少摩擦，從而降低加工區(qū)域的溫度。
[0003]特別是鈦合金的切割過(guò)程中冷卻潤(rùn)滑顯得尤為重要，鈦合金被稱為金屬材料中的大力神(Titan)，具有高比強(qiáng)度、耐高溫、抗腐蝕等一系列優(yōu)點(diǎn)，用于制造飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)和機(jī)體，能夠有效地提高發(fā)動(dòng)機(jī)推重比和機(jī)體機(jī)構(gòu)效率，有利于緩解熱障現(xiàn)象。因此，在航空制造業(yè)中有著大量和廣泛的應(yīng)用，被譽(yù)為一種使人類走向空間時(shí)代的戰(zhàn)略性金屬材料。然而，鈦合金也具有導(dǎo)熱系數(shù)小、彈性模量低等特點(diǎn)，屬于典型的難加工材料，如何在鈦合金的切割過(guò)程中將納米磁性切削冷卻液引流到切削部位，對(duì)提高鈦合金的加工效率與加工質(zhì)量具有重要意義。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，利用磁場(chǎng)的磁力將納米磁性切削冷卻液引導(dǎo)到切削部位，促進(jìn)刀尖部位的冷卻潤(rùn)滑效果，減少刀具磨損，提高金屬的加工效率與加工質(zhì)量。
[0005]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:提供一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，包括支架、滑塊和永磁環(huán)，所述的支架呈內(nèi)部中空的長(zhǎng)方體形，其內(nèi)部底面上與其長(zhǎng)邊平行布置有滑塊，該滑塊上并排布置有一對(duì)通孔朝上布置的永磁環(huán)。
[0006]所述的滑塊的下端面與支架的內(nèi)底面均為光滑面。
[0007]所述的永磁環(huán)的下端嵌入到滑塊的下端面中。
[0008]所述的支架的下端面居中沿著長(zhǎng)邊開(kāi)有燕尾滑槽。
[0009]進(jìn)一步的，將需要加工的零件置于本裝置上方并進(jìn)行固定，永磁環(huán)的位置與零件的位置相對(duì)應(yīng),本裝置中軸向磁化的兩個(gè)永磁環(huán)所產(chǎn)生的軸向梯度磁場(chǎng)可弓I流納米磁性微粒到達(dá)切削部位，從而改善切削部位的冷卻、潤(rùn)滑效果。
[0010]進(jìn)一步的，納米磁性微粒的切削冷卻液中添加了 Fe3O4或其它磁性微粒，使切削冷卻液可以受到永磁環(huán)的磁場(chǎng)的作用，實(shí)現(xiàn)對(duì)切削冷卻液的導(dǎo)向，同理也可以加入可以被磁場(chǎng)作用的金屬元素來(lái)增加切削冷卻液的導(dǎo)向性。
[0011]有益.效果[0012]本實(shí)用新型涉及一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，利用磁場(chǎng)的磁力將納米磁性切削冷卻液引導(dǎo)到切削部位以達(dá)到良好的加工效果，提高金屬的加工效率與加工質(zhì)量，裝置使用靈活，適用于各種零件的切割加工，應(yīng)用廣泛。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型的主視半剖的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2是本實(shí)用新型的側(cè)視半剖的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3是本實(shí)用新型的永磁環(huán)的梯度磁場(chǎng)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。應(yīng)理解，這些實(shí)施例僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本實(shí)用新型講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型作各種改動(dòng)或修改，這些等價(jià)形式同樣落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求書(shū)所限定的范圍。
[0017]如圖1-3所示，本實(shí)用新型的實(shí)施方式涉及一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，包括支架1、滑塊3和永磁環(huán)2，所述的支架I呈內(nèi)部中空的長(zhǎng)方體形，其內(nèi)部底面上與其長(zhǎng)邊平行布置有滑塊3，該滑塊3上并排布置有一對(duì)通孔朝上布置的永磁環(huán)2。
[0018]所述的滑塊3的下端面與支架I的內(nèi)底面均為光滑面。
[0019]所述的永磁環(huán)2的下端嵌入到滑塊3的下端面中。
[0020]所述的支架I的下端面居中沿著長(zhǎng)邊開(kāi)有燕尾滑槽4。
[0021]將需要加工的零件置于支架I上方并進(jìn)行固定，永磁環(huán)2的位置與零件的位置相對(duì)應(yīng)，滑塊3可以將永磁環(huán)移動(dòng)到對(duì)應(yīng)的位置，本裝置中軸向磁化的兩個(gè)永磁環(huán)2所產(chǎn)生的軸向梯度磁場(chǎng)可引流納米磁性微粒到達(dá)切削部位，從而改善切削部位的冷卻、潤(rùn)滑效果。
[0022]納米磁性微粒的切削冷卻液中添加了 Fe3O4或其它磁性微粒，使切削冷卻液可以受到永磁環(huán)的磁場(chǎng)的作用，實(shí)現(xiàn)對(duì)切削冷卻液的導(dǎo)向。
【權(quán)利要求】
1.一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，包括支架(I)、滑塊(3)和永磁環(huán)(2)，其特征在于，所述的支架(I)呈內(nèi)部中空的長(zhǎng)方體形，其內(nèi)部底面上與其長(zhǎng)邊平行布置有滑塊(3)，該滑塊(3 )上并排布置有一對(duì)通孔朝上布置的永磁環(huán)(2 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，其特征在于:所述的滑塊(3)的下端面與支架(I)的內(nèi)底面均為光滑面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，其特征在于:所述的永磁環(huán)(2)的下端嵌入到滑塊(3)的下端面中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米磁性切削冷卻液導(dǎo)向裝置，其特征在于:所述的支架(I)的下端面居中沿著長(zhǎng)邊開(kāi)有燕尾滑槽(4)。
【文檔編號(hào)】B23Q11/10GK203738493SQ201420095843
【公開(kāi)日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2014年3月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月4日
【發(fā)明者】王靈玲, 王正才, 陳宇曉 申請(qǐng)人:寧波職業(yè)技術(shù)學(xué)院